Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 35

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 29 30 31 32 33 34 < 35 > 36 37 38 39 40 41 .. 139 >> Следующая

5-сульфоэфиров 2-диазо-1-нафталииоиа с разной степенью
превращения хииондиазид--> индеикарбоновая кислота
139].
светочувствительных эфиров окенбензофенонов и резистов на их основе найдено, что в пленках резистов замещенные инденкарбоновые кислоты находятся в мономерной, димерной форме и в кристаллическом состоянии, что дает серию полос карбонила в ИК-спектрах слоя, полученных по методике многократного нарушенного полного внутреннего отражения. Очевидно, обсужденный метод анализа резистов требует уточнений. Аналитическая информация о степени фотолиза хинондиазида чрезвычайно важна и в практических аспектах. Например, агрегация молекул производных инденкарбоновой кислоты может привести к их выкристаллизации из слоя, что при последующей работе даст проколы в пленке.
//. 1.1.2. Основные компоненты резистов
Из большого числа диазокарбонильных соединений, полученных из самых разнообразных аминофенолов ароматического и гетероциклического рядов и описанных ранее в патентной литературе, в современных фоторезистных композициях используют эфир 5-сульфокислоты 2-диазо-1-нафталинона и следующих фенолов: 2,3,4-тригидроксибензофенона, 2,4-дигидроксибензофенона, ди(2-гидрокси-1-нафтил) метана и др. [например, пат. ФРГ 2626473]
СвНвСО-
г}ШСН:
но
Ог>
С6Н;
СН3
С6Н40г}-п
во2
75
Судя по патентной литературе, до сих пор ведутся работы по усовершенствованию этих основных светочувствительных компонентов Очень популярен триэфир 2,3,4-тригидроксибеизофенона, однако он ограниченно растворим в органических растворителях, особенно в таких широко применяемых, как монометиловый эфир этиленгликоля и сложные эфиры спиртов. Поэтому вместо него в жидкие композиции для получения офсетных печатных форм и в пленочные резисты рекомендуется вводить эфиры или кетоны следующей общей формулы:
и"
гГСО-
\=ЛОк
гГ = А1кС4— С,7 или Аікохуі С4—С„, иногда с
?02
атомом кислорода в цепи; и" = А1кС) — С3, Н. С1, Вг
в количестве 7—35 % от массы композиции без растворителя [пат. ФРГ 3040157; см. также пат. ФРГ 3040156, европ пат 0050806, 0092444].
Неполные эфиры тригидроксибензофенонов [пат. ФРГ 1422474, 3220816; пат. Великобритании 1154749], например
Я'
К' = 2-С1; 4-СНэ. 4-(Ж Н 4-СН30; вместо
?02
И'СбН4— 1-нафтил, 2-антрахинонил
также растворимы в органических растворителях, совмещаются с НС и могут давать хорошие копировальные слои в композициях с НС и без НС; эти слои пригодны для создания форм плоской, глубокой печати.
Сложные алкиловые и ариловые эфиры галловой кислоты этерифицируют по гидроксигруппам 5-сульфохлоридом диазонаф-талинона и получают в смеси с крезольным новолаком высокосветочувствительный резист; рельеф хорошо сохраняет размеры и устойчив к травлению [пат. США 4174222].
76
Эфиры бисфенола А давно патентуются как светочувствительные компоненты; в пат. ФРГ 2828037 описаны их структурные аналоги — производные эфиров 3,3-дифенилбутанкарбоновой кислоты и других кислот с более длинной углеродной цепью:
Я\ СН3 А'
[СН2СН2]„С00А1к
О
Я' = Н, СНз, Вг; А1к С, — С4, А1кохуа1к [СН2СН2ОСН3,
БО,
СН2СН2ОС2НБ, (СН2СН20)3СН3 и т. д.]і п = 1 4-4.
Они лучше растворимы в органических растворителях, дают хорошие копировальные слои.
К этим эфирам близко примыкают по структуре более сложные вещества, образованные в результате этерификации хлорангидри-дом 5-сульфокислоты 2-диазо-1-нафталинона (или сульфокислот других диазидов) динатриевых солей продуктов конденсации адипиновой (или другой дикарбоновой) кислоты с бисфенолом Аз
Б02
я = 2-г10.
Эти полиэфиры создают как без всяких полимерных добавок, так и в смеси с НС хорошие гомогенные светочувствительные слои, образующие устойчивые печатающие элементы печатных форм [пат. Великобритании 1490284].
Недавно рекомендованы в композициях с крезольным новолаком эфиры 5-сульфокислоты 2-диазо-1-нафталинона и 2,2', 4,4'-тет-рагидроксидифенилсульфида, конденсата 2,3,4-тригидроксибензо-фенона с формальдегидом и др. [европ. пат. 0055814], ацилирован-ных полигидроксифенилметанов [пат. ФРГ 3043967; европ. пат.
77
0052788], со,и/-ди(4-гидроксифенил)алканов (последние образуют слои, устойчивые к травлению щелочами) [пат ФРГ 3124936-Жпоо?аТ- 0068346Ь «,со'-(гидроксиароил)алканов (европ. пат.' ииъьи9^), кетонов или сложных эфиров с длинными алифатиче-
паИМ005И8гК]аЛаМИ (С'0_С25) ~ ПР°ИЗВ°ДНЫХ пирогаллола [европ.
S02
AlkoxylCio — C2S; R"', R""= H, Hai, AlkCi —C4; m = 2 -f- 18; n = 6 -s- 18.
Эфиры 5- и 4-сульфокислот 2-диазо-1-нафталинона почти не поглощают свет с длиной волны более 450 нм. Для смещения адсорбции хинондиазида в области эмиссии лазеров, используемых для высокоразрешенной записи информации и голографии, в особенности ионного аргонового (эмиссия 488 нм) и гелиево-кадми-евого лазера (441,6 нм), синтезированы хинондиазиды — производные N-замещенных амидов 1,8-нафталиндикарбоновой кислоты. Они поглощают свет при 400—550 нм [пат. США 4207107]; дли создания резистных слоев их совмещают с крезоло-формальдегид-ным новолаком:
О
где R = Alk, Alkoxyl, Ar (замещенный фенил, нафтил, антрил и др.), остатки полимеров.
Предыдущая << 1 .. 29 30 31 32 33 34 < 35 > 36 37 38 39 40 41 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама