Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 100

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 94 95 96 97 98 99 < 100 > 101 102 103 104 105 106 .. 139 >> Следующая

Результаты, полученные с помощью аналитических моделей и метода Монте-Карло, хорошо коррелируют, из чего можно сделать несколько обобщающих заключений.
Рассеяние энергии идет по двум каналам: РМУ и 00. Энергия ОО локализована вблизи оси луча. При прохождении через резист электронный пучок в результате РМУ расширяется, так что на границе резист — подложка экспонируется площадь большая, чем в поверхностном слое резиста. Эта площадь определяется длиной пути электрона в резисте и подложке. Хотя максимальное рассеяние энергии в единице объема из-за 00 гораздо меньше, объемный их вклад сравним. Доля РМУ и 00 в экспозиции резиста зависит от энергии излучения, толщины слоя и атомного номера элемента, входящего в состав вещества подложки. При повышении энергии излучения уменьшается потеря энергии на единицу длины пути, а при увеличении толщины слоя возрастает кумулятивный эффект столкновений электронов РМУ. Площадь, экспонируемая на границе резист — подложка, увеличивается с ростом толщины слоя. Адекватное экспонирование требует, чтобы пробег электронов в полимерном слое превышал его толщину с тем, чтобы обеспечить экспонирование резиста вблизи границы резист — подложка. С возрастанием атомного номера элементов, образующих вещество подложки, увеличивается доля электронов 00 и уменьшается длина пробега электронов в подложке, в результате чего электроны 00 концентрируются вблизи оси луча.
С целью уменьшения эффекта обратного рассеяния электронов и повышения разрешающей способности разработана теоретиче-
220
екая модель коррекции дозы электронно-лучевого экспонирования резиста. Ее применение обеспечивает получение необходимого профиля линии в проявленных резистах независимо от материала подложки [14].
Теперь с помощью моделей проанализируем проявление резиста. При экспонировании позитивных резистов уменьшается их ММ, поэтому участки с разной поглощенной энергией различаются по ММ резиста [15]. Если используемый проявитель растворяет полимер с ММ меньше критической, то проявление профиля резиста протекает в соответствии с профилем поглощения энергии Екрит [Ю]. Такой подход правомерен в случае высоких доз излучения и высокой контрастности, так как только при этом профиль резиста становится независимым от продолжительности проявления. Для ПММА на алюминиевой подложке при дозе 0,3-Ю-8 и 1,0-10-8 Кл/см2 наблюдается хорошая корреля-
Рис. VII. 6. Влияние на профиль края рельефа ПММА расстояние от оси
Пучка электронов; Л — толщина слоя) продолжительности проявления в метилизобу-тилкетоне.
X, МНМ
ция между рассчитанными [10] и найденными экспериментально профилями [16]. Модели, учитывающие скорость проявления, использовали Гатцакис [17] и Гринейх [15]. Гринейх использует эмпирически установленное уравнение для скорости растворения резиста 7? в экспонированных участках:
(VII. 21)
где /?о. 6 и а — константы для данного растворителя; —ММ в данном участке резиста после экспонирования.
Типичная картина зависимости профиля края рельефа ПММА от продолжительности проявления изображена на рис. VII. 6.
Моделирование процесса проявления негативного резиста более сложно, так как наряду с проявлением протекает экстракция растворимых веществ с экспонированных участков, набухание последних и усадка после сушки. Несмотря на это, и здесь приближенные модели дают хорошее согласие с экспериментом [13], особенно для дозы, условно локализованной в основном в пределах оси экспозиционного пучка излучения и ширины линий элементов рельефа больше 0,4 мкм.
Теоретические соотношения, характеризующие форму профиля элементов рельефа после проявления, позволяют правильно выбрать параметры обработки и дают возможность алгоритмизировать эффект близости, что важно при экспонировании через шаблон, имеющий геометрически сложные элементы [18].
?21
VII. 2. СТРУКТУРИРОВАНИЕ И ДЕСТРУКЦИЯ ПОЛИМЕРОВ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ИОНИЗИРУЮЩЕГО ИЗЛУЧЕНИЯ
При облучении полимерных материалов идет одновременно деструкция, циклизация, структурирование (трехмерная полимеризация, сшивание), а также соединение концов полимерных цепей.
Сшивание является межмолекулярной реакцией в объеме полимера, поскольку возникают химические связи между звеньями разных полимерных цепей; образование химической связи между звеньями одной и той же полимерной цепи называют циклизацией. К деструкции относят процессы, при которых разрушаются химические связи. Возникающие при деструкции фрагменты с «активным» центром в концевом звене могут рекомбиннровать с образованием новой полимерной цепи; это называется endunklng — соединением концов макромолекул и отличается от трехмерного сшивания. Эти процессы, кроме циклизации, вызывают изменение в ММР полимеров.
Первую теорию, описывающую сшивание монодисперсных макромолекул без учета циклизации, разработал Флори. Шток-майер вывел подобную теорию для любого начального ММР. Оба автора так же, как и Чарлзби, описывают изменения, вызванные сшиванием, только до точки гелеобразования. Позже Чарлзби расширил свою теорию для случая деструкции и соединения концов полимерных молекул без учета, однако, циклизации.
Предыдущая << 1 .. 94 95 96 97 98 99 < 100 > 101 102 103 104 105 106 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама