Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 63

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 57 58 59 60 61 62 < 63 > 64 65 66 67 68 69 .. 139 >> Следующая

При фотолизе солей триарилсульфония и диарйлиодония образуются радикалы [12, 15], поэтому возможно инициирование и радикальной полимеризации [пат. франц. 2457511]. В пат. США 4245029 предлагается полимеризовать с помощью фотолиза солей триарилсульфония эпоксиды, содержащие ненасыщенные группировки, например глицидилакрилат, а также более сложные композиции из ненасыщенных и эпоксидированных соединений. При этом сокращается время отверждения, а полимеры приобретают более широкий комплекс ценных свойств по сравнению с теми, которые были получены только в результате радикальной полимеризации без участия эпоксидов к композиции. С другой стороны, патентуются композиции, которые содержат кроме солей триарилсульфония и фотосенсибилизаторы радикальной полимеризации [пат. США 4227978]. Вероятно, оба инициатора действуют независимо. Недавно найдено, что разнообразные гомологи и кетали бензоина,
5*
131
130
ароматические кетоны типа бензофенона и хиноны в присутствии доноров водорода и некоторые комплексы с лигандом-оксалатом действуют как химические сенсибилизаторы в соответствии со схемой:
Ну,
СенсХ—У ->• X • + У •
Х. + Аг„г+ --»- кгп2. —» Аг„_,2 + Аг.
-х4
Сенсибилизатор поглощает свет, давая радикалы. При термопереносе электрона к ониевым солям снова возникают катион и радикал, которые в результате вторичных реакций инициируют радикальную и катионную полимеризацию, — «бивалентные фотоинициаторы» [9, 36].
Многие факторы влияют на относительную реакционноспособ-ность мономеров; оказалось, например, что эпоксидированные ди-олефины более активны, чем аналоги, содержащие, кроме того, ацетальные и эфирные связи, а последние активнее диглицидило-вых эфиров [11]. Системы на основе эпоксимономеров с аминогруппами для инициирования полимеризации, кроме фотолиза, надо еще и нагревать, так как амин связывает кислоту НХ — продукт фотолиза инициатора.
Для фотоотверждения толстых (до 1,3 см) слоев эпоксидов или смесей эпоксидов с алканолами или их эфирами применяют [пат. США 4173476] специально полученные соли триарилсульфония с арилмеркаптогруппой в одном ядре; позднее синтез этих солей усовершенствован [12; пат. США 4247472, франц. пат. 2476078]:
C6H5S4 /S(C6H5)2 Y"
где X = F или ОН; R — R'" = Н, AlkCi —С4, Alkoxyl d — С4, Hal; Y- = = комплексный аннон.
В композицию вводят до 1,25% (от массы мономера) новой соли сульфония; такие соли можно применять и для отверждения тонких слоев. Наблюдается при этом инверсная корреляция между толщиной отверждаемого слоя и концентрацией инициатора.
Рекомендуются как фотоинициаторы катионной полимеризации соли тиапирилия [34], но они менее активны, чем соли триарилсульфония; соли ксантилия мало стабильны. Очевидно, в ряду (Илей гетерокарбониевых ионов может быть получено и изучено много различных новых соединений, часть из которых, по-видимому, могла бы представить и практический интерес.
Рекомендуемые композиции кроме мономера (олигомера), фотоинициатора и сенсибилизатора могут содержать раствори-
тели, наполнители, влияющие на вязкость добавки и т. д. [пат. США 4247472]. При использовании солей триарилсульфония вводят специальные добавки, снимающие неприятный запах сера-органических соединений — алкилциннаматы, кумарин, 2-бу-тен-1,4-диол, гранс-4-фенил-3-бутен-2-он и др. [пат. США 4218531, 4324679]. Совмещение компонентов может осуществляться с помощью растворителя; если олигомер или смола твердые, введение ониевой соли в полимер проводят путем сухого размалывания или при плавлении смолы. Наносить композиции можно на любые подложки.
Скорость полимеризации при фотоинициировании растет с ростом температуры, однако достаточно быстро полимеризация протекает и при отрицательных температурах. Варьируя режим фотолиза, температуру можно несколько регулировать скорость полимеризации [пат. США 4058401]. После прекращения засветки полимеризация еще некоторое время продолжается; например, с солями триарилсульфония и тетрагидрофураном при комнатной температуре еще в течение нескольких часов; ММ полученных полимеров превышает 1 ООО ООО. На основе эпоксидов и солей диа-рилиодония можно создать активный адгезив, если композицию с красителем-сенсибилизатором осторожно фотолизовать на поверхности; прочная связь с накладываемым поверх фотолизата слоем образуется в темноте за несколько часов благодаря медленно протекающей вслед за фотолизом темновой полимеризации [заявка Великобритании 2065124].
Для получения фоторезистных масок для радиоэлектроники, микрорельефов, печатных форм на подложку для последующего фотолиза наносится композиция из фотоинициатора, мономера (олигомера), растворителя и других добавок. При этом вместо готового гексафторарсената, -стибата, -фосфата ониевого иона можно вводить синтетически доступную соль с более простым анионом и гексафторфосфат, -стибат, -арсенат натрия, аммония, калия и т д [пат. США 4154872]. Составы конкретных композиций приведены в пат. США 4264703, 4175973, 4069055, 4081276. Интересна разработка, в которой на слое соли сульфония конденсируют пары мономера и полимеризация протекает на фотолизован-ных участках слоя. Описаны пленочные резистные композиции [пат. США 4193799], в частности, на основе ПВС и сшивающего компонента типа триметилолмеламина, диметилолмочевины и т. д. [пат. США 4341859].
Предыдущая << 1 .. 57 58 59 60 61 62 < 63 > 64 65 66 67 68 69 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама