Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 39

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 33 34 35 36 37 38 < 39 > 40 41 42 43 44 45 .. 139 >> Следующая

Для микроэлектроники запатентована двухслойная система, нижний слой которой состоит из смеси ПВС и меламиновой смолы, термоотверждаемой в присутствии катализатора, а верхний представляет собой позитивный резист; после литографии нижний слой травят до подложки (меди) 25 %-ной H2S04. Это обеспечивает создание высокоразрешенного рельефа, стойкого к травлению [пат. Великобритании 1493834].
//. 1.1.4. Улучшение свойств резистного слоя
Путем введения различных добавок, а также варьированием условий обработки удается изменять те или иные свойства резистного слоя. Ниже эти добавки и условия обработок сгруппированы в основном по технологическим операциям, на результаты которых с их помощью стремятся повлиять. Однако, улучшая одно свойство слоя, можно изменить или даже ухудшить другие. Поэтому очевидно, что эти добавки и режимы не универсальны, они позволяют
84
адаптировать резист к конкретным условиям применения и могут не сыграть положительной роли в других условиях работы резиста.
Использование пленочных фоторезистов. В производстве печатных плат, некоторых толсто- и тонкопленочных схем формирование сплошных пленок ре-зистов вызывает затруднение. Поэтому с начала 1970 г. с этой целью применяют пленочные фоторезисты, впервые выпущенные фирмой Dupont (США) под маркой Riston. Для их производства на полиэтилентерефталатную пленку наносят слой резиста толщиной более 20 мкм, высушивают и прикатывают сверху пленку полиэфира. Перед употреблением резиста пленку снимают, резист прикатывают к подложке нагретым валком, дают небольшую релаксационную выдержку, экспонируют через слой терефталата, кратковременно нагревают, снимают полиэтилентерефталат, проявляют и проводят термоотверждение рельефа. В зависимости от типа резиста его проявляют водой или органическим растворителем. Очевидно, резистный слой такого материала должен быть гибким, эластичным, олеофильным, термостойким, обладать хорошей адгезией. Пленочные резисты чаще всего относятся к фотополимерным негативным материалам, разрешение при их использовании составляет десятки микрометров. Однако разработаны и позитивные резисты. Для получения такого материала 4-сульфодиазонафталиноном этерифицируют сополимер алкилметакрилата и 10 % гидроксиэтилметакрилата, или на 10 % гидролизованный ПВА, или высокомолекулярный ПВС [пат. ФРГ 2028903; см. также пат. США 4197128]; НС совмещают с различными полимерами: полиэтилакрилатом, полибутилметакри-латом, сополимером винилацетата и кротоновой кислоты и др. Резисты на такой основе используют как маски при травлении, например медной подложки FeCl3, как гальванорезисты [пат. ФРГ 2236941].
Слой пленочного резиста для микроэлектроники и полиграфии [пат. ФРГ 2935904; пат. США 4247616; франц. пат. 2435741] создается смесью полимера, состоящего на 50 % из полиуретана, термостабильной НС с ММ 500—1000 и полиизоцианата с углеродной цепью до 40 С и на 50 % из эпоксидной смолы с эпоксидным эквивалентом менее 400, которая дополнительно термоотвержда-ется, нафтохинондиазида, красителя, фталевого ангидрида и диаминодифенил-сульфона (последние — отвердители эпоксида). Свойства композиции удается улучшить, если часть НС получать из фенолов с алкильными группами [европ. пат. 0087262]. Смесь из растворителя наносят на тонкую полиэфирную пленку, предварительно покрытую метилцеллюлозой. Получают хорошую гибкую пленку. Ее можно нанести на медь с помощью нагретого до 100 "С валка. Полиэфирную пленку снимают перед экспонированием.
Предэкспозиционная термообработка. После нанесения композиции на подложку слой сушат при температуре ниже 100 "С. В результате предэкспозици-онной термообработки (сушки) не только удаляется растворитель, ио и повышается адгезия слоя к подложке. Поскольку хинондиазиды термически разлагаются, а НС могут уплотняться при повышенных температурах [41], режим сушки оказывает влияние на результаты всех последующих обработок и на свойства рельефа.
Известно, что эфир 2-диазо-1-нафталинон-5-сульфокислоты и иодированного в ядро 2-ди(4-гндроксидифеиил) пропана устойчив до 117°С и разлагается в интервале температур 117—145 °С [43]. На термограммах 5-сульфохлорида 2-диазо-1-нафталинона и диэфира 2,4,4'-тригидроксибензофенона и этой суль-фокислоты наблюдается как минимум два термоэффекта в зависимости от скорости нагревания при 124—136°С и при 286 °С. В НС сульфоэфир хинондиазида начинает заметно разлагаться при 70 °С, хотя продолжительное нагревание при температуре менее 70 °С также ведет к значительному разрушению сульфоэфира. С ростом температуры четко выявляется стабилизирующее действие НС, которое после 120°С сглаживается. При указанных ниже константах скорости термолиза k и расчетных значениях времени термораспада 50 % и 5 % то,5 и т0,о5 диэфира 2,4,4'-тригидроксибензофенона и 2-диазо-1-нафталинон-5-суль-фокислоты энергия активации в растворе составляет 130 Дж/моль [44]i
t, "С 20 30 40 80 120
k, с-1 2,78 • Ю-10 1,67 • 10—9 9,70-Ю-9 5,28-10"6 8,7 • Ю-4
т0>05 6 лет 1 год 2 мес 2 ч 40 мин 1 мин
Предыдущая << 1 .. 33 34 35 36 37 38 < 39 > 40 41 42 43 44 45 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама