Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 113

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 107 108 109 110 111 112 < 113 > 114 115 116 117 118 119 .. 139 >> Следующая

Сополимеризацией стирола с бутадиеном получен резист с чувствительностью 2,5-Ю-5—9,8-Ю-8 Кл/см2 [пат. Франции 2168593]; он отличается стойкостью к нагреванию и к 10 %-ной НТ-\
Хотя акрилатные полимеры ведут себя как позитивные резисты, в пат. США 4252886 описан гомополимер 1-аза-5-акрилоилоксиме-тил-3,7-диоксабицикло [3.3.0] октана, работающий как негативный фото-, электроно- и рентге"о-резист:
Полимер с Мт = 32500 и Мт/Мп = 1,9 показывает чувствительность 6,7-Ю-6 Кл/см2. Нанесение полимерного слоя на подложку проводят из раствора в хлороформе, а проявление после экспонирования — смесью хлороформ — метилциклогексан.
253
Негативными резистами являются полиметакриламид [пат. США 4121936] и сополимеры метакриламида с акролеином, мет-акриловой кислотой, ее нитрилом или эфирами, алкиламидом, бариевыми и свинцовыми солями акриловой кислоты, винилизо-цианатом, стиролом, содержащие до 10 °/о этих сомономеров. Полиметакриламид нерастворим в холодной воде, но растворяется в воде с температурой выше 90 °С, оставаясь в растворе по охлаждении. При нагревании до 180—270 °С выделяется аммиак и образуются имидные группировки. Чувствительность зависит от легкости превращения амида в имид, составляя 2-Ю-7—1 -10—3 Кл/см2 при экспонировании электронным излучением (ускоряющее напряжение 10 кВ) и 0,01—50 Дж/см2 рентгеновским. Проявление осуществляют водой или водными растворами щелочей. Растворимость при проявлении можно повысить предварительным нагревом до 200 °С в течение 15 мин. Сомономер выбирают с учетом улучшения конкретных свойств. Так, акролеин повышает адгезию к подложке, винилизоцианат — чувствительность к электронному излучению, а соли тяжелых металлов акриловой кислоты — чувствительность к рентгеновскому излучению.
Гомополимер фталевого альдегида е А7„ = 4-104 и Мш => = 7,16-104
после экспонирования потоком электронов 5 кВ и проявления в смеси циклогексилацетат—бутилцеллозольв (65:35) показал чувствительность 2,6• 10—6 Кл/см2 и разрешение около 0,6 мкм.
1,2-Этилендикарбоксильная группа, вводимая в боковую цепь, полимера в количестве 1—20 % от массы мономерного звена, повышает чувствительность полимера к электронному излучению [пат. США 4273858, 4349647; заявка Японии 54—24657]. Модифицированный таким образом сополимер бутадиена со стиролом показал чувствительность около Ю-7 Кл/см2 и контрастность 1,38 (27 кВ); при ускоряющем напряжении 10 кВ чувствительность составляет 1,5-Ю-10 Кл/см2, разрешение 0,7 мкм; чувствительность к рентгеновскому излучению 0,03 Дж/см2.
В качестве негативных резистов описаны [107; пат. США 4235958] мономолекулярные и полимолекулярные (лэнгмюровские) слои ненасыщенных жирных кислот, например со-трикозеновой, и их сложных эфиров, обладающие высокой чувствительностью. Мономолекулярный слой, наносимый из водного раствора, показывает разрешение около 0,1 мкм. Микрорельефы устойчивы к сухому травлению [71].
Предложен новый путь создания негативного рельефа, заключающийся в парофазной полимеризации мономера (стирола) На 254
тех участках промежуточного ПММА или силиконовой смолы, которые предварительно облучены потоком электронов. Высокое разрешение при обработке плазмой достигнуто в результате использования между силиконом и диоксидом кремния термолизованного слоя позитивного новолачного резиста AZ-1350J [108].
VII. 3.2.2. Позитивные резисты
В качестве позитивных электронорезистов, помимо фоторезистов, испытывались прежде всего полимеры, действие электронного излучения на которые было изучено ранее. В отличие от негативных резистов в этом случае в первую очередь были выбраны полимеры с высоким значением G(S) и минимальным или нулевым значением G(X). К изученным первым полимерам относятся ПМСТ, ПММА, ПБМА, ПФМА, ПИБ и некоторые другие. Ниже приведены параметры некоторых позитивных электронорези-
O(S) Опор-10"' Кл/см2 Гс °с
1,0 50—100 104
0,7 0,4 19
4,0 20 —73
- 150 ПО
0,3 100 170
стов [76]:
ПММА
ПБМА
ПИБ
ПФМА
ПМСТ
Литографическая чувствительность определяется не только чувствительностью полимера к ионизирующему излучению, но также и относительной скоростью растворения экспонированных участков слоя резиста.
Скорость растворения полимера х зависит прежде всего от его ММ и ММР, поэтому для нахож-
Рис. VII. 24. Зависимость относительной скорости растворения 5^ слоя резиста от экспозиционной дозы.
дения 5 используется эмпирическая зависимость я = КМа (где К и а необходимо определять экспериментально для каждого типа растворителя).
Нормированная скорость растворения экспонированных участков слоя резиста определяется как отношение скоростей растворения облученных и необлученных участков слоя резиста. Разница в значениях Я/? является причиной различия в чувствительности ПММА и ПБМА (рис. VII. 24). Из приведенных выше полимеров наибольшее внимание исследователей было уделено ПММА, несмотря на то что его чувствительность низкая. ПБМА не используется из-за низкой Тс. Та же причина ограничивает использование ПИБ, чувствительность которого значительно выше чувствительности ПММА.
Предыдущая << 1 .. 107 108 109 110 111 112 < 113 > 114 115 116 117 118 119 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама