Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 36

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 30 31 32 33 34 35 < 36 > 37 38 39 40 41 42 .. 139 >> Следующая

С другой стороны, для повышения светочувствительности композиции в области среднего УФ-света (300—335 нм) используют эфиры 5-сульфокислоты 2-диазо-1-нафталинона и несилш-алицик-лических диолов, например 4,8-бис(гидроксиметил)трицикло[5,2, 1,02'6] декана, преимущество которых заключается и в более вы-
78
сокой растворимости хинондиазида в НС и в поли-п-гидроксисти-роле [пат. США 4397937].
Слои низкомолекулярных светочувствительных соединений часто кристаллизуются; рельефы из эфиров сульфокислот о-наф-тохинондиазидов и гидроксикетонов ароматического ряда неустойчивы при травлении и поэтому мало пригодны для создания форм глубокой и высокой печати; в формах плоской печати они обладают ограниченной тиражеустойчивостью. Для устранения указанных недостатков составляют композицию из большего количества смолы (~ 85 %) и хинондиазида (~ 15%), поэтому диа-зид должен хорошо совмещаться со смолой и при комнатной температуре растворяться в органическом растворителе. В качестве полимерного компонента применяют полигидроксистирол, по-либромгидроксистирол [пат. ФРГ 267922], сополимер этилакрилата, стирола и метакриловой кислоты, взятых в мольном соотношении 10:5:2 [пат. США 3637384]; для создания адгезионно активного и механически прочного печатного слоя рекомендуется сополимер метилметакрилата, стирола, метакриловой кислоты и 1,3-бута-диена, взятых в мольном соотношении 37,8:11,2:15,5:35,5 [пат. ФРГ 3107526]. Наконец, предлагаются смеси двух полимеров: 1) полимеризованных сложных эфиров винилбензилового спирта и полигидроксикарбоновых кислот и 2) акрилатных или стироль-ных полимеров; композиции на основе этих смесей отличает возможность широкого варьирования условий проявления [нат. ФРГ 3317919].
В подавляющем большинстве хинондиазидных фоторезистных композиций полимерным компонентом служат НС [41]. Они кислотостойки, растворяются в щелочах, гидрофобны. У новолаков, получаемых из смеси крезолов и используемых в композициях фоторезистов, Л?п« 500-т-900, М^/М„ « 40 — 70, температура размягчения около 120°С, массовая доля групп ОН примерно 14 %. Полученные в результате экспонирования и проявления слоев композиций рельефы хорошо разрешены — до 1000 линий на 1 мм, поскольку малы размеры образующих рельефы молекул. Они надежно предохраняют от растравливания защищенные места подложки при травлении кислотами открытых мест. Рельеф воспринимает гидрофобную печатную краску, что позволяет служить ему в офсетных формах печатающим элементом. Все это наряду с хорошей светочувствительностью хинондиазидов и доступностью компонентов системы привело к широкому использованию хинондиазидных новолачных композиций в микроэлектронике и полиграфии.
В композиции полимерный и светочувствительный компоненты растворены в апротонном органическом растворителе (применяются практически все растворители, исключая предельные углеводороды и малолетучие вещества), обычно суммарная концентрация компонентов в растворе не превышает 10%. Композиции, по-видимому, отличаются от истинных растворов; в больших объемах они неоднородны, расслаиваются на различающиеся по свой-
ствам области [41]. В слоях хинондиазид, вероятно, агрегироваш для них вопреки некоторым рекомендациям [42] не соблюдается закон Ламберта-Бугера-Бера в области поглощения хинондиазида и отмечается ряд других аномалий [42]. Слои на основе НС далеко не совершенны — они отличаются низкой абразивной стойкостью и обладают рядом других недостатков. Усилия исследователей направлены на устранение этих недостатков и улучшение других свойств композиций.
При обработке и хранении композиций резистов НС окисляются. Образующиеся гидропероксиды каталитически разлагаются следами ионов металлов, возникающие при этом радикалы сшивают близлежащие молекулы смолы. В таких участках ММ емолы выше исходной, смола хуже растворяется в щелочном проявителе. В результате рельеф содержит непроявленные микрозоны, что приводит к браку в производстве интегральных микросхем, ухудшает качество записи аудио- и видеоинформации [пат. США 3842217]. Чтобы уменьшить число и размеры непроявленных мик-розон в пат. США 4059449 рекомендуется вводить в слой до 7,5 % от массы НС дисульфидов (AlkOOCCH2CH2)2S, Alk (или Alkenyl) С12—Qe. Они известны как антиоксиданты, способные разлагать пероксиды. Для усиления их действия к 3,5 % дисульфида добавляют столько же ионола (ди-трет-бутилкрезола) или топанола CA [1,1,3-трис(2-метил-4-гидрокси-5-грет-бутилфенил) бутана]. Если в композицию вводить летучие алифатические карбоновые кислоты (уксусную, пропионовую и др.), то, судя по выделению азота, она лучше сохраняется; летучая кислота может быть удалена из слоя перед экспонированием [пат. Великобритании 1546633; пат. ФРГ 2623790].
Сроки хранения фоторезистных композиций часто невелики, вероятно, из-за осаждения кристаллов компонентов или их ассо-циатов; для предотвращения этого рекомендуется использовать смесь диазидов [а. с. СССР 918320]. Ниже приведен оптимальный состав фоторезистной композиции, %'
Диэфир 5-еульфокислоты о-нафтохинонди- 10,2 азида и 2\4,4'-тригидроксибензофенока
Предыдущая << 1 .. 30 31 32 33 34 35 < 36 > 37 38 39 40 41 42 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама