Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 115

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 109 110 111 112 113 114 < 115 > 116 117 118 119 120 121 .. 139 >> Следующая

Позитивный электроиорезист на основе полидиметакриламида, приготовленный из полиметакриловой кислоты действием аммиака
9 Зак. 554
257
или низших аминов непосредственно на подложке {пат. США
3964908], проявил чувствительность к электронному излучению при 23 кВ порядка 10~5 Кл/см2. Чувствительность полиметакрило-нитрила ниже, чем у ПММА [117].
В последнее время исследователи значительное внимание уделяют полимерам и сополимерам а-замещенных акрилатов [118]. Чувствительность всех полимеров составляет около Ю-5 Кл/см2, исключением является лишь политрифтор-а-хлоракрилат, обозначаемый ЕВИ-Э, который имеет чувствительность 2,5-Ю-6 Кл/см2
ТАБЛИЦА VII. 5. Характеристика полифторалкилметакрилатиых позятявиых
электронорезистов
Обозначение резиста
Эфирная группа
дпор.10е, Кл/см1
РВМ-А
РВМ-В
РВМ-С
РВМ-0
РРМ
ИСРМ
СНаСРаСРНСРз
СН(СНз)СР2СРНСР3
(СН3)2СР2СРНСР3
С(СН3)(С2Н5)СР2СРНСР3
СН2СР2СР2Н
С(СН3)2СР2СР2Н
СНгСРСІСРз
0,4 4,5 50
6,0 5,0 64
1,5 3,0 83
1,0 3 73
1,0 3 75
1,5 4 101
1,5 - 90
и Тс = 133°С, а поэтому весьма подходит для экспонирования на кремниевых подложках. Резист сушат при 200°С и проявляют смесью изопропилового спирта с метилизобутилкетоном (4:6). При этом достигаются разрешение 0,2 мкм и хорошая стойкость при плазменном травлении. Описаны [франц. пат. 2250200] поли-а-хлоракрилаты и поли-а-хлорметакрилаты, чувствительность обоих резистов 5-Ю-5 Кл/см2; рекомендованы сополимеры метил-метакрилата и метил-2-бромакрилата [119; пат. США 4289842].
Сополимеры метакриловых эфиров ненасыщенных спиртов могут быть использованы как негативные электроно- или рентгено-резисты с отличной стойкостью к плазменному травлению. Например, сополимер аллилметакрилата_с 2-гидроксиэтилметакрилатом (молярное соотношение 75:25) с Мш = 487-104 имеет чувствительность 1,8-10~7 Кл/см2 и стойкость к травлению смесью СР4, О2 и N2 (93:4:3) в 2 раза лучшую, чем сополимер глицидилметакри-лата с этилакрилатом (72:28), разрешение также хорошее (до 0,3 мкм) [пат. США 4289842].
Гомополимеры а-замещенных акрилатов и их статистические, привитые и блоксополимеры или совместимые смеси гомополиме-ров могут быть использованы в качестве чувствительных позитивных электронорезистов. Например, сополимер метилметакрилата с а-хлоракрилонитрилом (молярное соотношение 50:50) с Мт — = 1,04-105 стабилен до 120°С, а пленка толщиной 0,9 мкм, нане-сеннная из раствора в 1,3-дихлорпропане и проявленная в цикло-пентаноне, имеет чувствительность 7-Ю-6 Кл/см2 и разрешающую способность 0,5 мкм [пат. США 4011351].
258
Для экспонирования потоком электронов и рентгеновским излучением особенно подходит сополимер этил-а-цианакрилата с этил-а-амидоакрилатом и метакрилонитрилом при соотношении компонентов в пределах: 1,0-т-0,5 : 0-г-0,2 : 00,5. Чувствительность 5-Ю-7 Кл/см2 для потока электронов (15 кВ) и 2-10~2Дж/см2 для рентгеновского излучения. На рис. VII.25 показано влияние ускоряющего напряжения потока электронов на чувствительность слоя полиэтил-а-цианакрилата с Мш да 105.
Полиметил-а-хлоракрилат, согласно данным авторов [пат. США 4133907], дает рельеф большой контрастности; при этом прямой поток электронов приводит к структурированию полимера, а отраженный поток не вызывает заметных изменений в местах экспонирования, по-видимому, из-за по- 04.
НИЖеНИЯ ЭНерГИИ. Действительно, ПрИ ' ;0кВ 15^ 20п 25кВ
экспозиционных дозах более 5-10^5 Кл/см2 полимер ведет себя как негативный резист, дающий высокоразрешенные и контрастные рельефы, а при дозах менее 5- Ю-5 Кл/см2— как позитивный. Сополимер метил-а-хлоракрилата с метакрило-
С2-ИГ7 НО'6 3-10~* Рис. VII. 25. Влияние ускоряющего напряжения иа чувст- п к / 2
внтельность слоя полиэтил- «-цианакрилата с толщиной ?2, V, пЛ/СМ
нитрилом также проявляет повышенную чувствительность 2"10_3 Кл/см2 [пат. США 4302529, 4304840].
В пат. ФРГ 2702427 описаны гомополимеры галогеналкилмет-акрилатов. Наилучшие результаты показывает поли-2,2,3,4,4,4-гексафторбутилметакрилат.
Полиметил-а-трифторметилакрилат, как и сополимер соответствующего мономера с метилметакрилатом в качестве позитивного резиста оказался более чувствительным, чем ПММА [120]. Поли-тетрафторхлорпропилметакрилат является одним из наиболее высокочувствительных резистов, он устойчив к мокрому травлению, но менее устойчив, чем ПММА, к сухому травлению. При экспозиционных дозах 4,5-Ю-5 Кл/см2 из позитивного он превращается в негативный резист [121]. Сополимер 2,2,2-трифторэтилметакрилата и метил-а-хлоракрилата (59:41) имеет чувствительность 3-10~6 Кл/см2 [122]. Полифторакрилат, получаемый непосредственно на подложке из мономера при действии плазмы, имеет малую пористость (европ. пат. 0049884). Проявление после экспонирования проводят как мокрым способом, так и с использованием кислородной плазмы.
Один из путей воздействия на скорость растворения позитивного резиста — предварительное термоотверждение его перед облучением. Необлученные участки резиста остаются после экспонирования сшитыми и его растворимость, благодаря этому, значительно ниже, чем предварительно не структурированного. В результате для проявления можно использовать термодинамически лучший
Предыдущая << 1 .. 109 110 111 112 113 114 < 115 > 116 117 118 119 120 121 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама