|
Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.Скачать (прямая ссылка):  5-сульфоэфиров 2-диазо-1-нафталииоиа с разной степенью превращения хииондиазид--> индеикарбоновая кислота 139]. светочувствительных эфиров окенбензофенонов и резистов на их основе найдено, что в пленках резистов замещенные инденкарбоновые кислоты находятся в мономерной, димерной форме и в кристаллическом состоянии, что дает серию полос карбонила в ИК-спектрах слоя, полученных по методике многократного нарушенного полного внутреннего отражения. Очевидно, обсужденный метод анализа резистов требует уточнений. Аналитическая информация о степени фотолиза хинондиазида чрезвычайно важна и в практических аспектах. Например, агрегация молекул производных инденкарбоновой кислоты может привести к их выкристаллизации из слоя, что при последующей работе даст проколы в пленке. //. 1.1.2. Основные компоненты резистов Из большого числа диазокарбонильных соединений, полученных из самых разнообразных аминофенолов ароматического и гетероциклического рядов и описанных ранее в патентной литературе, в современных фоторезистных композициях используют эфир 5-сульфокислоты 2-диазо-1-нафталинона и следующих фенолов: 2,3,4-тригидроксибензофенона, 2,4-дигидроксибензофенона, ди(2-гидрокси-1-нафтил) метана и др. [например, пат. ФРГ 2626473] СвНвСО- г}ШСН: но Ог> С6Н; СН3 С6Н40г}-п во2 75 Судя по патентной литературе, до сих пор ведутся работы по усовершенствованию этих основных светочувствительных компонентов Очень популярен триэфир 2,3,4-тригидроксибеизофенона, однако он ограниченно растворим в органических растворителях, особенно в таких широко применяемых, как монометиловый эфир этиленгликоля и сложные эфиры спиртов. Поэтому вместо него в жидкие композиции для получения офсетных печатных форм и в пленочные резисты рекомендуется вводить эфиры или кетоны следующей общей формулы: и" гГСО- \=ЛОк гГ = А1кС4— С,7 или Аікохуі С4—С„, иногда с ?02 атомом кислорода в цепи; и" = А1кС) — С3, Н. С1, Вг в количестве 7—35 % от массы композиции без растворителя [пат. ФРГ 3040157; см. также пат. ФРГ 3040156, европ пат 0050806, 0092444]. Неполные эфиры тригидроксибензофенонов [пат. ФРГ 1422474, 3220816; пат. Великобритании 1154749], например Я' К' = 2-С1; 4-СНэ. 4-(Ж Н 4-СН30; вместо ?02 И'СбН4— 1-нафтил, 2-антрахинонил также растворимы в органических растворителях, совмещаются с НС и могут давать хорошие копировальные слои в композициях с НС и без НС; эти слои пригодны для создания форм плоской, глубокой печати. Сложные алкиловые и ариловые эфиры галловой кислоты этерифицируют по гидроксигруппам 5-сульфохлоридом диазонаф-талинона и получают в смеси с крезольным новолаком высокосветочувствительный резист; рельеф хорошо сохраняет размеры и устойчив к травлению [пат. США 4174222]. 76 Эфиры бисфенола А давно патентуются как светочувствительные компоненты; в пат. ФРГ 2828037 описаны их структурные аналоги — производные эфиров 3,3-дифенилбутанкарбоновой кислоты и других кислот с более длинной углеродной цепью: Я\ СН3 А' [СН2СН2]„С00А1к О Я' = Н, СНз, Вг; А1к С, — С4, А1кохуа1к [СН2СН2ОСН3, БО, СН2СН2ОС2НБ, (СН2СН20)3СН3 и т. д.]і п = 1 4-4. Они лучше растворимы в органических растворителях, дают хорошие копировальные слои. К этим эфирам близко примыкают по структуре более сложные вещества, образованные в результате этерификации хлорангидри-дом 5-сульфокислоты 2-диазо-1-нафталинона (или сульфокислот других диазидов) динатриевых солей продуктов конденсации адипиновой (или другой дикарбоновой) кислоты с бисфенолом Аз Б02 я = 2-г10. Эти полиэфиры создают как без всяких полимерных добавок, так и в смеси с НС хорошие гомогенные светочувствительные слои, образующие устойчивые печатающие элементы печатных форм [пат. Великобритании 1490284]. Недавно рекомендованы в композициях с крезольным новолаком эфиры 5-сульфокислоты 2-диазо-1-нафталинона и 2,2', 4,4'-тет-рагидроксидифенилсульфида, конденсата 2,3,4-тригидроксибензо-фенона с формальдегидом и др. [европ. пат. 0055814], ацилирован-ных полигидроксифенилметанов [пат. ФРГ 3043967; европ. пат. 77 0052788], со,и/-ди(4-гидроксифенил)алканов (последние образуют слои, устойчивые к травлению щелочами) [пат ФРГ 3124936-Жпоо?аТ- 0068346Ь «,со'-(гидроксиароил)алканов (европ. пат.' ииъьи9^), кетонов или сложных эфиров с длинными алифатиче- паИМ005И8гК]аЛаМИ (С'0_С25) ~ ПР°ИЗВ°ДНЫХ пирогаллола [европ. S02 AlkoxylCio — C2S; R"', R""= H, Hai, AlkCi —C4; m = 2 -f- 18; n = 6 -s- 18. Эфиры 5- и 4-сульфокислот 2-диазо-1-нафталинона почти не поглощают свет с длиной волны более 450 нм. Для смещения адсорбции хинондиазида в области эмиссии лазеров, используемых для высокоразрешенной записи информации и голографии, в особенности ионного аргонового (эмиссия 488 нм) и гелиево-кадми-евого лазера (441,6 нм), синтезированы хинондиазиды — производные N-замещенных амидов 1,8-нафталиндикарбоновой кислоты. Они поглощают свет при 400—550 нм [пат. США 4207107]; дли создания резистных слоев их совмещают с крезоло-формальдегид-ным новолаком: О где R = Alk, Alkoxyl, Ar (замещенный фенил, нафтил, антрил и др.), остатки полимеров.
Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены. |
|
|||||||||||||||||||||||||
|
|
|
||||||||||||||||||||||||||
