Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 111

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 105 106 107 108 109 110 < 111 > 112 113 114 115 116 117 .. 139 >> Следующая

і І І II П И
Содержание глицидил- 45,0 63,8 79,0 22,0 43,8 56,6
метакрилата, % (мол.)
4,9 14,1 21,8 5,7 5,0 7,1
RmjMn D\ . Ю-2, Кл/м' 1,7 1,8 1,9 1,6 2,0 1,8
12,0 0,8 0,4 22,0 5,8 1,4
Y 1,4 1,3 0,9 1.1 1,1 0,9
Как видно из этих данных, с ростом содержания акрилового эфира в сополимере возрастает чувствительность резистов и снижается контрастность, причины чего авторы работы [97] видят
848
в цепном характере реакций сшивания за счет эпоксигрупп. В зависимости от состава сополимера глицидилметакрилата со стиролом Тс можно сохранить в интервале 80—95°С, Тс у сополимеров
ТАБЛИЦА VII. 3. Характеристика сополимеров глицидилметакрилата с галогеипроизводиыми стирола, применяемых в качестве электронорезистов
Оомономвр
¦Содержание глицидилметакрилата, % (мол.) мшю-5 Мш/М
73 2,10 2,7
61 2,60 1,9
61 2,68 2,2
58 2,60 2,2
60 2,50 2,0
48 0,76 2,0
53 1,03 1,9
D'r- 1С, Кл/см*
гс, «С
Бромстирол
4-Хлорстирол З-Хлорстирол
2-Хлорстирол Хлорстирол Хлорметилстирол Метилстирол
1,80 (0^) 0,36 0,35
1,70 (О?'7) 0,35 0,88 2,40
1,0
1,1 1,2
1,1 1,1 1,7 1,4
80 78
79 77 80
глицидилакрилата со стиролом на 30—40°С ниже. Чувствительность, удовлетворяющую практическим требованиям, можно, следовательно, получить у сополимеров с содержанием стирола 15— 20% (мол.), но удовлетворительную контрастность и стойкость к
Рис VII. 21. Микрофотографии рельефов, полученных на основе сополимеров глицидилметакрилата с 1-хлорстиролом непосредственно посЛе проявления (а), после обработки плазмой в«з нагревания (<Г) и с доотверждением {в).
плазменному травлению дают только сополимеры с содержанием стирола выше 50 % (мол.). По этой причине такие сополимеры не нашли широкого применения.
Учитывая хорошо известную высокую чувствительность к электронному излучению хлорсодержащих соединений [98]_, сделака попытка получить негативный электронорезист с большой чувствительностью, хорошей контрастностью и стойкостью при плазмен-
249
ном травлении сополимеризацией глицидилметакрилата с галоген-производными стирола [пат. США 4130424, 4262081; европ. пат. 0005551] (табл. VII. 3).
Как видно из данных табл. VII. 3, при близком соотношении компонентов в сополимере, наибольшая чувствительность наблюдается у сополимера с бромпроизводным стирола, однако его контрастность так же, как и стойкость к плазменному травлению, наименьшая. Наиболее подробно изучены литографические свойства сополимера глицидилметакрилата с 3-хлорстиролом. Для улучшения адгезии необходима предварительная термообработка пленки, при которой, однако, всегда происходит структурирование, а структурированный резист нужно после проявления (рис. VII. 21, а) Sf удалять из необлученных
участков плазменным травле-1 1 нием. После обработки плаз-
,_, мой слой резиста приобретает
губчатую структуру, (рис. i-1 VII. 21,6), образования кото-
рой можно избежать лишь до-
и.
Я»
Р/
.=Ь
Рис. VII. 22. Зависимость размеров элемен-^^^^^^^^^^^^^^^^ тов микрорельефа от его толщины для не-
—1-7j2—'-Л« ' пд ' tu гативного электроиорезиста на основе со-
Ч' у>ч i полимера глицидилметакрилата с 3-хлор-
Толщина рельефа, мкм стиролом.
отверждением при температуре около 120°С (рис. VII.21,в). Зависимость разрешающей способности резиста от толщины слоя рельефа после проявления приведена на рис. VII. 22. Разрешающая способность этого резиста выше, чем у СОР, значительно выше и стойкость к плазменному травлению, поэтому сополимер глицидилметакрилата с 3-хлорстиролом пригоден для непосредственного экспонирования на кремниевых подложках.
Сополимеры глицидилметакрилата с хлоралкилированными стиролами (Mw = 105) показывают чувствительность 10~6 Кл/см2 при ускоряющем напряжении 20 кВ. Технология обработки их такая же, как и у резистов на основе сополимера глицидилметакрилата с 3-хлорстиролом [пат. США 4208211].
Гомополимер глицидилметакрилата является одним из самых чувствительных негативных резистов (Д'.МШ = 0,023). Его широкому использованию препятствует низкий коэффициент контрастности (у <^ 1,0), причиной чего является цепной характер сшивания, а термическая стабильность рельефа (7С полимера 78°С) и стойкость к плазменному травлению у резиста удовлетворительные,
Добавки низкомолекулярных эпоксидов, например циклогексил-эпоксида, вводимые в концентрациях от 5 до 30 % в полистирол или полибутадиен, повышают чувствительность в 3 раза [франц. пат. 2250138; пат. США 3916035]. Сополимеры 2,3-эпитиопропил-метакрилата с эфирами акриловой и метакриловой кислоты, например метилметакрилатом, бутилметакрилатом, этилакрилатом,
250
показывают чувствительность 1 • Ю-7—5-10~7 Кл/см2 при ускоряющем напряжении 5—20 кВ [пат. США 4315067]. С использованием этого резиста можно получить хромовую маску с разрешением 1 мкм.
Полистирол при облучении сшивается [27], его чувствительность низка (дШа, = 5,5). но контрастность высока (табл. VII. 4). Гораздо большую чувствительность имеют галогенированные по лимеры [99] (табл. VII. 4). Чувствительность полихлорметилсти-рола зависит от степени хлорметилирования, с ростом которой возрастает и полидисперсность полимера, в результате чего падает контрастность и, следовательно, разрешающая способность.
Предыдущая << 1 .. 105 106 107 108 109 110 < 111 > 112 113 114 115 116 117 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама