Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 49

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 43 44 45 46 47 48 < 49 > 50 51 52 53 54 55 .. 139 >> Следующая

При катионной сополимеризации стирола и 2-(о-нитрофенил)-1,3-диоксолана был получен сополимер с соотношением звеньев 18:28. Поскольку о-нитрофенильная группа связана здесь непосредственно с основной цепью полимера, можно было ожидать в результате индуцированного светом редокс-процесса распада цепи и соответствующего понижения ММ; к сожалению, ни того, ни другого не наблюдалось [56]:
И V
в соотношении 18 ! 28
В пат. США 3991053 описаны термически стабильные полигидр-оксиметиленовые полимеры, для которых также можно было ожидать расщепления цепи при фотолизе:
-CHR—(СН2)„—CHR'-O—CR"R'"-
где R и R' = о-нитрофеннльные илн полиннтрофеннльные группы; R" н R'"= Н нлн Alk С; — С4.
Действительно, при экспонировании на окисленном алюминии слоев этих полимеров наблюдался редокс-процесс и образовывались низкомолекулярные фрагменты; их дальнейший распад ускоряется нагреванием до 170 °С, при этом проявление рельефа лучше всего достигается 20%-ным раствором КОН в изопропиловом спирте при комнатной или повышенной до 70°С температуре. Получают позитивный рельеф, используемый для создания печатной формы в полиграфии. Из-за образования альдегидных функций при распаде полимера экспонированный слой дает реакцию серебряного зеркала с реактивом Толленса, образуется позитивное металлическое изображение, которое, в частности, может быть катализатором омеднения из восстановительной ванны.
В пат. США 4086210 и франц. пат. 2351435 получены полиаце-тали о-нитробензальдегида и ряда гликолей HOROH [57], где R равно:
СН.
102
Полиацетали ацйлировали по концевым группам бензоилхло-ридом, терефталоилхлоридом. Некоторые из полимеров оказались слишком вязкими для того, чтобы образовывать пленки, другие были нанесены из растворов на поверхность алюминиевых пластин. При экспонировании и проявлении органическим растворителем были получены позитивные рельефы, полимерная часть которых хорошо воспринимала печатную краску. В качестве сенсибилизатора применялся ксантон, он в несколько раз увеличивал светочувствительность слоя. Образование изображения возможно благодаря фотораспаду полимеров по следующей схеме:
НО-
О
^-он
I + HOROH
| Несколько I стадий 1 распада
NO
//. 2.2.3. Другие превращения
Известно, что нитрозосоединения (но не их димеры) ингиби-руют радикальную полимеризацию ненасыщенных соединений (например, [58]). Именно поэтому Небе [пат. Великобритании 1448047, 1480297; пат. США 4029505] предложил вводить нитрозодимеры в фотополимеризующиеся композиции, имеющие обычные области применения. При экспонировании светом с длиной волны до 380 нм в местах фотолиза образуются соединения, препятствующие полимеризации— создается «фоторезерв». Предполагается, что это мономерные нитрозосоединения, хотя это установлено не во всех случаях. Последующее сплошное облучение светом с длиной волны более 380 нм (и поэтому не дающим мономера нитрозосоединения) отверждает композицию на остальных участках. Проявление позитивного изображения шаблона достигается использованием растворителей, а также тонеров, которые адсорбируются только на незаполимеризованных участках слоя. Рекомендуется большой список димеров нитрозосоединений, вводимых в композицию в количестве до 10%, среди них предпочтительны ароматические производные, поглощающие при 320—380 нм, и в частности, приведенные ниже: (С6Н5СН=СНШ)2; (л-грег-С4Н9С6Н4СН=СНМО)2
N
\ /
N=N
/ \ О О
а>
N
02N-
СН3
NO
СН8 J
103
2
Эта область спектра пропускается полиэтилентерефталатной пленкой — обычным материалом для изготовления пленочных ре-зистов. Как основа для создания полимерной части слоя применяются различные акрилатные мономеры и олигомеры. Для инициирования фотополимеризации применяется большой набор разнообразных веществ, в частности карбонильные соединения, например 2,7-ди-трег-бутилфенантренхинон.
Поскольку нитрозосоединения образуются при фоторедокс-про-цессе рассматриваемых в этой главе о-нитросоединений ароматического и гетероароматического рядов, очевидна возможность их использования в аналогичной разработке. В системе Небе образование мономера нитрозосоединения из димера термически обратимо, поэтому второе экспонирование следует проводить непосредственно после первого; выбирают такие нитрозосоединения, которые медленнее димеризуются. Образование же нитрозосоединений при фотолизе о-нитросоединений необратимо, что дает преимущества перед системой Небе.
Для фотополимеризации ненасыщенных соединений требуется добавка инициатора, например фоторедокс-системы с красителем. Если в такую композицию вводить производные 5-нитро-о-толуило-вой кислоты, то в местах, экспонированных УФ-светом, полимеризация подавляется, по-видимому, в результате образования нитро-зопроизводных. Видимый свет отверждает остальные участки слоя [пат. США 3556794].
В пат. США 4198242 и европ. пат. 0103197 к ненасыщенным соединениям — акрилатам полиолов, акрилоильным производным полиаминов, виниловым эфирам дикарбоновых и дисульфокислот — добавляют до 0,7 % о-нитропроизводного; предлагается ряд ингибиторов— резервантов, среди них о-нитробензиловый спирт, 0-НИТ-робензальдегид, о-нитростирол и их 4,5-диметоксипроизводные; 2,4-динитробензальдегид, 2-нитрокумол и др. Для повышения растворимости резервантов в воде заместители в их ароматических ядрах могут содержать карбоксильные или гидроксильные группы. Фотоинициаторами полимеризации служат производные кетонов, хи-нонов (фенантренхннон); димеры 2,4,5-триарилимидазола + донор водорода + сенсибилизатор, поглощающий в видимой области спектра; эфиры бензоина и др. Вводится инертная полимерная добавка, например, ПММА, сополимеры метилметакрилата и акриловой кислоты и др. Композицию наносят на подложку с помощью растворителя. Первое экспонирование через шаблон осуществляется светом с длиной волны от 200 до 380 нм, меньшие частоты не мешают экспонированию, возможно использование при этом и покровной терефталатной пленки, поскольку она пропускает доста-
Предыдущая << 1 .. 43 44 45 46 47 48 < 49 > 50 51 52 53 54 55 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама