Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Петрянов-соколов И.В. "Научно популярный журнал химия и жизнь выпуск 2" (Журналы)

Петрянов-соколов И.В. "Научно популярный журнал химия и жизнь выпуск 1" (Журналы)

Петрянов-соколов И.В. "Научно популярный журнал химия и жизнь выпуск 12" (Журналы)

Петрянов-соколов И.В. "Научно популярный журнал химия и жизнь выпуск 11" (Журналы)

Петрянов-соколов И.В. "Научно популярный журнал химия и жизнь выпуск 10" (Журналы)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Металлургия -> Коротеев А.С. -> "Плазмотроны: конструкции, характеристики, расчёт" -> 48

Плазмотроны: конструкции, характеристики, расчёт - Коротеев А.С.

Коротеев А.С. Плазмотроны: конструкции, характеристики, расчёт — М.: Машиностроение, 1993. — 296 c.
ISBN 5-217-01342-7
Скачать (прямая ссылка): plazmatorikonstrukciiharakteristi1993.djvu
Предыдущая << 1 .. 42 43 44 45 46 47 < 48 > 49 50 51 52 53 54 .. 99 >> Следующая

<
< > о о
Рис. 4.23. Экспериментальная за* висимость среднемассовой температуры от индукции магнитного поля:

О - / * 6000 А; А - / * 7000 А;

G * const, d * const кр

О Ц25 О,SO 0,7S 1,00 В, Tfi

Рис. 24. Экспериментальная зависимость термического КПД от индукции магнитного поля при / *

* 5000 А, С - 0,24 кг/с, d -

кр

const

На рис. 4.23, 4.24 для сравнения с теоретически предполагаемой кривой h(B) приведены экспериментальные зависимости Т(В) и 17(B), хорошо подтверждающие справедливость изложенных выше соображений по поводу выбора оптимальных режимов плазмотрона.

На рис. 4.25, 4.26 представлены зависимости выходной температуры от силы тока в разряде для плазмотронов с вихревой стабилизацией разряда и для коаксиальных плазмотронов с магнитной стабилизацией разряда. В обоих случаях вначале с ростом силы тока температура растет, поскольку увеличивается мощность в разряде. Этот

Рис. 4.25. Зависимость выходной температуры от силы тока для плазмотрона с вихревой стабилизацией разряда

0 2 3 * S 6 If к А

Рнс. 4.26. Зависимость выходной температуры от силы тока для коаксиального плазмотрона с магнитной стабилизацией разряда

138
рост замедляется в области больших температур, так как начинают сказываться большие потери в стенку. Однако увеличение температуры с ростом силы тока в плазмотронах с магнитной стабилизацией разряда меньше, чем в плазмотронах с вихревой стабилизацией разряда. Причина этого состоит в увеличении суммарной скорости газа, текущего вдоль стенок, и, как следствие, в увеличении тепловых потерь от нагретого газа. Скорость же газа растет из-за большой скорости вращения дугового разряда при увеличении силы тока, так как при этом увеличиваются электродинамические силы, действующие на разряд (подробнее см. гл. 8).

Из вышеизложенного следует, что при определенном рабочем теле достижение оптимального режима плазмотрона (близкой к максимальной температуры на выходе и достаточно высокого термического КПД) связано^ с правильным выбором таких параметров, как сила тока разряда, секундный массовый расход рабочего тела и индукция магнитного поля.

4.6. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ДАННЫЕ О СТРУКТУРЕ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОГО ПОТОКА В ВЫХОДНОМ СЕЧЕНИИ ПЛАЗМОТРОНА

Поля температур и скоростей. На выходе из плазмотронов с вихревой стабилизацией дугового разряда распределение температуры (если не приняты специальные меры по выравниванию температурного профиля струи) таково, что центральная область струи, испытавшая непосредственное воздействие дугового разряда, расположенного вблизи оси, имеет более высокую температуру, чем периферийные слои, не прошедшие через дуговой разряд. При этом из-за большей плотности периферийных слоев сравнительно низкотемпературной остается большая часть массового расхода рабочего тела (до 60... 70 %), и это обстоятельство не позволяет получать среднемассовые температуры выше 6000...6500 К. Типичное распределение температуры на выходе из плазмотрона с вихревой стабилизацией дугового разряда приведено на рис. 4.27.

В плазмотронах коаксиальной схемы все рабочее тело проходит через зону горения дугового разряда и по этой причине неравномерность в распределении температуры после плазмотрона должна быть меньше, чем для плазмотронов с вихревой стабилизацией разряда (рис. 4.28). С другой стороны, наличие массивного охлаждаемого

139
-1,0 -ofs о

0,5 x/R

-/ -0,5 0 0,5 x/R

Рис. 4.27. Распределение температуры в выходном сечении плазмотрона с вихревой стабилизацией разряда

Рис. 4.2S. Распределение температуры в выходном сечении коак -скального плазмотрона с - магнит-

ной стабилизацией разряда

центрального электрода может приводить к снижению температуры в центральных областях потока. Температура измерялась газодинами-

ческим способом с помощью специально сконструированной гребенки. Приведенные данные относятся к плазмотрону с прямым выходом рабочего тела.

Проводились также измерения температурного поля для плазмотрона с боковым выходом рабочего тела с целью ликвидации закрутки, получающейся в результате взаимодействия рабочего тела с дуговым разрядом (выполнены С. В. Панькиной).

Измерения температуры по методу относительных интенсивностей

спектральных линий проводились на выходе струи из патрубка камеры раскрутки в 5 мм от среза сопла при давлениях от 0,1 до 1 МПа

(рис. 4.29). Максимальное отличие локального значения температуры за пределами пограничного слоя от' среднемассового значения составляет менее 10 %.

г.к

6000

Z000

¦X—

/

12

Г. ММ

Рис. 4.29. Распределение температуры на выходе из камеры раскрутки

140
Предыдущая << 1 .. 42 43 44 45 46 47 < 48 > 49 50 51 52 53 54 .. 99 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама