Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 22

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 16 17 18 19 20 21 < 22 > 23 24 25 26 27 28 .. 139 >> Следующая

Сенситометрическая кривая отражает кинетику суммарного процесса образования фоторельефа в слое полимера, на которую влияют: соотношение спектров эмиссии (как правило, полного спектра лампы среднего или высокого давления) и спектра поглощения слоя, интенсивность фотолитического процесса с участием хромофоров композиции, скорость последующих темновых реакций и т. д. Особенности оценки светочувствительности электронных резистов см. в разделе VII. 31.
Ухудшить результат экспонирования может присутствие кислорода, непостоянство толщины пленки и оптической плотности слоя, изменения интенсивности светового потока. Атмосферный кислород в радикальных процессах действует как ингибитор, это касается прежде всего негативных резистов [74]; влияние кислорода адекватно уменьшению выдержки, что вызывает снижение качества изображения. Обычно концентрация светочувствительного компонента в резисте достаточна для подавления этого влияния. В микроэлектронике при использовании проекционного устройства экспонирование можно проводить в инертной атмосфере. В некоторых случаях кислород может действовать как фотосенсибилизатор, особенно в комбинации с красителями или восстановителями, У негативных резистов влияние кислорода может проявиться в
47
возникновении вуали. Рекомендуется проводить экспонирование через 4 ч после нанесения резиста и хранить пластины в темноте и атмосфере азота, а в случае необходимости — при желтом освещении. Вуаль образуется также при наличии озона в концентрации свыше 0,05 млн-1.
Для достижения высокого разрешения необходимо, чтобы толщина слоя резиста была как можно меньшей: при этом изображение в слое резиста будет наиболее резким. Однако наилучшие технологические свойства слоя резиста и, прежде всего его стойкость при травлении подложки достигаются при возможно большей толщине В многослойных резистах (МСР) верхний чувствительный слой выполняет функцию маски при травлении планариза-ционногэ слоя (см. гл. VIII); при этом из-за малой толщины верхнего экспонируемого слоя его AR понижается, хотя суммарное AR многослойной системы достигает высокого значения, превышающего AR однослойного резиста в оптимальных условиях использования.
Непостоянство толщины достаточно толстого слоя резиста обычно существенно не сказывается на результатах экспонирования, в то время как у тонких слоев резистов при изменении толщины может резко возрасти дефектность. Кроме того, у тонких слоев при низкой интенсивности света перестает действовать закон взаимозаместимости. Тонкие слои резиста при данной интенсивности требуют большего времени экспонирования, чем предполагаемое для экспонирования толстых слоев (в пересчете на единицу оптической плотности). Это явление объяснено не полностью, в случае негативных резистов его относят за счет влияния кислорода [74]. При прочих равных условиях слишком высокая интенсивность света также может отрицательно влиять на качество воспроизведения.
Определяющее влияние на параметры рельефного изображения оказывает качество масок, изготовление которых является важнейшим звеном в технологической цепи литографического процесса. В связи с этим контролю их качества придается большое значение и его осуществляют либо ручным способом или с помощью автоматических измерительных систем, устраняющих ошибки визуальной оценки и значительно ускоряющих проверку качества [75].
1.5. ПРОЯВЛЕНИЕ
После экспонирования в слое резиста возникает скрытое изображение, которое необходимо проявить для образования рельефа. Проявление — визуализация скрытого изображения — процесс комплексный; он оказывает влияние прежде всего на качество рельефа, четкость краев и возможное возникновение вуали.
Существует два типа проявления: в растворах (мокрое) и сухое (плазменное). Сухое проявление стало предметом повышенного интереса только в последние несколько лет (см. VI.3). Опти-
48
мизируя процесс проявления, стремятся обеспечить минимальное изменение толщины слоя резиста в участках рельефа и при наименьшем времени проявления (менее 1 мин) свести к минимуму набухание полимера в рельефе. Искажение изображения под влиянием набухания ограничивает точность воспроизведения рисунка шаблона.
Самопроизвольное растворение аморфных полимеров протекает только при условии, что энергия Гиббса системы, определяемая как AG = АН — TAS отрицательная [76]. Это условие может быть выполнено в двух случаях. Если АЯ < 0, это означает, что энергия, выделяющаяся при образовании сольватной оболочки растворителя вокруг макромолекулы превышает энергию связи между молекулами как растворителя, так и полимера. Условие AS > 0 выполняется практически всегда вследствие того, что неупорядоченность молекул полимера в растворе больше неупорядоченности его отдельных компонентов: макромолекула в растворе может принимать в результате повышенной подвижности сегментов большее число конформаций, чем макромолекула в твердой фазе. Отсюда следует и тот факт, что полимеры с гибкой цепью растворяются легче, чем полимеры с жесткой цепью, так как полимеры первой группы могут иметь в растворе большее число конформаций. Повышение температуры растворения увеличивает значение энтропийного члена TAS, что отвечает росту скорости растворения.
Предыдущая << 1 .. 16 17 18 19 20 21 < 22 > 23 24 25 26 27 28 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама