Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 130

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 124 125 126 127 128 129 < 130 > 131 132 133 134 135 136 .. 139 >> Следующая

81. Burkman D., Johnson A. — Solid State Technol., 1983, v. 26, № 5, p 125—129 82. Morgan J. Al, Taylor G. N. — J. Vac. Sei. Technol., 1981, v. 19, № 4, p. 1127—1132. 83. Konnerth K. L., Dill F. H. — IEEE Trans. Electron Devices, 1975, v. ED-22, № 7, p. 452—456. 84. Atbers J., Novotny D. B. — J. Electrochem. Soc, 1980, v. 127, № 6, p. 1400—1403; Ерусалимчик И. Г., Левин Д. M., Кривенко А. Ф. — Электронная техника, сер. 2, 1975, № 6, с. 27—33. 85. Ilten D. F., Sutton R. І. —і. Electrochem. Soc, 1972, v. 119, № 4, p. 539—541; Боков Ю. С, Корсаков В. С, Малышева Н. С. и др. — Электронная техника, сер 6, 1972, № 1, с. 108—112; Loprest F. J., Fitzgerald E. A. — Photogr. Sei. Technol, 1971, v. 15, p 260. 86. Berning P. H. — In: Physics of Thin Films/Ed. G Haas N. Y: Acad. Press, 1963, p. 69. 87. McGillis D. A., Fehrs D. J. — IEEE Trans. Electron Devices, 1975, v. ED-22, № 7, p. 471—477. 88. Reiser A., Pitts E — Photogr. Sei. End, 1976, v. 20, № 5, p. 225—229. 89. Walker С. C, Helbert J N. — Org. Coat. Appl, Polym. Sei. Proc., 1983, v. 48, p. 701—705; Ch A, 1984, v. 100, 200818t. 90. Kolf G, Laessing W. — Polym. Sei. Technol, 1971, v. 11, p. 492.
91. Soutor 2., Savel J., Zurek J. Hybridnl integrovane obvody. Praha: SNTL, 1982. 397 s. 92. Hollahan J. R. — In: Techniques and Application of Plasma Chemistry. N. Y.: Wiley, 1971. 286 p.; Boenig H. — In: Plasma science and technology, 1982, Munchen, Wienn: Carl Hansen Verlag, p. 278—281. 93. Kay E., Coburn J, Dilks A.~ Topics in Current Chemistry, 1980, v. 94, p. 1—42. 94. Chapman B. N. Glow Discharge Processes. N. Y.: Wiley, 1980. 368 p. 95. Eph-rath L AI. DiMaria D. /. — Solid State Technol, 1981, v. 24, № 4, p. 182. 96. Bollinger D., Iida S, Matsumoto K. — Solid State Technol, 1984, v. 27, № 6, p. 167—173. 97. Bondur J. A. — J. Vac. Sei. Technol, 1976, v. 13, № 5, p. 1023. 98. Melliar-Smith C. AI, Mogab C. J. — In: Thin Film Processes/Eds. J. L. Vossen, W. Karn. N. Y: Acad. Press, 1978, p. 497—556. 99. Horiike H. W., Shiba-gaki M — In: Semiconductor Silicon/Eds. H. R. Ruff, D. L. Sirth. Proc. Electrochemical Society, 1977, p. 182. 100. Coburn J. W., Kay E. — IBM J. Res Dev., 1978, v. 23, № 1, p. 33—41.
101. Flamm D. L. — Plasma Chem. Plasma Proc, 1981, v. 1, № 1, p. 37—52. 102. Flamm D. L., Donelly V. Al, Mucha J. A. — J. Appl. Phys, 1981, v. 52, № 5, p. 3633—3639. 103. Mogab C. J. — J. Electrochem: Soc, 1981, v. 128, p. 1262. 104. Van de Wen E. P., Zijlstra P. A. — Electrochem. Soc. Extended abstracts, 1980, v. 80 № 1, p. 253. 105. Howarth «, Zarewin С. В., Rosenberg R. — Electro-
285
ehem. Soc. Extended Abstracts, 1980, v. 80, № 1, p. 294. 106. Boyd H.Jang M.S.— Solid State Technol., 1979, v. 22, № 4, p. 133—138. 107. Flamm D. L., Co-wen P. L, Golovchenko I. A. — J. Vac. Sei. Technol, 1980, v. 17, № 6, p. 1341 — 1347. 108. D'Agostino R., Flamm D. L. — J. Appl. Phys, 1981, v. 52, № 1, p. 162—167. 109. Flamm D. L., Wang D. N., Maydan D. /. — J. Electrochem. Soc, 1982, v. 129, № 12, p. 2775—2760. 110. Mogab C. /., Levenstein H. /. — J. Vac. Sei. Technol, 1980, v. 17, № 3, p. 721—730.
111. Adams A. C, Capio C. D. — J. Electrochem. Soc, 1981, v. 128, № 2, p. 366—370. 112. Heinecke R. A. — Solid State Electron1, 1976, v. 19, № 12, p. 1039—1040. 113. Matsuo S. — J. Vac. Sei. Technol, 1980, v. 17, № 2, p. 587— 594 114. Reinberg A. «, Dalle-Ave /, Steinberg G. e. a. — Electrochem. Soc. Extended Abstracts, 1981, v. 82, № 2, p. 669. 115. Donnelly V. M, Flamm D. L., Tu C. W. e. a.— J. Electrochem. Soc, 1982, v. 129, № 11, p. 2533—2537. 116. Smolinsky G„ Chang R. P., Mayer T. M. — i. Vac. Sei. Technol, 1981, v. 18, № 1, p. 12—16; Klinger R. ?., Greene I. E. — Appl. Phys. Lett, 1981, v. 38, № 8, p. 620—622; Hu E. L., Howard R. ?. —Appl. Phys. Lett, 1980, v. 37, № 11, p. 1022—1024; Donnelly V. M, Flamm D. L., Collins G. — J. Vac. Sei. Technol, 1982, v. 21, № 3, p. 817—823; Coldren L. A., Rentschier J. A. — i. Vac. Sei. Technol, 1981, v. 19, № 2, p. 225—230. 117. Bosch M. A., Coldren L. A. — Appl. Phys. Lett, 1981, v. 28, № 4, p. 264—266. 118. Poulsen R. G. — J Vac Sei. Technol, 1977, v. 14, № 1, p. 266—274. 119. Herb G. K, Porter R. A., Cru-zan P. D. e. a. — Electrochem. Soc. Extended Abstracts, 1981, v. 82, № 2, p. 710. 120. Hess D. W. — Plasma Chem. Plasma Proc, 1982, v. 2, № 2, p. 141— 155.
121. Nakata H., Nishioka K., Abe H. — i. Vac. Sei. Technol, 1980 v 17 № 6, p. 1351—1357. 122. Mogab C. /, Shankoff T. A. — ]. Electrochem. Soc, 1977, v. 124, № 11, p. 1766—1771. 123. Harada T., Gamo K, Namba S. — Jpn J. Appl. Phys, 1981, v. 20, № 1, p. 259—264. 124. Randall J. N., Wolf J. C — Appl. Phys. Lett, 1981, v. 39, № 9, p. 742—743. 125. Legat W. H., Schillings H.— Electrochem. Soc. Extended Abstracts, 1975, v. 75, № 2, p. 336 126. Parry P D Rodde A. f. —Solid State Technol, 1979, v. 22, № 4, p. 125—132 127. Lehmann H. W., Widmer «. — Appl. Phys. Lett., 1978, v. 32, № 3 p 163—165 128. linno K — Jpn. J. Appl. Phys, 1978, v. 17, № 7, p. 1283—1284; HelbertJ.N., Schmidt M. A., Malkiewicz C. e. a. — Org. Coat. Appl. Polym. Sei. Proc 1983 v. 48, p. 695—700; Ch. A, 1984, v. 100, 200817s. 129. Kegel B. — Print Circuits Manuf, 1981, v. 21, p. 27. 130. Taylor G. N., Wolf T. M, Moran J. M. — i Vac. Sei. Technol, 1981, v. 19, № 4, p. 872—880.
Предыдущая << 1 .. 124 125 126 127 128 129 < 130 > 131 132 133 134 135 136 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама