Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 46

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 40 41 42 43 44 45 < 46 > 47 48 49 50 51 52 .. 139 >> Следующая

Так, слой пленочного нафтохиноидиазидного резиста РН-7 толщиной 1 мкм на пленке Аийе — Аи сушат 30 мин при 90 °С, экспонируют, проявляют, за-дубливают 45 мнн при 140 °С, травят подложку, помещают в ванну, содержа-
94
щую 49,5 % этанола, 49,5 % воды и 1 % KCl, подключают пластину к катоду, анод — стальная пластина. При плотности тока 0,5-Ю-3 А/см2 время удаления резиста 14 мин. Это более че.м в 5 раз быстрее, чем с использованием растворителей; дополнительная очистка поверхности не требуется. Метод пригоден для работы на п- и р-полупроводниках, с подслоем металла, на металле, а также в процессе взрывной фотолитографии.
II. 1.2. Композиции с веществом, генерирующим под действием света кислоту, и с циклическим ацеталем
В последние годы найдены новые светочувствительные компоненты, аналогично нафтохинондиазидам препятствующие растворению в основаниях НС и других полимеров, но после фотореакций при экспонировании гидрофилизирующие слой (см. также раздел VI. 1). Этой способностью обладают вещества со связями
\l I
уС—О—CHZ—СН— (где Z =» OAr, NRS02Ar; R =- Alk, N-фено-
тиазинил и др.), например бис-2-тетрагидропираниловый эфир бис-фенола А или 4,4'-дигидроксидифенилсульфона. Они гидролизуются кислотой, образуемой под действием света трихлорметильным производным сшиж-триазина. В результате в экспонированных местах повышается растворимость в основаниях полимера с кислотными или фенольными функциями и при проявлении создается позитивный рельеф [пат. США 3779778].
Аналогичная система может включать одно из веществ с легко гидролизующейся каталитически кислотой ацетальной группой [пат. ФРГ 2610842], например
1 /—ч О^ 7OCH(OPh)2 (Pho)2CHO^Vjx xjK J><
RCO-^~VOCH(OPh)2
(N02)C^OCH(oph)2'" L w J
где X = С(СНз)2, S02, 0(СН2)40, CH3C(CH2)2COOH и др. или карбонатным остатком [пат. ФРГ 2829512],
Я7
С2Н5
например
О
R2/Y
,0-
о
N
-R1
О—
-R1
О
замещенные ароматические и ге-
где К1 — I}9 = разнообразные алифатические, тероароматические радикалы; п = 1 4- 3
и соединение, способное под действием света генерировать кислоту: соли диазония с донорным заместителем; соли иодония, сульфония, фосфония и других катионов с анионами сильных кислот (см. раздел III. 2); нафтохинондиазид-4-сульфохлорид; полигалогенные производные, например трихлорметилпирены, 2-арил-4,6-бисхлорметил-сылш-триазины. Компоненты берут в соотношении примерно 5:1. Эту систему совмещают с полимерной основой в соотношении
95
примерно 1 :4 (по массе). В основном используется крезольная НС и смешанный полимеризат ненасыщенных соединений, содержащих кислотные функции (метилметакрилата и мётакриловой кислоты, малеинового ангидрида и стирола, винилацетата и кротоновой кислоты), добавляется немного ПВС или ПВА, модифицированных за счет гидроксильных групп, вводятся красители, пластификаторы и другие добавки. Слой композиции на подложке формируют из органического растворителя. Сушку слоя можно проводить при температуре до 120°С; в отличие от нафтохинондиазидов, достаточно светочувствительны и пригодны для обработок слои толщиной до 100 мкм. Для экспонирования могут быть использованы любые источники УФ-света и лазеры. Композиция может быть рекомендована и в качестве электронорезиста (см. раздел VII. 3.2.2), при этом применяются другие соединения, образующие кислоту. Рельеф проявляют водно-щелочным проявителем, в случае соответствующих подложек его используют для приготовления форм глубокой, высокой и офсетной печати. Для достижения тиража более 50 тыс. экз. офсетную форму прогревают до 230—240°С. Принципиально аналогичные системы разработаны в пат ФРГ 2718254 2928636; европ. пат. 0042562.
Винильный ацеталированный полимер с ММ 300—2600 в смеси со светочувствительной солью диазония дает при проявлении щелочью окрашенный позитивный рельеф [пат. США 4374193]:
но
НО
где R = Alk, N02, СООН, ОН и др.
Очевидно, кислота — продукт фотолиза диазония, гидролизует ацеталь; растворимость в щелочах полимера, таким образом, повышается как за счет разрушения ингибитора, так и в результате гидрофилизации из-за распада ацеталей. В защищенных от света участках при щелочной обработке диазоний отверждает полимер и в результате сочетания с фенольным компонентом образует краситель.
II. 1.3. Композиции с фотоокислителем и дигидропиридином
Светочувствительная система, разработанная фирмой Dupont (США) [пат. США 4271260], состоит из замещенного 1,4-дигидро-пиридина, например 2,4,5-триметил-3,5-дикарбэтокси-1,4-дигидропи-ридина или 4-пропильного аналога, и гексаарилбисимидазола, например 2-(2-хлорфенил)-4,5-дифенилбисимидазола, взятых в соотношении 1:2 (по массе). Эта система препятствует растворению в основании НС, смешанных полимеризатов ненасыщенных соеди-
90
нений, имеющих кислотную функцию, например Смеси сополимера этилакрилата, метилметакрилата и акриловой кислоты (молярное соотношение 55:40: 15, ММ 26000) и сополимера стирола и малеинового ангидрида (молярное соотношение 5:5), взятых в массовом соотношении 1 :3,5. В композицию вводят примерно поровну (по массе) светочувствительные и полимерные компоненты; добавляют около 10 % от общей массы инертного полимера, например полизтиленоксида. При экспонировании тонкого слоя композиции, вероятно, идет окисление радикалами триарилимидазола дигидро-пиридина до пиридинового производного. Примеры радикального окисления дигидропиридинов хорошо известны в литературе [47]. Радикал триарилимидазола восстанавливается до аниона имида-зольного производного, который при протонировании дает замещенный имидазол. В результате в экспонированной части образуются гидрофильные имидазольные и пиридиновые производные, которые уже не мешают растворению полимера в проявителе — водном карбонатно-бикарбонатном растворе.
Предыдущая << 1 .. 40 41 42 43 44 45 < 46 > 47 48 49 50 51 52 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама