Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 116

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 110 111 112 113 114 115 < 116 > 117 118 119 120 121 122 .. 139 >> Следующая

9*
259
растворитель и тем самым повысить чувствительность системы. В ряде работ отмечено повышение чувствительности ПММА за счет сополимеризации метилметакрилата с мономером, придающим системе способность сшиваться термически или под действием реагентов. Роберте [123] получил тройные сополимеры метилметакрилата, метакриловой кислоты и метакрилоилхлорида, которые термически отверждаются лучше, чем другие резистные материалы. Чувствительность этих позитивных резистов в зависимости от состава и степени предварительного сшивания 8-Ю"6— 35-Ю-6 Кл/см2, контрастность около 5,2 [пат. США 4273856]. Тройной сополимер указанных мономеров с Лй = 3-105 и Тс — = 140°С имеет Dnop 8-Ю-6 Кл/см2, у = 6,4, разрешение 0,2 мкм. В пат. США 4061832 приводится иной способ получения такой же сшитой структуры. Сополимер метилметакрилата с метакрилоил-хлоридом гидролизуют после нанесения на подложку и образовавшуюся карбоновую кислоту дегидратируют нагреванием до 150— 200 °С.
Описаны [пат. США 4276365, 4345020] подобные тройные сополимеры, получаемые из следующих мономеров: 1) CH2=C(CH3)COOR, где R = алкил или галогеналкил Ci_6, бензил или циклогексил; 2) ненасыщенные moho-, ди- и три-карбоновые кислоты С3—С12; 3) метакрилоилхлорид.
Широкое использование прежде всего в производстве многослойных печатных плат, нашли сополимеры метилметакрилата с метакриловой кислотой [124], карбоксильные группы которых в результате предварительной термообработки частично переходят в ангидридные. Модифицированный таким образом полимер наносят на подложку и термолизуют на ней при 200 °С, что приводит к сшиванию резиста. В зависимости от состава сополимера и его обработки чувствительность колеблется в интервале 5-Ю-6— 2-Ю-6 Кл/см2. Изменением состава можно изменить характер резиста с гидрофильного на гидрофобный.
Выдерживанием на подложке слоя поли-трег-бутилметакрилата при 210 °С получают в достаточной степени сшитый позитивный резист с очень хорошей чувствительностью (0,5-10"6 Кл/см2) и высокой разрешающей способностью (0,5 мкм) [125]. При помощи ИК-спектрометрии найдено, что при нагревании поли-грег-бутил-метакрилата протекает ангидризация и образуются поперечные связи между макромолекулами, т. е. происходит сшивание полимера. Подобный принцип положен в основу обработки других сополимеров метакриловой кислоты [пат. ФРГ 2946205; заявка Великобритании 2038492; пат. США 4264715].
К термически структурированным позитивным резистам относятся также поли-2,2,3-трихлорэтилметакрилат, обозначаемый EBR-1 [126]. При нагревании этого полимера, нанесенного на подложку, до 200 °С образуется сшитый полимер, который при экспонировании деструктирует и становится растворимым. Чувствительность резиста 1,25-10-6 Кл/см2 при ТС = 138°С, поэтому он пригоден для экспонирования на кремниевых подложках.
260
Сополимер фенилметакрилата с метакриловой кислотой при нагревании до 200 °С также сшивается [франц. пат. 2498198; заявка Великобритании 2093048А]. Его чувствительность составляет 5-10~5 Кл/см2. На рис. VII. 26 приведена зависимость толщины слоя резиста от экспозиционной дозы при разной продолжительности проявления в смеси диоксан—диизобутилацетон (25:75). Резист очень устойчив при травлении и имеет хорошую адгезию к подложке.
Сополимеры алкилметакрилатов с бромалкил-, хлоралкил- и эпоксиметакрилатами можно сшить после экспонирования в атмосфере инертного газа и тем самым повысить его стойкость к травлению, или же действием ионов или плазмы вызвать в резисте сшивание и одновременно проводить травление открытых участков [пат. США 4278754]. Другим сшитым акри-латным резистом является сополимер этиленгликольметакрилата с триэти-ленгликольдиметакрилатом, полученный полимеризацией мономеров непосредственно на подложке. Чувствительность этого резиста к электронному
Рис. VII. 26. Влияние продолжительности проявления на зависимость нормализованной толщины к слоя резиста от экспозиционной дозы для сополимера фенилметакрилата с метакриловой кислотой (91.7:8,3).
излучению (20 kB) 3-Ю-6 Кл/см2. Проявление рельефа после экспонирования проводят водой или низшими спиртами. Разрешение достигает 0,3 мкм.
Успешно используются в качестве позитивных резистов поли-олефинсульфоны [пат. ФРГ 2536300; пат. США 3916036, 4397938, 4397939], получаемые сополимеризацией S02 с ненасыщенными мономерами [127]. Они отличаются высокой чувствительностью и большим радиационно-химическим выходом деструкции. На практике прежде всего для производства хромовых масок, используют поли-1-бутенсульфон, чувствительность которого около Ю-6 Кл/см2. Некоторые сополимеры не требуют специального проявления, так как продукты их деструкции газообразны. Полиолефинсульфоны весьма лабильны, иногда до такой степени, что распад их макромолекул может происходить задолго до экспонирования при других операциях. Например, распад наблюдается при проявлении, а в случае нагревания деструкция может вызвать даже сублимацию пленки резиста [пат. США 3935331, 3935332]. Недостатком поли-олефинсульфонов является также слабая стойкость при ионном травлении, а также травлении растворами электролитов. Этого серьезного недостатка лишены позитивные резисты новой системы, созданные фирмой Bell (США) [128]. Ее новый позитивный резист, обозначаемый NPR, состоит из новолачной матрицы и полиолефин-сульфона — поли-2-метилпентенсульфона, играющего роль компо-
Предыдущая << 1 .. 110 111 112 113 114 115 < 116 > 117 118 119 120 121 122 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама