Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 64

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 58 59 60 61 62 63 < 64 > 65 66 67 68 69 70 .. 139 >> Следующая

Глава IV
НЕГАТИВНЫЕ АЗИДСОДЕРЖАЩИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ
При поглощении света молекулами органических азидов основным химическим процессом является образование нитренов и выделив молекулярного азота:
132
Эта реакция эффективно протекает как для алифатических, так и для ароматических азидов, квантовые выходы их фоторазложения достигают 0,7—1,0 [1,2].
Высокая реакционная способность фотогенерируемых нитренов обусловливает их взаимодействие с различными химическими связями органических соединений как в растворах, так и твердых полимерных средах. Облучение азидсодержащих полимерных слоев чаще всего приводит к структурированию полимерных матриц, что сопровождается резкой дифференциацией растворимости облученных и необлучениых участков, последнее определяет возможность получения дискретного рельефа на разных подложках [3—5].
Азидсодержащие светочувствительные составы создаются на основе ароматических или гетероароматических азидов, полимеров или олигомеров и растворителей различной полярности. Среди структур арилазидов, применяемых в фотолитографической практике, можно выделить соединения, поглощающие в области 250—300 им и используемые в фоторезистах коротковолнового УФ-света; соединения с развитой системой сопряжения, чаще других бис(азидобензилиденовые) производные кетонов, поглощающие в области максимальной эмиссии ртутных ламп среднего и высокого давления 310—440 нм; диазиды, включающие систему конденсированных ядер с поглощением до 600 нм, пригодные для проекционной фотолитографии. Введением сульфо-, гидрокси- или карбоксильных групп в ароматические ядра светочувствительным азидам придается водорастворимость.
В полифункциональных фоторезистах, например использующих полученный фоторельеф для создания контактных площадок или последующей высокотемпературной диффузии, описано применение в качестве светочувствительных компонентов элементоргани-ческих арилазидов, их поглощение может лежать в области 250—400 нм. В качестве полимерной основы слоев могут быть использованы бутадиен-стирольный, хлоропреновый и натуральный каучуки; циклокаучуки, полученные циклизацией полиизопрена, полибутадиена, полигексадиена в присутствии различных катализаторов; полн-4-метилизопропенилкетон; феноло- и крезоло-фор-мальдегидные смолы. В водорастворимых слоях используют смеси ПВП и ПВС; сополимеры акриламида, диацетонакриламида и различных виниловых мономеров; поли-4-винилфенол, полиакрил-амид, желатину, гуммиарабик, камеди. Для придания слоям повышенной термостойкости добавляют полиамидокислоты с последующей имидизацией или вводят, например, в циклокаучуки трифторметильные группы. Растворителями служат толуол, ксилол, циклогексанон, их смеси; часто используют такие «сильные» растворители как ДМАА, ДМФА, дихлорэтан; для композиций, содержащих водорастворимые азиды, применяют различные спирты, водный метилэтилкетон.
Особенностью "азидсодержащих систем является их способность сохранять или улучшать основные фототехнические характеристики резиста (пороговая и рабочая светочувствительность, контрастность,
134
разрешающая способность) при целенаправленном введении в композиции различных добавок, иногда в значительных количествах, изменяющих те или иные эксплуатационные параметры слоев. Круг дополнительных компонентов для фоторезистов азидного типа значительно шире, чем для других систем; он включает сенсибилизаторы, красители, адгезионные, флуоресцентные, противоореольные добавки, кислотостойкие или стабилизирующие добавки, вещества, увеличивающие скорость проявления. Кроме них могут быть введены в резист несветочувствительные соединения, имеющие поглощение в полосе азида с целью поддерживания экстинкции до и после экспонирования на одном уровне. В зависимости от назначения фоторельефа ряд добавок может быть введен в проявитель; например, для создания полимерных масок высокой оптической плотности проявитель может быть специально подкрашен. После проявления иногда вводится дополнительная обработка растворителем для того, чтобы убрать вуаль. В то же время известны и нашли промышленное применение однокомпонентные (по реагирующему компоненту) материалы, в которых арилазид химически связан с полимером; для них нехарактерно введение добавок.
Азидсодержащие светочувствительные композиции находят применение почти во всех производствах, использующих фоторельефы— от флексографических форм до сверхбольших интегральных полупроводниковых схем субмикронного разрешения. Их включают в некоторые рвзисты сухого плазменного проявления. На основе азидов разработан ряд промышленных марок фоторезистов, например: ФН-11, ФН-11к, ПЦГД (СССР), VUP-I, VUP-II, VUP-III, SCR-1, SCR-2, SCR-3 (ЧССР), KMER, KTFR, Kodak-747 (Kodak, США), Waycoat-IC, -HR, -CR (Hunt, США), OMR-83, OMR-85, ONNR-20, ONNR-22, ОДИ1М10Р, ОДВД-120, CIR-707, MRS (ТОК, Hitachi, JSR и др., Япония) [4], Photozid (Upjohn, США) и др.
IV. 1. ФОТОХИМИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА АРИЛАЗИДОВ
Основная наиболее интенсивная полоса в электронных спектрах арилазидов соотносится с я—я*-переходом (lge^4) в исходных углеводородах. Несмотря на то что замещение азидогруппой в арильном ядре изменяет симметрию молекулы, общие черты спектров исходных углеводородов сохраняются [5, 6]. В арилазидах на длинноволновом участке полос п—я* имеется низкоинтенсивное плечо п—я*-перехода, иногда оформляющееся и в слабую полосу, например, при 285—300 нм в спектрах 3-азидобифенила или три (ле-азидофенил) фосфиноксида.
Предыдущая << 1 .. 58 59 60 61 62 63 < 64 > 65 66 67 68 69 70 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама