Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 102

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 96 97 98 99 100 101 < 102 > 103 104 105 106 107 108 .. 139 >> Следующая

Деструктирующие полимеры Структурирующиеся
полимеры
Поливииилиденхлорид 60,0 Полиэтиленоксид §4,3
Полиметакрилонитрил 56,5 Полиэтилен 94,2
Полиметакриламид 56,0 Полипропилен 94,2
Полиметилметакрилат 54,4 Поливинилхлорид 91,0
Полиизобутилен 53,6 Поливииилацетат 89,2
Политетрафторэтилен 37,8 Полиакриламид 81,5
Поли-а-метилстирол 35,2 Полиметилакриддт 78,3
Полихлортрифторэтилен — Натуральный каучук 75,0
Полиметилизопропенилке- — Полиакрилонитрил 74,5
той Полиакролеин 74,5
Целлюлоза — Поливиниловый спирт 64,5
Полиолефинсульфоиы — Полистирол 69,9
Полихлоропрен 68,0
Поливинилпирроли- —
дон
224
Чувствительность полимеров к ионизирующему излучению зависит от ряда факторов, причем некоторые из них показывают, какой из процессов преобладает. Химический состав является основным параметром, который, как будет показано в дальнейшем, может в значительной степени определять не только чувствительность к ионизирующему излучению, но и соотношение процессов структурирования и деструкции в полимерах после облучения.
Миг
Содержание стирала, %{мап) стирола, % (мол.)
Рис. VII. 7. Зависимость О (X) от содержания стирола в сополимерах бутадиена со стиролом и смеси гомополимеров:
О — сополимеры; • — смеси гомополимеров.
Рис. VII. 8. Рассчитанные зависимости чувствительности о' сополимеров хлорметилстирола с 8-винилиафталином от состава сополимера и ММ при различной экспозиционной дозе.
Изменением химического состава можно перевести структурирующийся полимер в деструктирующий. Влияние химического состава хорошо видно на сополимерах, соответствующие которым гомо-полимеры значительно различаются по свойствам.
Вит [24] исследовал влияние на активность при структурировании состава сополимеров бутадиена (Бт) со стиролом (Ст). Понижение активности при структурировании у сополимеров было больше, чем вычисленное по аддитивной схеме из данных по активности сшивания гомополимеров (G(X)nT — 3,6, G(X)ct — 0,05) с Учетом мольного состава сополимеров (рис. VII. 7). Несовпадение Д^я сополимеров автор объясняет внутримолекулярным переносом энергии с бутадиеновых звеньев на стирольные. Далее исследовалось изменение активности сшивания у тройных сополимеров
8 Зак. 554
325
бутадиена, стирола и метилметакрилата, в которых содержание бутадиена оставалось постоянным, а соотношение метилметакрилат : стирол менялось. Зависимость имеет минимум в области соотношения метилметакрилат : стирол = 0,51, однако активность при структурировании сополимера бутадиена и метилметакрилата
б
І0
—І, I_І. I—J
60 roo и 20 во то
Содержание а-хлоракрилонитрила, %(мол)
Рис. VII. 9. Зависимость О (X) (а) и О [S) (б) от состава сополимера с ЛША.
-хлоракрилонитрила
(40 %) в 2 раза больше, чем у сополимера бутадиен-стирол (40 %). В работе не приведена микроструктура бутадиеновых звеньев, которая могла бы, как будет отмечено ниже, значительно повлиять
на конечные значения активности при структурировании.
Для оценки влияния состава на чувствительность структури-
Рис. VII. 10. Влияние микроструктуры полимерных цепей на структурирование сополимеров бутадиена со стиролом: 1 — FR-S1500; 2 — Stereon 750; ?>г/?> — отношение дозы ионизирующего излучения до точки гелеобразования к экспериментальной дозе; ш3— массовая доля золя в облученном полимере.
0,4 0,6 Dv/D'
рующихся сополимеров Танигаки с сотрудниками [25] вывел выражение:
1 X (А) , І —X (А)
DlT (АВ) М„ (АВ) Dr (A) Ai „ (А) + DlT (В) Mw (В)
где Mw—среднечислеиная ММ; X — мольная доля мономеров А и В.
Оно удовлетворительно описывает поведение структурирующихся сополимеров хлорметилстирола с 2-винилнафталином (рис. VII.8).
Путем изменения состава сополимеров а-хлоракрилонитрила с метилметакрилатом можно перейти от преимущественно структурирующегося полимера (поли-а-хлоракрилонитрила) к преимущественно деструктирующему (ПММА) (рис. VII. 9) [26].
Хотя оба процесса протекают одновременно, по отношению %= Q(S)/G(X) можно оценить, преобладает ли структурирование (X < 4) или деструкция (х > 4).
(VII. 29)
226
Влияние микроструктуры на скорость структурирования исследована [27] на сополимерах бутадиен-стирол (рис. VII. 10), имеющих одинаковый химический состав и сравниваемые ММР. Ниже приведены состав и микроструктура сополимеров бутадиена со
ТАБЛИЦА VII. 1. Влияняе микроструктуры полибутадиена на его способность структурироваться [23]
Полимер Содержание звеньев, % і-1 О (X)
1,4-цис l.i-транс 1,2-виниль-ных i-'-l
F, 1,22 34,2 58,3 7,4 1,08 1,55 1,79
F2 1,22 19,6 47,9 32,5 1,13 1,83 2,34)
F3 1,23 14,8 35,7 49,5 1,14 1,85 2,35
F4 1,24 8,2 21,3 70,4 1,22 2,11 2,97
F5 1,17 1,2 11,1 87,7 1,18 2,92 3,99
Philips 170M 1,31 41,1 49,3 9,6 1,04 1,84 1,99
Philips 423M 1,52 45,4 46,7 7,9 1,08 1,46 1,68
стиролом (перед облучением сополимеры были дополнительно очищены) :
Полимер Stereoa 750 FR-S 1500
#./Яя 6,2 7,0
Содержание стирола, % (мол.) 18,5 23,5 Содержание звеньев, %
1,4-цис 34 12
\,А-трано 57 72
Предыдущая << 1 .. 96 97 98 99 100 101 < 102 > 103 104 105 106 107 108 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама