Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 43

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 37 38 39 40 41 42 < 43 > 44 45 46 47 48 49 .. 139 >> Следующая

89
88
форм на базе позитивных резистов. В разработках фирмы IBM (США) [пат. США 4104070; пат. Великобритании 1489167; пат. ФРГ 2529054, 2855723] в слой резиста для повышения эффективности термолиза добавляются Мона-золины—1-гидроксиэтнл-2-алкил (С7 — С17)-Д2-имидазолины. С этой же целью в пат. США 4356255 в композицию вводят полициклические кетоны, хиноны и их замещенные.
Термическое декарбоксилирование инденкарбоновых кисло г можно ускорить, если помещать фотолизованный слой в нагретую (до 90°С) 7 %-ную соляную кислоту; такая обработка рекомендуется в пат. Великобритании 1501194 для создания обращенной позитивной хииондиазидной печатной формы или резистпого слоя для микроэлектроники.
Разработки фирмы Agfa-Qewaert (ФРГ) также касаются обратимых систем, которые могут давать негатив или позитив одного и того же шаблона при одинаковых обработках, различающихся лишь условиями фотолиза [пат. Великобритании 1588417; пат. ФРГ 2810463], а не дополнительной стадией термолиза, как отмечалось выше. Для этого в обычную композицию дополнительно вводят еще один светочувствительный компонент — нитрон:
RCH=N(0)—С6Н5
где R = замещенный фенил, а-нафтил, а-фурил, а-тиенил.
Кратковременное экспонирование композиции, достаточное для превращения хинондиазида в инденкарбоновую кислоту, дает после щелочного проявления нормальное позитивное изображение. После десятикратной экспозиции через тот же контактный шаблон н последующего кратковременного облучения всего слоя первоначально засвеченные участки уже не способны растворяться в щелочи в отличие от остального слоя, что при щелочном проявлении дает негативное изображение оригинала. Это происходит потому, что нитрон при длительном фотолизе сшивает компоненты слоя, что приводит к эффекту обращения. Разработка рекомендована для создания очень контрастных рельефов в микроэлектронике. Подложкой служит слой висмута толщиной примерно 150 мкм с оптической плотностью 4, напыленной в вакууме на пленку поли-этилентерефталата толщиной 0,1 мм. Травитель—12 °/о-ный раствор FeCU, содержащий 1 % лимонной кислоты. В современной аппаратуре проявление, промывка, травление занимают 28 с.
- В фотополимерную композицию, например, на основе поли|3-циннамоилгндр-оксиметакрилата, продукта конденсации я-фениленднакриловой кислоты и 1,4-бис (fi-гидроксиэтокси) циклогексана, сополимера [i-циннамоилгидроксиэтилме-такрилата с метакриловой кислотой, тетраакрилата пентаэритрита, вводят небольшое количество продукта реакции ацетона, пирогаллола, 4-сульфохлорида 2-дназо-1-иафталинона; возможна добавка сенсибилизатора. Если пленку резиста экспонировать кратковременно, то успевает прореагировать только хинон-диазид, и после щелочного проявления получают позитивное изображение шаблона на подложке. Последующее более длительное сплошное экспонирование позволяет получить высокопрочную и тиражеустойчивую печатную форму. Если же первоначальное экспонирование провести длительно, чтобы прошла полимеризация ненасыщенных соединений композиции, а затем дать краткую общую экспозицию и проявить щелочью, то получается негативный высокопрочный рельеф [пат. США 4164421: пат. Великобритании 1490357]. К этой работе, по-видимому, близко примыкает и пат. США 4268602; авторы создают высокочувствительную резистную систему из преполимеров аминосодержащих ненасыщенных соединений и небольшого количества нафтохинондиазида.
Если к нафтохинондназидному фоторезисту добавить бисазид из группы применяемых в композициях для коротковолнового УФ-света (см. гл. VI), то общая светочувствительность системы падает. Однако при малых экспозициях создается позитивный, а при больших — негативный рельеф, термостойкий до 200 °С, и более стойкий к плазменному травлению, чем слой без добавки бис-азида [46].
Нитроны и фотополимеры оказываются не единственными светочувствительными компонентами, которые дополнительно вводят в хиноидиазидный фоторезист. Другие светочувствительные компоненты влияют на окраску слоя.
90
Контрастное окрашивание слоя. Желтый хинондиазнд при экспонировании обесцвечивается (см. рис. II. 1) в местах действия света, но поскольку наряду с перегруппировкой идет и разложение, слой приобретает красноватый оттенок. Однако отличие цвета таких участков слоя от исходного невелико, особенно в желтом свете. При последовательном экспонировании шаблонов (одного или нескольких) на одну пластину из-за плохого цветового контраста возникает брак вследствие неверного совмещения, повторного экспонирования, например при перерывах в работе. Кроме того, готовый резистный слой часто обладает недостаточным контрастом по отношению к подложке, особенно неокрашенной и блестящей. Для придания цветового контраста готовому слою на подложке в композицию вводят 0,2—0,6 % от массы сухих компонентов различных красителей. При проявлении они не должны вымываться из слоя. Для создания контраста сразу после экспонирования необходимо обеспечить изменение цвета красителя в местах действия света. С этой целью вводят красители-индикаторы, меняющие цвет в области рН 2,5—6,5 [пат. ФРГ 1447011], и вещества, генерирующие кислоту при фотолизе. Уже сама появляющаяся в слое при экспонировании замещенная инденкарбоновая кислота понижает рН системы, однако это понижение рН часто недостаточно для создания цветового контраста. При фотосольволизе галогенангидридов 4-сульфо-2-диазо-1-нафталинона образуется 2 моль сильной кислоты [например, пат. США 3969118; пат. ФРГ 2331377], однако слои с добавкой такого хинондиазида обладают меньшим сроком хранения:
Предыдущая << 1 .. 37 38 39 40 41 42 < 43 > 44 45 46 47 48 49 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама