Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 4

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 2 3 < 4 > 5 6 7 8 9 10 .. 139 >> Следующая

Принцип избирательной лиофилизации поверхности был распространен на многослойные металлические подложки, у которых слои различных металлов отличались по гидрофильности. При стравливании верхнего слоя по определенному рисунку образовывалось рельефное изображение, одни элементы которого (один металл) воспринимали олеофильную краску, а вторые (другой металл) ею не покрывались.
Если при травлении образуется выпуклый рельеф (высота около 5 мм), как это получается при травлении цинковых или магниевых пластин, то можно получить печатную форму для высокой печати. Печатная краска переносится с рельефа на бумагу тисканием. В противоположном случае печатная краска переносится на бумагу с вытравленных углублений, и речь тогда идет о глубокой печати.
Для того чтобы провести стравливание по определенному рисунку, необходимо защищать места, которые не следует подвергать травлению, слоем материала, устойчивого при этой химической операции. Такие материалы называют резистами (англ. ге-«г'яг — устойчивый). Если резист является светочувствительным и это свойство удается использовать для создания слоя резиста с нужным рисунком, то такой резист называют фоторезистом.
Принцип создания негативных и позитивных изображений под действием света отражен на рис. 1. Основой фотолитографии является такой результат взаимодействия света (обычно в области 340—430 нм) со светочувствительным компонентом фоторезиста, который обусловливает изменение физико-химических свойств участков экспонированного слоя, не защищенных маской (шаблоном), в первую очередь —растворимости и летучести. Это дает возможность при последующем проявлении удалить или неэкспонированные места (негативный процесс А), или экспонированные (позитивный процесс Б), и тем самым получить рельефное изо-
бражение в слое резиста. Полученный таким образом рельеф («контактная маска») служит затем защитным слоем при селективном травлении или металлизации поверхности подложки в открытых местах, что дает возможность перенести рельефное изображение на подложку. Степень соответствия элементов изображения имеющимся на шаблоне, использованном при экспонировании, служит мерой качества литографического процесса в целом. Тем не менее, последующие операции с первичным изображением также влияют на конечный результат, что заставляет весь литографический процесс рассматривать комплексно [1].
Использование фоторезистов в полиграфии дало возможность фотомеханического изготовления не только рельефных, но и плоских печатных форм. При печати с плоских форм печатная краска с гидрофильных печатающих элементов может переноситься на бумагу при помощи промежуточного валика. Такой способ печати называется офсетной печатью. В офсетных печатных формах в качестве гидрофобных печатающих элементов могут быть использованы непосредственно слои фоторезиста, или фоторезист может быть
Рис. 1. Принцип негативных и позитивных светочувствительных слоев: ' г^^о >т,2
А — негативный процесс; Б — позитивный процесс; / — ре- у///у/ К/////^-Т
зист; 2 — слой диоксида кремния; 3 — кремний. V//// А~° V//// Л*
маской для травления полиметаллических подложек, в которых после смачивания один металл, например хром, служит гидрофильной частью, а другой — медь — гидрофобной. При использовании монометаллических пластин, в частности алюминиевых, контакт поверхности алюминия с некоторыми светочувствительными слоями вызывает их каталитическое разложение. Для предотвращения этого поверхность алюминия окисляют (часто с помощью анодирования), а также обрабатывают специальными составами; механическое зернение способствует лучшей адгезии резистного слоя. Светокопировальные составы применяют для изготовления не только собственно печатных форм, но и шаблонов, в том числе и в цветной печати. Разработка резистов для изготовления полиграфических форм развилась в самостоятельное направление, привлекающее активное внимание исследователей [2].
Травление по рельефу, созданному резистом, было использовано впервые вскоре после второй мировой войны для серийного производства проводниковых схем в электротехнической промышленности. Они получили название «печатные схемы» или «печатные платы», поскольку тиражировались способами, применяемыми в полиграфии. Большинство печатных плат производилось сначала сеткографией, заключающейся в образовании изображения посредством продавливаиия на подложку полимерного материала (печатной краски) через тонкую сетку. На поверхности подложки
*44
тонкие капельки раствора полимерного материала сливаются, образуя рельеф требуемой конфигурации, служащий резистом для травления меди. Историю развития этой области техники подробно описал в своей книге Де Форест [3]. Использование фоторезистов дало возможность повысить разрешение рельефа и автоматизировать производство печатных плат.
Повышение требований к технологии литографии и фоторезистам произошло примерно 30 лет назад благодаря резким изменениям в технологии производства электротехнических устройств и гриборов.
Роль фотолитографии в полупроводниковой технике становится ясной, если обратиться к рассмотрению транзистора с р—«-переходом. Искусственное резкое изменение типа доминирующей примеси в части объема кристаллического полупроводника ведет к
Предыдущая << 1 .. 2 3 < 4 > 5 6 7 8 9 10 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама