Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 38

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 32 33 34 35 36 37 < 38 > 39 40 41 42 43 44 .. 139 >> Следующая

Авторы [пат. США 3635709] синтезировали НС конденсацией пирогаллола и ацетона и получали ее эфир с 5-сульфокислотой 1-диазо-2-нафталинона. Эфир оказался хорошей основой для фоторезистов и рекомендуется во многих последующих патентах. Как дальнейшее развитие этой работы можно рассматривать синтез этерифицированных 4- или 5-сульфо-2-диазо-1-нафталиноном или 4-сульфо-2-диазо-1-бензолоном смол из метил- или 2-этилрезор-цина, ацетальдегида или ацетона с ММ 800—4000 [пат. США 4306011], а также из резорцина или 5-метилрезорцина и бензаль-дегида, 4-метилбензальдегида, ацетофенона или бензофенона [пат. США 4306010]; последние смолы получали соконденсацией компонентов с крезолом и формальдегидом. Фоторезисты на такой основе, наряду с высокими показателями формного и печатного процессов, отличаются стойкостью к различным воздействиям, в частности, они теряют значительно меньше массы при обработке органическими растворителями, что обеспечивают высокую тира-
82.
жеустойчивость, в 2 раза большую, чем у системы на Основе кре-золо-формальдегидных смол [см. также европ. пнт. 0054258].
Конденсаты фенола, и-грег-бутилфенола и формальдегида (например, с молярным соотношением 2,3 : 2,4 : 3,3) этерифицируют на 20—60% 5-или4-сульфокислотами либо 5-или 4-карбоновыми кислотами диазонафталинона. Эти смолы дают очень хорошую дифференциацию экспонированных и неэкспонированных участков по отношению к щелочному проявителю благодаря стойкости исходного слоя к действию оснований. Рельеф обладает стойкостью к действию кислотных травителей и отличается механической прочностью [пат. США 4308386].
С целью укрепления гидрофобного слоя полимера на анодированном алюминии составляют композицию фоторезиста из НС, 10% гидроксилов которой этерифицированы 5-сульфокислотой 2-диазо-1-нафталинона, и добавки нерастворимого в щелочи полимера: 10% от массы НС низкомолекулярного ПВА-или 16 % частично гидролизованного сополимера винилацетата с винилхлори-дом с ММ порядка 8000, либо 16 % последнего сополимера и сополимера винилхлорида, винилацетата и малеиновой кислоты [заявка Великобритании 2075700]. При больших количествах добавки после проявления на подложке остается вуаль.
Вместо НС рекомендуют этерифицировать сульфонафтохинон-диазидом полигидроксистирол (ММ « 5000) или полигидрокси-стирол, алкилированный фенилглицидиловым эфиром; продукт совмещают с НС и получают слой с улучшенной светочувствительностью, который хорошо проявляется [пат. США 4139384; пат. Великобритании 1494043]. Наряду с этим неполностью этерифицируют 5-сульфокислотой 2-диазо-1-нафталинона сополимеры алкилакрилата (75—87 %), гидроксиалкилакрилата, акрилоилгид-роксиалкилкарбоксилата. Эти эфиры совмещают с крезоло-фор-мальдегидной смолой, вводят также другие добавки [пат. ФРГ 2364178]. Резистные композиции получают и на основе полимери-затов и-и ж-гидроксиариламидов метакриловой кислоты; используют амиды различных аминофенолов и аминонафтолов. За счет части фенольных групп этих полимеров получают эфиры 4- или 5-сульфокислот 2-диазо-1-нафталинона [пат. ФРГ 2352139].
В пат. США 3984250 рекомендуется вводить в композиции для получения позитивных копировальных слоев светочувствительные азидоариловые эфиры (I) или азидофениловые амиды (II) 5-суль-фокислоты 2-диазидо-1-нафталинона:
О О
ArOS02 ArNS02
1
83
I: Ar = 2-N3C6H4, 3-N3C6H4, 4-N3C6H4, 5-N3C10H6-a и др. II: Ar = 4-N3QH4, R = H, CH3; ArNR = 2-азидо-1-бензимндазолил
Образующийся при фотолизе на воздухе нитрен «пришивает» остаток инденкарбоновой кислоты к специально вводимому в композицию гидрофобному и нерастворимому в основаниях полимеру— смеси эфира полиола и ненасыщенных кислот [канад. пат. 824096] и полимера с боковыми пептидными цепями [канад. пат. 837083]. Благодаря этому экспонированные участки полностью растворяются в основаниях, проявление не сопровождается потерей массы рельефа.
Не всегда укрепляющий слой добавочный полимер хорошо совмещается со светочувствительной композицией, поэтому в ряде работ его вводят в виде отдельной фазы (слоя). Например, на подложку анодированного алюминия наносят резист, затем на него найлон и сверху снова резист. Во время фотолиза засвечиваются оба слоя с хинондиазидом; при проявлении в этих местах вместе с новолаком удаляется и промежуточный найлоновый слой [пат. Великобритании 1478333]. Это усложнение технологии дает возможность при небольшой суммарной толщине слоя повысить светочувствительность при меньшем расходе хинондиазида, а также тиражеустойчивость печатной формы. Укрепляющий полимер можно наносить или на слой резиста, или под него, используя растворители, избирательно растворяющие только компоненты слоя, наносимого последующим [пат. США 4207106].
С целью повышения сродства укрепляющего слоя найлона к нижнему светочувствительному слою рекомендуется вводить в найлон силаны, например (RO)3SiX, где X = Alk Ci—С9, оу-амино-алкил С]—Cie, арил, винил, а>-алкоксисилапропил [пат. Великобритании 1488350]. Добавки кремнийорганических соединений увеличивают олеофильность рельефа. Верхний слой может состоять из частично алкилированного сополимера стирола и малеинового ангидрида (мол. соотношение 7:3) с ММ 100000, шеллака. Рекомендуются и трехслойные системы: хинондиазид — найлон — хинондиазид [пат. США 4217407: пат. Великобритании 1478334].
Предыдущая << 1 .. 32 33 34 35 36 37 < 38 > 39 40 41 42 43 44 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама