Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 42

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 36 37 38 39 40 41 < 42 > 43 44 45 46 47 48 .. 139 >> Следующая

Вводят в обычную композицию позитивного фоторезиста (15—25 % Диазида, 65—85 °/о НС) 6—10 % от массы компонентов слоя продукта кислотно-катализируемой конденсации 2,4-ди-; или 2,4,6-, 2,3,4-, 2,4 4'-три-; 2,3,4,4'-тетра-гидроксибензофенона и формальдегида [пат. США 4275139"; пат. ФРГ 2847878]; добавка гидроксибензофеноновой смолы повышает светочувствительность на 76 %, при этом другие параметры слоя не ухудшаются.
В пат. ФРГ 2545957 и 2545697 описано получение специальной смолы для повышения светочувствительности печатной формы. Для этого используют по-лифеиолы с экстинкцией полос в электронном спектре в области 300—400 нм более 103, например, 2,2',4,4'-тетрагидроксибензофеион, 2-(2,4-дигидроксифенил)-
бензОТриазол, 2-(2,4-дигидроксифенил)кумарон и другие аналогичные соединения, которые могут содержать и аминогруппы в ядре. Часть гидрокси- и аминогрупп этерифицируют 5-сульфокислотой пафтохинопдиазида. В пат. ФРГ 2545957 эфиры конденсируют в присутствии толуолсульфокислоты в диоксане при 50— 70 °С с параформом и фенолами, не отличающимися хорошим поглощением в ближней УФ-области спектра: собственно фенолом, крезолом, ди(4-гидрокси-фенил) метаном, бисфенолом А и др.; соотношение компонентов от 1 :4 до 1 : 10 в зависимости от желаемой светочувствительности; смолы имеют ММ от 1000 до 3000, их выход приближается к 100 %. В пат. ФРГ 2545697 эти эфиры вводят в боковую цепь сополимеров, например, малеинового ангидрида со стиролом, винилизобутиловым эфиром, изобутеном. Новый светочувствительный полимер непосредственно используют для получения хорошей печатной формы на алюминии или биметалле или смешивают с этой же целью с ж-крезольным новолаком.
Частицы поверхностного слоя позитивного резиста прилипают к шаблону контактной печати при экспонировании, что приводит к дефектам слоя. Для предотвращения этого шаблон покрывают фторированным метакрилатным полимером. Кроме того, между шаблоном и слоем можно оставлять зазор 10—15 мкм. Однако и в этом случае остаются проколы, они сохраняются и при экспонировании без маски. Очевидно, они образуются в результате механических напряжений в слое резиста, вызванных выделяющимся при экспонировании азотом и электростатическими взаимодействиями резиста и поверхности подложки. Последние снимаются добавками в слой небольших количеств солей — олеатов, стеаратов, ацетатов, га-толуолсульфонатов 1-гидроксиэтил-2-алкил(С7— С17)-А2-имидазолиниев (Моназолиниев); это приводит к резкому уменьшению числа проколов [пат. США 4142892; франц. пат. 2354578; пат. ФРГ 2626419].
Образовавшиеся при фотолизе хинондиазидов замещенные инденкарбоновой кислоты способны при нагревании декарбоксилироваться, участки слоя с введенными в него производными индена теряют способность растворяться в щелочах. Тем самым создается возможность обращения материала — превращения позитивного слоя в негативный. Модификация обработок слоя позитивного хиноидиазидного резиста для создания негатива позволяет получить лучшее разрешение и меньшее число дефектов в негативе, чем в случае слоя на основе собственно негативных резистов. Кроме того, позитивные фоторезисты менее чувствительны к кислороду, чем негативные, что упрощает технологию. Наконец, использование обращаемой системы избавляет от необходимости иметь запас реактивов и материалов для различающихся по материалам и обработкам собствеиио негативных и позитивных композиций.
В пат. Великобритании 2082339 для получения печатной формы на анодированный алюминий наносят композицию из 3 ч. гваяцилового или ж-толило-вого эфира 5-сульфо-2-диазо-1-нафталинона, 6 ч. НС, 0,5 ч. резола из крезола. Выдерживают экспонированный, но еще не проявленный слой при 60—120 °С. При этом идет декарбоксилирование инденкарбоновой кислоты, что приводит к потере растворимости в щелочи экспонированных участков. Засвечивают весь слой, в результате образуется замещенная инденкарбоновая кислота и достигается растворение в щелочи всех нефотолизованных при первом экспонировании участков слоя. В результате создается негативное рельефное изображение шаблона. Термообработка при 220 °С резко улучшает механические свойства рельефа. Успех обращения и эффективность заключительной термообработки авторы связывают с наличием в слое резольной смолы.
В пат. Великобритании 1494640 на подложку алюминия или железа предлагалось наносить эфир 5-сульфокислоты диазонафталинона и поликонденсата ацетона с пирогаллолом с добавкой триэтаноламина или эфир той же кислоты и 2,3,4-тригидроксибензофенона с добавкой ж-крезоло-формальдегидной смолы. Термолиз экспонированных участков слоя при 100 °С в течение 5 мин и последующее проявление дают негативный слой печатной формы хорошей тираже-устойчивости. В пат. Великобритании 1492620 и пат. США 4196003 добавка такого высококипящего амина, как триизопентиламин, трибутиламин, N-метил-Диэтаноламин, Ы,Ы-диэтиланилин к светочувствительному слою, содержащему НС и эфир 2,3,4-тригидроксибензофенона или бисфенола А, выносится в формулу изобретения и рассматривается как обязательная при создании обращенных
Предыдущая << 1 .. 36 37 38 39 40 41 < 42 > 43 44 45 46 47 48 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама