Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 109

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 103 104 105 106 107 108 < 109 > 110 111 112 113 114 115 .. 139 >> Следующая

Другим типом резистов, содержащих атомы кремния в боковых цепях, являются полимерные винилтриалкокси- и винилтриацило-ксисиланы [пат. США 4237208, 4301231; заявка Японии 54—24656]. Для нанесения полимера нз подложку и проявления используется хлороформ. Поливинилтриэтоксисилан с Мш = 1000 -г- 2000 показал чувствительность к электронному излучению (10 кВ), равную Ю-5 Кл/см2.
Патентуются сополимеры, /г-триалкилсилилстирола, триметил-аллилсилана, |3-(триалкилсилокси)этилакрилата и аналогичных соединений с различными ненасыщенными мономерами, например хлорметилстиролом, глицидилметакрилатом, диаллилфталатом; они отличаются высокой стойкостью к сухому травлению [европ. пат. 0096596]. В а. с. СССР 701324 описан гексаметилдивинилсилсес-квиоксан, который в зависимости от экспозиционной дозы и способа проявления может служить позитивным или негативным резистом. Он наносится на подложку вакуумным напылением, образуя слой толщиной порядка 0,1 мкм. После экспозиции дозой 5-10~5 Кл/см2 и проявления кислотой или плазмой (СР4 -\- 02) получается позитивный рельеф, а после экспозиции 10~7 Кл/см2 и проявления нагреванием до 150°С в вакууме — негативный рельеф. Модификация у-меркаптоалкоксисиланов ненасыщенными алкидными смолами дает резист с чувствительностью Ю-5 Кл/см2 [пат. США 3825428].
Коул с сотрудниками [88, пат. США 3703402] использовали как электронорезисты выпускаемые промышленностью сополимеры виниловых эфиров с малеиновым ангидридом, модифицированные этерификацией ненасыщенными спиртами:
СООН 1
Структура сополимеров и их чувствительность при экспонировании пучком электронов (ускоряющее напряжение 9 кВ, толщина слоя 0,5 мкм, подложка Б1 с 0,2 мкм Сг) приведены ниже:
R R, D'-IO», Кл/смг
OC18H37(VZ-100) СН2СН=СН2 4
ОС4Н9 СН2СН=СН2 3
осн3 СН2СН=СН2 1
Н СН2СН=СН2 20
СвН5 СН2СН=СН2 200
ос13н37 СН2СН=СНСН3 100
ОС18Н37 СН2Сг=СН 30
ОС13Н37 СН2СН2ОСН2СН=СН2 3
ОС18Н37 СН2СН2СН3 1000
244
Отмечается очень хорошая чувствительность некоторых резистов этого типа; в патентах, однако, отсутствуют данные о контрастности при структурировании. Хорошая стойкость к кислотным тра-вителям у резиста VL-1C0 достигается при термообработке до 180°С.
Чувствительность полидиаллилортофталатов в качестве негативных резистов колеблется в пределах 5-Ю-7 — 5-Ю-6 Кл/см2 [89]. Ее можно повысить снижением ускоряющего напряжения, что соответствует теоретической зависимости распределения энергии электронного излучения от ускоряющего напряжения. Экспонирование на металлических подложках также подтверждает влияние природы подложки на распределение энергии излучения в резисте. По данным ДТА и ТГА, в интервале 150—170 °С происходит структурирование полимера, разложение начинается при температуре выше 200 °С, а полностью полимер деструктирует при 350 С. На основе этих результатов для предварительной термообработки рекомендован интервал температур 100—130°С, для доотверждения — 170—190 °С, когда протекает дополнительное сшивание. Резисты этого типа были успешно испытаны для создания рельефов с размером элементов 1—3 мкм.
Из функциональных групп, повышающих чувствительность полимеров к ионизирующему излучению, наиболее подходящей является эпоксигруппа [90]. Высокая чувствительность полимеров с эпоксигруппой приписывается цепным реакциям эпоксигрупп:
_ j (VII. 49)
R
Приведенная схема структурирования не была подтверждена экспериментально.
Первыми полимерами этой группы, которые были испытаны в качестве негативных электронорезистов, были ЭПБ [пат. ФРГ 2706878] и ЭПИ [пат. США 3885060], которые могут содержать и атомы брома [пат. США 4279985]. Высокие значения чувствительности (Di я* 2 • 10~9 Кл/см ) растут с понижением ускоряющего напряжения [91]. В предположении цепного механизма структурирования эпоксидных групп в работе [92] приведено следующее выражение для чувствительности резиста (в Кл/см2) в зависимости от степени эпоксидирования ос:
DlT ¦ 106 — 1,1 + 11,8а/(1 - 1,3а) (VII. 50)
Растворы ЭПБ, однако, неустойчивы и требуют введения стабилизаторов (например, 10 % хлорида триметиллауриламмония, Kl, Csl, ЫагСОз и др.). Возможность использования ЭПБ в качестве негативного резиста подробно описал Фейт с сотрудниками
245
[93], значения Dr порядка 10~9 Кл/см2, однако коэффициент контрастности у « 0,5 -f- 0,9, что объясняется параллельно протекающей деструкцией. Не наблюдалось заметного влияния на чувствительность радикального ингибитора (Irganox 1010), радикального инициатора (бензоилпероксид) и акцептора электронов (N-фенилкарбазол) [94].
Работы по изучению ЭПБ показали, что необходимо получать новые типы полимеров с эпоксигруппами, которые имели бы чувствительность, сравнимую с чувствительностью ЭПБ, но больший коэффициент контрастности, и не были бы склонны к самопроизвольному структурированию. Эта задача решена в большинстве случаев при помощи сополимеризации мономера, содержащего эпо-ксигруппу [2,3-эпоксипропилметакрилата (глицидилметакрилата) или 2,3-эпоксипропилакрилата (глицидилакрилата)] с другим подходящим мономером. Одним из первых резистов такого типа был CER (Crosslinking Electron Resist), являющийся тройным сополимером метилметакрилата с этилакрилатом и глицидилмет-акрилатом, частично модифицированным метакриловой кислотой [94]. Чувствительность CER 3-10~7 Кл/см2, рассматриваемая как оптимальная для целей практического использования, приведена в работе [94] без данных по ММ и ММР. Хотя резист и был успешно испытан для изготовления хромовых масок, он до сих пор не нашел широкого применения.
Предыдущая << 1 .. 103 104 105 106 107 108 < 109 > 110 111 112 113 114 115 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама