Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 128

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 122 123 124 125 126 127 < 128 > 129 130 131 132 133 134 .. 139 >> Следующая

CS
о о
ся —
Cef

CuO CU я
є s
¦в-
I
Of a
оо о
Of M
о Є
s1*
s а
N о.
X 5
о 33
ю (г)
со &)
"V О.
її * u
§?
4.2 a. Г1 S u c- о * ; и
ЛИТЕРАТУРА
К введению
1. Введение в фотолитографию/Под ред. В. П. Лаврищева. М.: Энергия,
1977. 400 с. Лаврищев В. П. — Электрон, пром., 1980, вып. 5, с. 10—14. 2. Ни-капчикова Е. А., Попова А. Л. Технология офсетного производства. М.: Книга,
1978. Ч. I. 368 с. 3. De Forest W. S. Photoresists: Materials and Processes. N. Y.: McGraw-Hill, 1975. 269 p. 4. Ефимов Й. E., Козырь И. Я. Основы микроэлектроники. М.: Высшая школа, 1983. 384 с; Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии, пер. с англ. М.: Мир, 1985. 465 с. 5. Robinson A. L.— Science, 1980, v. 208, р. 1019—1022. 6. Singh D. N.. Zarabi М. /. — J. Inst. Electron. Telecommun. Eng., 1983, v. 29. № 11, p. 525—533. 7. Varnell G. L., Shah P. L., Havemann R. H. — Proc. IEEE, 1983 v. 71, № 5, p. 612—639; VLSI Electronic Microstructure Science/Ed. N. G. Einspruch. N. Y.: Acad. Press, 1981, V. 2, p. 336.
К главе I
I. Валиев К А., Раков А. В. Физические основы субмикрониой литографии в микроэлектронике. М.: Радио и связь, 1984. 350 с. 2. Elliott D. J. — Solid State Technol., 1982, v. 25, № 12, p. 91—95. 3. Гуров С. А., Эрлих P. Д., Петрова Т. С. и др.— Электронная техника, сер. 2, 1972, № 7, с. 13—16. 4. De Forest IF. 5. Photoresists: Materials and Processes. N. Y.: McGraw-Hill, 1975. 269 p. 5. Fogiel M. Modern Microelectronics. N. Y.: Research and Education Press, 1972. 342 p. 6. Handbook of Thin Film Technology/Eds. L. I. Maissei, R. Glang. N. Y.: McGraw-Hill, 1970. 953 p. 7. Handbook of Materials and Processes for Electronics/Ed. C. A. Harper. N. Y.: McGraw-Hill, 1970. 858 p. 8. Burggraaf P. S. — Semicond. Int., 1981, v. 4, № 7, p. 71. 9. Kuang В. M., Chang С. B. — J. Vac. Sei. Technol., 1979, v. 16, № 6, p. 2025. 10. Polymer Handbook/Eds. J. Brandrup, E. H. Immergut. N. Y.: Irrterscience, 1966, 1172 p.
II. Burkman D. — Semicond. Int., 1981, v. 4, № 7, p. 103. 12. Flack W. W., Soong D. S., Bell A. T. e. a. — J. Appl. Phys., 1984, v. 56, № 4, p. 1199—1206; Ch. A., 1984, v. 101, 120365y. 13. Washo B. D. — IBM J. Res. Dev., 1977, v. 21, № 2, p. 190—198. 14. Damond G. F. — Proc. Second Kodak Semin. Microminiaturization. Kodak Publ. P-89, 1966, Rochester, p. 36. 15. Dunham K. «. — Solid State Technol, 1971, v. 14, № 6, p. 41—46. 16. Thompson L. F., Willson C. G., Bowden M. J. Introduction to Microlithography: Theory, Materials and Processing, ACS Symposium Series, v. 219, Washington, 1983, p. 363. 17. Malac J., Simunkova E., Zelinger /. — J. Polym. Sei., 1969, A, v. 7, № 7, p. 1893—1904. 18. Клетченков И. И., Терехова Г. В. — Полупооводииковая техника и микроэлектроника, 1975, № 20, с. 95—97. 19. Peters D. A., Decked С. A. — i. Electro-chem. Soc, 1979, v. 126, № 5, p. 883—886. 20. Glang R., Holmwood R. A., Rosenfeld R. L. — Rev. Sei. Indust., 1965, v. 36, № 1, p. 7—10.
21. McGrath T. — Solid State Technol., 1983, v. 26, № 12, p. 165—169; Mi-mura /., Doken M. — Kogaku, 1984, v. 13, p. 10—17; Ch. A., 1984, v. 100, 183021h; White J. C, Craighead H. G., Howard R. E. e. a. — i. Appl. Phys. Lett., 1984, v. 44, p. 22—24. 22. Melngalis L, Smith H. /., Efremov N. — IEEE Trans. Electron Devices, 1975, v. 22, № 7, p. 496—498. 23. Фотолитография и оптика/Под ред. Я. А. Федорова, Г. Поля. М.: Советское радио, 1974. 392 с. 24. Bruning J. Я —J. Vac. Sei. Technol., 1980, v. 17, № 5, p. 1147—1155. 25. King M. С— In: VLSI Electronics Microstructure Science/Ed. N. G. Einspruch. N. Y: Acad. Press, 1981, v. 1, p. 41—81. 26. Widmann ?>., Stein K. U. — Semiconductor Technologies with Reduced Dimensions Proc. 2nd Eur. Solid State Circuits Conf., 1976. v 29, p. 1977. 27. Cuthbert I. D. — Solid State Technol., 1977, v. 20, № 6, p. 42. 28. Flanders D. S., Lyszczarz Т. M. — J. Vac. Sei. Technol., 1983, B, v. 1,
283
p. J190—1195. 29. Котлецов Б. H. Микроизображения. Л.: Машиностроение, 1985. 260 с. 30. Березин Г. Я, Никитин А. В., Сурис Р. А. Оптические основы контактной фотолитографии. М.: Радио и связь, 1982. 103 с.
31. Гудмен Д. Введение в Фурье-оптику. М.: Мир, 1978 343 с. 32. Нег-shel «. — Ргос. SPIE, 1978, v. 135, p. 24—29. 33. Lacombat M., Massin /., Du-broeucq G. M. e. a.— Solid State Technol., 1980, v. 23, № 8, p 115—122 34. Jain К., Willson C, Lin B. — IEEE Electron Devices Lett., 1982, v EDL-23, Кя 3, p. 53—55. 35. Dill F. H. — IEEE Trans. Electron Devices. 1975, v ED-22, № 7, p. 440—444. 36. ?»(7/ F. H., Neureuther A. R., Tutle J. A. e. a. — IEEE Trans Electron Devices, 1975, v. ED-22, № 7, p. 456—464. 37. Walker E. J. — IEEE Trans. Electron Devices, 1975, v. ED-22, № 7, p. 464—466. 38. Rosenbluth A. E, Goodman ?>., Lin B. /. — J. Vac. Sei. Technol., 1983, B, v. 1, p. 1190—1195. 39. Васичев Б. H. — Оптико-механическая промышленность, 1982, № 12, с. 47—53; Сатаров Г. X., Блинов И. Г., Горяева Г. О. — Микроэлектроника, 1980, т. 9, с. 310—318; J. Vac. Sei. Technol., 1983, В, v. 1, № 4. 40. Scott J. P. — J. Appl. Phys., 1975, v. 46, № 2, p. 661—664.
Предыдущая << 1 .. 122 123 124 125 126 127 < 128 > 129 130 131 132 133 134 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама