|
Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.Светочувствительные полимерные материалыАвтор: Беднарж Б.Другие авторы: Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Издательство: Л.: Химия Год издания: 1985 Страницы: 296 Читать: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 Скачать:  СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЕ ПОЛИМЕРНЫЕ МАТЕРИАЛЫ Под редакцией проф. А. В. ЕЛЬЦОВА ЛЕНИНГРАД «ХИМИЯ» ЛЕНИНГРАДСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ 1985 УДК 541.147:771.68 Б. Беднарж, А. В. Ельцов, Я. Заховал, Я. Краличек, Т. А. Юрре Светочувствительные полимерные материалы/ Под ред. А. В. Ельцова.— Совместное издание СССР и ЧССР.— Л.: Химия, 1985 — 296 с. ил. Монография подготовлена учеными СССР н ЧССР. Описаны принципы создания светочувствительных полимерных материалов (фото-, электроно- и рентгенорезистов). Приведены их технические свойства и определены области применения в качестве светокопировальных слоев, в производстве полупроводниковых приборов, печатных плат, полиграфических печатных форм н т. п. Рассмотрены методы синтеза отдельных компонентов и композиций в целом. Предназначена научным и инженерно-техническим работникам химической, полиграфической, радиоэлектронной промышленности, специализирующимся в области органического синтеза, теоретической и прикладной фотохимии и занятым созданием новых светочувствительных материалов. Библиогр. 588 назв. Ил. 75. Табл. 14. Рецензенты: Докт. техн. наук, проф. В. Я. Починок (Киевский государственный университет им. Т. Г. Шевченко), ст. инженер ЛОЭП «Светлана» Л. 5. Черкасова I ре Редактор А Е. Пинчук Іереплет художника Б. Н. Осенчакова Техн редактор Л. Ю. Щукина Корректор М. 3. Басит ИЗ №1779 Сдано в набор 03.04.85. Подписано в печать 26.09.85. М-34009. Формат бумаги 60x90 1/16. Бумага тип. № 1. Гарнитура литературная. Высокая печать. Усл. печ. л. 18,5. Усл. кр.-отт. 18,5. Уч.-иад. л. 22,.52 Тираж 3200 экз. Зак. 554. Цена 3 р. 70 к. Изд. № 2737 Ордена «Знак Почета» издательство «Химия», Ленинградское отделение. 191186. г. Ленинград, Д-186, Невский пр., 28. Ленинградская типография № 2 головное предприятие ордена Трудового Красного Знамени Ленинградского объединения «Техническая книга» нм. Евгении Соколовой Союзполиграфпрома при Государственном Комитете СССР по делам издательств, полиграфии и книжной торговли. 198052. г. Ленинград. Л-52. Измайловский проспект. 29. 2803080000—220 050(01)-85 33~86 © Издательство «Химия» — СНТЛ, 1985 ОГЛАВЛЕНИЕ Предисловие......................... 6 Введение.......................... 8 Глава I. Физико-химические основы, приемы и процессы литографии ... 15 I. 1. Формирование слоя резиста................. 15 1.2. Предэкспозиционная термообработка.........¦ • . . 21 1.3. Экспонирование...................• • . 23 1.3.1. Некоторые физические пределы оптического экспонирования . . 25 1.3.2. Электронное излучение и электронная литография...... 33 1.3.3. Рентгеновская литография . .............. 39 1.3.4. Ионная литография.................. 43 1.3.5. Смешанная литография................ 44 1.4. Светочувствительность, контрастность, разрешающая способность фоторезистов .........................44 1.5. Проявление.......•-.............. 48 1.5.1. Моделирование экспонировании и проявлении....... . 53 1.6. Постэкспозиционная термообработка............ . 57 1.7. Травление подложки и снятие резиста............. 57 1.8. Адгезия резистов к подложке................ 63 Глава П. Позитивные фоторезисты................ 65 II. 1. Системы, содержащие растворимый в основаниих полимер и создающие рельеф в результате превращений светочувствительной гидрофобной добавки.......................... 66 П. 1.1. Хинондиазидные композиции . .............. 66 П. 1.1.1. Строение, термо- и фотопревращении нафтохиноидиазидов 67 П. 1.1.2. Основные компоненты резистов........... 75 II. 1.1.3. Модификация полимерного компонента резистов . . • . 80 П. 1.1.4. Улучшение свойств резистного слоя......... 84 II. 1.2. Композиции с веществом, генерирующим под действием света кислоту, и с циклическим ацеталем.............. 95 . II. 1.3. Композиции с фотоокислителем и дигидропиридином ..... 96 II. 2. Системы, создающие рельеф в результате превращений полимера . . 98 II. 2.1. Композиции с веществом, генерирующим под действием света кислоту, и с неустойчивым полимером............. 98 II. 2.2. Композиции с полимером, содержащим о-нитробензильные группы 99 II. 2.2.1. Превращения за счет боковых цепей полимеров .... 99 II. 2.2.2. Превращения за счет основных цепей полимеров .... 101 II. 2.2.3. Другие превращения...........¦ ... 103 Глава III. Негативные фоторезисты на основе ониевых солей..... 105 III. 1. Диазосоединения.................... 105 III. 1.1. Низкомолекулярные соли диазония........... Ю5 III. 1.2. Диазосмолы.................... 108 III. 1.2.1. Двухслойные композиции, дающие негативное изображение........................ Ц2 III. 1.2.2. Однослойные композиции, дающие негативное изображение........................ Ц5 III. 1.2.3. Композиции, дающие позитивное изображение . . . .119 III. 2. Ониевые соли как источники кислот Льюиса или Бренстеда .... 123 III. 2.1. Соли диазония................... 123 III. 2.2. Соли мероцианиновых красителей............ 124 III. 2.3. Ониевые соли элементов V, VI, VII групп с комплексными
Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены. |
|
|||||||||||||||||||||||||
|
|
|
||||||||||||||||||||||||||
