Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 117

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 111 112 113 114 115 116 < 117 > 118 119 120 121 122 123 .. 139 >> Следующая

Д Кл/см*
261
нента, чувствительного к излучению. Полиолефинсульфон в этом резисте определяет способность новолачной матрицы к растворению в щелочах, подобно хинондиазидам в позитивных фоторезистах [пат. США 4289845]. Таким способом удалось объединить в одном материале исключительную стойкость новолачных смол к травлению плазмой с очень хорошей чувствительностью полиоле-финсульфонов (в данном случае около 4-Ю-6 Кл/см2). По-видимому, NPR будет использован как для приготовления масок, так и при прямом экспонировании резистного слоя на кремниевых подложках. Аналогичный материал разработан фирмой Hitachi (Япония) [пат. ФРГ 3322886]. Сополимеры S02 и винилтриалкилсила-нов обладают не только высокой чувствительностью, но и стойкостью к кислородной плазме [пат. США 4396702].
К недостаткам полиолефинсульфонов [пат. США 4153741] относится возникновение механических дефектов в слое толщиной более 0,3 мкм в процессе проявления резиста, нанесенного на хромовую подложку. Это зависит от качества подложки, способа нанесения слоя, температуры термообработки и характеристик резиста. Введением в полимер подходящих пластификаторов можно подавить возникновение механических дефектов и получить слои толщиной до 0,6 мкм, однако присутствие пластификаторов оказывает отрицательное влияние на разрешающую способность и чувствительность резиста. Другим путем является введение в полимер, например полученный из а-олефина и S02, циклопентена, звеньев бициклопентена или метилметакрилата. Такие тройные сополимеры [пат. США 3898350], имеющие пониженную 7С, устойчивы к возникновению механических дефектов даже в слоях толщиной 0,9 мкм и проявляют чувствительность около Ю-6 Кл/см2.
Улучшение таких параметров, как адгезия к подложке и стойкость необлученных слоев в процессе проявления, без уменьшения чувствительности достигается заменой части алкена алкиновой кислотой [пат. США 4355094].
Поликарбонаты — группа термостойких резистов с хорошей чувствительностью [пат. США 3961099]. Их термическая стойкость во многих случаях достигает 400 °С. Так, у поли-2,2-пропанбис-4-фенилкарбоната с чувствительностью 3 • Ю-6 Кл/см2 при 15 кВ структура рельефа остается неизменной после 3-часовой выдержки при 260 °С.
В качестве позитивных резистов для электронной литографии исследованы также поли-а-алкенилкетоны, проявляющие чувствительность 3-Ю-6 Кл/см2 при 15 кВ [пат. ФРГ 2536299].
Как отмечалось выше, гомополимер фталевого альдегида служит негативным электронорезистом. Однако сополимеры различных алифатических альдегидов, имеющих триметилсилильные группы в боковой цепи, являются высокочувствительными рентгено- и элек-троно-резистами, по крайней мере на 2 порядка более чувствительными, чем ПММА [европ. пат. 0109617].
Электроно: и рентгено-резисты, в отличие от фоторезистов, — в большинстве однокомпонентные .материалы. В пат. США 4311782
262
Описана смесь из соединения, которое при облучении образует кислоту, и полимера, имеющего в главной цепи ортоэфирную связь, способную разрушаться под действием кислоты, что повышает растворимость полимера. Такие материалы также могут слу сить позитивными фоторезистами (см. гл. II) [пат. США 3779778, 3915704, 3915706, 3917483, 3932514; пат. ФРГ 2610842]. Типичным полимером в этом случае служит поли-2-гидрокси-1,3-диоксан. Вещество, которое при облучении образует кислоту, нужно выбирать в зависимости от способа экспозиции (УФ-свет, электронное излучение, рентгеновское излучение). Для электронорезистов используют наф-тохинондиазиды или галогензамещенные полимерные ортоэфиры. Для улучшения литографических свойств можно смешивать полимерные ортоэфиры с полиацеталями, поликеталями или новолач-ными смолами при содержании 14—45% (масс.) полиортоэфира, а в качестве кислотного донора использовать 2-(4-этокси-1-наф-тил)-4,6-бистрихлорметил-снлш-триазин. При экспонировании пучком электронов с ускоряющим напряжением 11 кВ чувствительность резиста 3-Ю-2—140-Ю-2 Дж/см2 при толщине слоя 2 мкм. Новолачная смола может содержать от 1 до 50 % (масс.) следующего ингибитора растворения [пат. США 4005437; см. также европ. пат. \\Ю 080/02752; заявка Великобритании 2098346А, пат. США 4307178]:
Некоторые новолачные смолы, полученные из фенолов с объемными заместителями, могут представлять интерес как позитивные электронорезисты. Резист, полученный на основе новолака из 2-хлор-5-метилфенола и формальдегида и содержащий диазанаф-талинон или поли-2-метил-1-пентенсульфон, имеет низкую чувствительность, хотя образует хорошие пленки [129]. Отмечено [130], что чувствительность возрастает в результате двукратного экспонирования существеннее, чем в случае облучения суммарной дозой.
Для повышения стойкости рельефа при плазменном травлении предложено использовать двухслойный резист [пат. Великобритании 1585299]. В качестве нижнего слоя на подложку наносят поли-амидокислоту, которая при нагревании до ПО—160°С частично или полностью превращается в полиимид и на которую затем наносят подходящий резист (см. гл. VI). После экспонирования и проявления чувствительного слоя резиста проводят травление полиимид-ного слоя в растворе этилендиамина или щелочи, либо кислородной плазмой; травление металла на подложке — плазмой.
Предыдущая << 1 .. 111 112 113 114 115 116 < 117 > 118 119 120 121 122 123 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама