Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 3

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 2 < 3 > 4 5 6 7 8 9 .. 139 >> Следующая

Фото-, электроно-, рентгенорезисты — это чаще всего композиции из органических полимеров и веществ, чувствительных к излучению. Создание таких композиций представляет собой сложную задачу, решаемую на стыке органической, коллоидной и физической химии, химии и физики высоких энергий и полупроводников, а также других наук.
Коллективы ученых и исследователей крупнейших радиоэлектронных и полиграфических фирм мира создали многие тысячи композиций, защищенных патентами, и выполнили большой объем исследований по всестороннему изучению химических свойств и превращений резистов в модельных и приближенных к практике условиях. Анализу этих научных и прикладных работ в области фоторезистов были посвящены широко известные книги: Дина-бург М. С. «Светочувствительные диазосоединения и их применение» (М.—Л.: Химия, 1964), «Введение в фотолитографию» под ред. В. П. Лаврищева (М.: Энергия, 1977); Kosar J. «Light-Sen-seitive Systems. Chemistry and Application Nonsilver Halide Photographic Processes* (New York; Wiley, 1965); De Forest W. S. «Pho-toresists: Materials and Processes* (New York: McGraw-Hill, 1975).
Из-за высоких требований к материалам только немногие из выполненных разработок нашли применение в производстве, однако необходимость совершенствования микроэлектронных приборов и полиграфических систем требует резкого улучшения параметров фоторезистов, качественного изменения их свойств. Например, стремление к повышению разрешающей способности полимерных рельефов обусловило переход от систем, чувствительных к коротковолновому УФ-свету, к композициям, изменяющим свои свойства под действием пучка электронов, т. е. к электронорези-стам. Такое состояние разработок материалов и их развитие требует систематического рассмотрения работ, динамики изменения
областей приложения усилий ученых, переосмысливания известных фактов и наблюдений.
В настоящее время для создания рельефных слоев — печатных форм в полиграфии — нашли применение так называемые фотополимеры— продукты индуцированной светом полимеризации ненасыщенных (в основном с этиленовыми связями) мономеров и олигомеров. Техническая литература по этим материалам весьма обширна. Она может явиться предметом отдельной монографии. Научные же основы процессов и классификация материалов удачно даны в обзоре, опубликованном в книге Jacobson К., Jacobson R. Imaging Systems. (London, New York; Focal Press, 1976)*.
По этой причине авторы сочли нецелесообразным помещать специальный раздел о фотополимерах в данной монографии, осветив только в гл. III новые разработки по фотоотверждению эпокси-соединений светочувствительными ониевыми солями. В монографии не отражены и работы в области одной из самых старых групп фоторезистов — хромированных коллоидов, например систем на основе желатины и бихромата калия. Они до сих пор имеют большое практическое значение; вопросы по химии, технологии и применения рассмотрены недавно в гл. 6 книги Крюкова А. И., Шерстюка В. П., Дилунга И. И. «Фотоперенос электрона и его прикладные аспекты» (Киев: Наукова думка, 1982).
Цель настоящей книги — рассмотрение химических и некоторых физических аспектов литографии, а также обзор современного состояния и тенденций развития резистов для отдельных литографических приложений, особенно для микроэлектроники. Книга написана в содружестве ученых Ленинградского технологического института имени Ленсовета и Пражского технологического института, работающих в области материалов для литографии. Введение, гл. I и VIII и Приложение написаны докт. Я. Заховалом и проф. Я. Краличеком (Прага); гл. II и III и разделы VI. 1—VI. 3 — проф. А. Ельцовым (Ленинград); гл. IV и V и разделы VI. 4— VI. 6 —канд. хим. наук Т. Юрре (Ленинград); гл. VII —докт. Б. Беднаржем и проф. Я. Краличеком (Прага); перевод чешской части выполнил канд. техн. наук А. Н. Егорьков.
Авторы выражают благодарность инженеру Я. Девятому (Прага) за проработку части патентов по электронным резистам, канд. техн. наук Е. А. Никанчиковой, Б. Н. Котлецову, Ю. Г. Тур-кевичу, а также канд. хим. наук Б. Г. Герасимову и В. М. Чудно-вой за ценные замечания, сделанные по прочтении рукописи, инж. В. Н. Багал — за участие в подборе патентов и публикаций по фоторезистам, инж. Н. В. Кузнецовой и 3. П. Кожевниковой — за большую техническую работу с рукописью и с патентами в области фотолитографии.
* Этим вопросам посвящена недавно вышедшая книга В. К. Грищенко, А. Ф. Маслюка, С. С. Гудзера «Жидкие фотополимеризующиеся композиции» (Киев: Наукова думка, 1985).
7
ВВЕДЕНИЕ
Термин литография (от греческого Шко5 — камень, #гар/го— пишу) первоначально служил для обозначения способа печати, в котором в качестве печатной формы использовался шлифованный известняк. На его гидрофильную (смачиваемую водой) поверхность при помощи жирового карандаша вручную наносили рисунок. Олеофильные места изображения смачивались гидрофобной печатной краской, в то время как свободная поверхность известняка, увлажненная водой, печатную краску не воспринимала. Печатная краска с литографического камня (первой формы плоской печати) с помощью прижима переносилась на бумагу. Перед каждым нанесением краски поверхность известняка снова смачивали водой.
Предыдущая << 1 .. 2 < 3 > 4 5 6 7 8 9 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама