Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 127

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 121 122 123 124 125 126 < 127 > 128 129 130 131 132 133 .. 139 >> Следующая

279
ТАБЛИЦА 1. Позитивные фоторезисты, производимые в СССР [1, 2]
Массовая доля сухого вещества, J/o Кинемати- Минимальный
Марка фоторезиста ческая вязкость, мкм!/с размер элемента/ толщина слоя, мкм/мкм Применение (ПТ —планарная технология)
ФП-383 19,0-21,0 7.0-7,5 4,5/1,0 ПТ, ИС
ФП-РН-7 19,0-22,0 2,1 -2,6 2,0/0,9 ПТ, ИС; повышенная адгезия к фосфор- и борсиликатным стеклам
фП-РН-7-2 25,0±1,5 2,5-3,5 2,5-3,0/1,0-2,0 ПТ, ИС с рельефной поверх-
ФП-330 25,0 6,0-6,3 ностью
ФП-Н 4,2±0,1 1,0/1,0±0,1 ПТ, БИС со сложной поверхностью;
52,0-75,0 нанесение пульверизатором \
ФП-25 2,0-20,0/1,5-10,0 Высокомощные транзисторы, ПТ,
ФП-27-18БС металлизация
30±2,0 18,5±1,5 2,0-10,0/0,5-30,0 Тонкослойные интегральные схемы,
ФП-29 70,0-83,0 би- и триметаллические офсетные
ФП-051К формы
31,0±2,0 55±5 2,0-3,0/2,5-2,5 ПТ, БИС со сложным рельефом поверхности, монометаллические офсетные формы; применяются при сухом плазмохнмическом травле-
ФП-051Т нии оксида
29,0±1,0 20,0±5,0 2/0/1,3-1,5 Контактная и проекционная фото-
ФП-051Ш литография
25,0±1,0 8,0±1,1 1,0/0,9-1,0 Хромовые фотомаски
ФП-051М -/0,7-0,8
СК-17 0,13/- Дифракционные решетки, голография
ФП-РН-27В 21,0-24,0 2,5-3,5 2,5/1,0±0,2 Прецизионные процессы фОТОЛИТО"
ФП-РН-27В-2 графии
25,0 - 27,0 3,5-4,5 25/1,6±0,2 Использование иа полупроводниковых подложках с рельефом и для микросхем с "высокой степенью
ФП-617 30,0 интеграции
22,0 - 24,0 2,0/1,0±0,1 Фотошаблоны по хрому и диокси-
ФП-626 22,0±2,0 ду кремния, БИС
2,0/1,0±0,1 Изготовление железоокисных фотошаблонов контактным и проек-
ФП-636 ционным способами, ИС
18,0±2,0
ТАБЛИЦА 2. Негативные фоторезисты, производимые в СССР [1, 2]
Марка фоторезиста
СПФ-2-20, тип 1
СПФ-2-40, тип СПФ-2-SO, тип СПФ-3, тип 1 СПФ-3, тип 2 СПФ-3, тип 3
ФН-5ТК ФН-11К ФН-11К
ФН-4ТВ ПЦГД-ФН-1
Массовая доля сухого вещества
%
15,0±1,0
15,0-1,0
Кинематическая вязкость, мкм'/с
Область спектраль ной чувствительности, нм
32,0-34,0 7,0-7.0
30,0±2,0
260 - 460 310-480 310-48Э
310-480 300-425
Минимальный размер элементов/ толщина
слоя, мкм/мкм
Применение; особенности составов
2,0/20,0
2,5/40,0
3,3/60,0
300,0±30,0/60
300,0±30,0/8Э
300,0±30,0/93
10,0/1,5-2,0
1,0-1,5/0,6-0,!
Производство печатных плат; пленочный трехслойный фоторезист синего цвета
Для иаиесения на пе-. чатиые платы с рельефом проводящих элементов толщиной до 60 мкм (тип. 1), до 80 мкм (тип 2) и до 100 мкм (тип 3). Пленочный трехслойный фоторезист зеленого цвета
Светочувствительный защитный материал, химические и электрохимические процессы в производстве печатных плат, форм
<
К
из <
Si
UJ о
к ш
О О Г О И се >>
я
X
Z о « га ? <
Є* g о
к ш
S о і о % 2
о о П са >>
іи
"ли
Е о я
2
ОО 00 00 ОО
I I
СП СП <о
її <n 1 ю <n [
Г~- ОО со ю
<и <n <n
о о
Ю СП
I I
о о о г-со
in со ОО
со со
о
о —<
I I I
О —
ю ст> —
ООО
coco со
о СП СП оо СП^ОООО^ I 00
о" о" о" о"
СП IN Г~- -=Г <N (N — (М
I I I 2 [ s
00 —і to <n IN <N — IN
о
о о о о
О — О О (N О СО —- Ю СО 00
МММ
о о о ю о о юоі-tiMoo
(N 00 СО
СО СО СО СО t>-
??????????0? ОООООО СО со СО со со со
<
э
а о
о
•е-
3 as а я к
< S
ч из <
Н Е- Н
а) ф о в >,« О в-
8 л 5 к
я ч 2 g
й> Л
o's
я q .
аз И л
О !^ И ООН
о ^ о
я s s
? § я
э 3 S я
о
о U

О
! С 3
X
Ы5 Я
Ё
и .2
аооеиО^н
СсГссГ
Pl<OOPl,OSh
S с a .is
>,SS
s 1 о о о о to ю 00 00 1 1 1 1 ю in 1 1 ю ю 1
1 о to in 1 1 1 1 о о о о in in СО СО 1 о о со 1 о 8
I Ч I I
-< ю (о ю ю -5Ґ -5Ґ иэ
ю ю ю ю ю
—-cnt^^f-^ocnooo
ОООСМОСПООООСП 00
< о о о о
(о in СП ,
. -г"'„і-. °° оо оо со ю
t>-cncn(ncnin(n—-—-
М М М М I
rfrf—coin^'ininr^.
О 00 00 о
to
сп
(о 00 сп
in
СП Ю •—' сп in in —
--исо00ююю —to
M M M M I
_г іС^Іг <n СП 00 !>. ю
erg с о
«К о о
Е
280
281
О СО СО СО СО —¦< — —.. ~н ~ CS CS
NN«m«mm«wm«™m«.-coooococo<
о
Q
CD
NNNN — <<<<N <
I I I I I I I I II I I I
Cef
I I < I 1
)4
о о ю
Ю Ю CS
re -4«
I I I I I
о g о
тії -=r
mm со
о to
CO
о
Ю
о о
ю ю
о -*
CO 1 1
CO о о
1 со -я-
Ю со со
00
CS
і "і і ю I I I I
ю О И
Ю Ю СО Ю Ю Ю
ю m es m ю m in «tD to m 0 о of со о — es —Г — о" со" — —' 1 І І і II М I I I I I I
CO <J> Ю CO lO l>-^ —^ c4^ ї>- со 00 to О о" —- <N О* о" —* o" —« О* О* —«" О* —"
іо — ь." оо" W ^, —
ю
СТ> СП I СТ> I I I t~- t— — C0t-t- — OtOtO^f — CD t-, І Ю I
to r -.
О 00
4 <o to"
CM CO
I II I I
Ю O, TP,
¦*"cs"
I I
I I II I I I I I
CS
et
-*" °. °°-
і і і T T T
О. О Г-
o" to" —"
ГС CQ >-э й «гі *
о о * рвороооївїюоой"'.-
ююо^олоююмос"1^15-"4 ^ w co о Ol %
---- • — <r вгаоп1"1^** - — •* -aw* —• v
со со — — -#сосососоэт-»''Ч'-'»' — — •* -aw* —• v
—< —«СО — — CO—< —¦ —. —1 T — ~ ~f ~~' CN CS CS CO •—
NNNNNNNNNNNNNNNNNNNNN<
Предыдущая << 1 .. 121 122 123 124 125 126 < 127 > 128 129 130 131 132 133 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама