Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 70

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 64 65 66 67 68 69 < 70 > 71 72 73 74 75 76 .. 139 >> Следующая

146
личные функциональные группы. Включение в молекулу цйклоизо-прена атомов хлора, карбоксильных групп и других реакционно-способных центров придает фоторезистному слою ряд дополнительных ценных эксплуатационных свойств: повышает его светочувствительность, термостойкость, адгезию к подложке и т. д. С целью повышения светочувствительности были специально синтезированы различные циклокаучуки. Так, цыс-1,4-циклополибута-диен, полученный циклизацией полибутадиена при 20 °С в присутствии системы дихлорид этилалюминия — трихлоруксусная кислота в разбавленном растворе (6-Ю-3 моль/л), оказался весьма подходящим для создания фоторезистов; композиция включает диазид II. Эти слои обладают прекрасной адгезией к различным субстратам, их светочувствительность втрое превосходит светочувствительность слоев на основе циклополиизопрена; разрешение фоторельефа достигает 1,6 мкм.
Циклополибутадиеновые композиции более термостабильны, чем циклополиизопреновые: пленка фоторельефа выдерживает термообработку при 250 °С. Термогравиметрическим анализом было показано, что циклизованный полибутадиен разлагается при температурах, на 80 °С превышающих температуру разложения циклополиизопрена [43].
Для повышения термостойкости слоев разработана композиция, состоящая из диазида I, циклокаучука и конъюгированного диена, содержащего карбонил (или потенциальный карбоксил) [заявка Японии 59—13237]. Композиции, включающие циклокаучуки, устойчивы продолжительное время только до 180 °С. Предлагается [заявка Великобритании 2049211; франц. пат. 2455304; пат. ФРГ 3014261; пат. США 4294908] в обычные композиции негативных азидсодержащих фоторезистов, содержащих, например, диазид I или II, 4,4'-диазидостильбен, 4,4'-диазидобензофенон, включать в качестве основы слоя модифицированные циклокаучуки, полученные циклизацией в присутствии фторсодержащих производных сульфокислот CFnH3_nS03X или CFnH3_nS02Y (где X = Н, Alk или CF„H3_nS02; Y = Hal, п = 1, 2, 3) полимеров с основной цепью следующей общей формулы:
Для циклизации могут быть использованы, например, полимеры и сополимеры цис- и траяс-1,4-бутадиена, 1,2-пентадиена, цис-и 7т?аяс-1,4-изопрена, 2-фенил-1,4-бутадиена. Дополнительно в светочувствительные композиции вводят триплетные сенсибилизаторы. По сравнению с фоторезистами на основе циклополиизопренов
»47
эти композиции выдерживают термообработку после экспонирования при 250°С, причем после травления заметно уменьшается число проколов в слое.
В 1981 г. была предложена арилазидная композиция [пат. США 4287294; пат. ФРГ 2919841] специально для получения термостойких рельефных структур на полупроводниковых материалах, при этом в качестве светочувствительного агента используется ази-досульфофенилмалеинимид, а термостойким пленкообразующим компонентом слоя являются полиамиды карбоновых кислот; растворителем служит смесь диметилацетамид — диоксан (1 : 1). Этот фоторезист образует на алюминиевой фольге сшивающийся слой толщиной 6 мкм, после проявления [проявитель — смесь у-бутирол-актон —толуол (1:1), 16 с] разрешение 10 мкм, структура полученного рельефа полностью сохраняет размеры изображения и абрис углов после термообработки при 340 °С в течение 1 ч. Слой обладает хорошими электроизоляционными свойствами и может быть использован в качестве межслойной изоляции.
Термостойкие фоторезисты с такими же электроизолирующими свойствами созданы при введении в композицию, приготовленную на основе соли алкенилированного амина полиамидокислоты европ. пат. 0065353], диазидобензилиденовых или диазидоциннама-лиденовых производных циклокетонов. После экспонирования слой проявляют смесью М-метил-2-пирролидон — этанол (5:1). Получены элементы с размером 2 мкм. Полимер имидизируют при дальнейшей термообработке.
Композиции, содержащие диазид I, помимо циклополиизопре-нов или циклополибутадиенов могут включать и полициклогекса-диен при обычном соотношении компонентов [а. с. СССР 651298], а также циклизованные производные гомо- и сополимеров конъ-югированных диенов [европ. пат. 0068808].
Широко используемый путь улучшения качества азидсодержа-щих фоторезистивных композиций — введение в слои различных мономерных добавок.
Сохранение размеров изображения, задаваемого фотошаблоном, в большой степени зависит от того, насколько уменьшен эффект стоячих волн, возникающих в слое фоторезиста при отражении света от подложки. Считается, что для точного воспроизведения размеров изображения, заданного фотошаблоном, важно сохранить значения поглощения света композиций во все время экспонирования, несмотря на падение по мере облучения оптической плотности собственно диазидного компонента. С этой целью в фоторезисты вводят соединения, повышающие экстинкцию всей системы в целом. Предлагается [пат. США 4287289, 4268603; заявка Японии 53—151842] в обычные композиции резистов вводить моно- и бисазокрасители, обладающие высокими коэффициентами экстинкции в области 330—430 нм, следующих формул:
RR'C6H3N=NC6H4NR"R'": rR"R"'NC6H3R""N=NC6H2RR'—b(0)„
R, R' = H, OH, Alk, Alkoxyl; R", R"' = Alk, Azalk, Alkoxyl; n = 0, 1.
Предыдущая << 1 .. 64 65 66 67 68 69 < 70 > 71 72 73 74 75 76 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама