Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 71

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 65 66 67 68 69 70 < 71 > 72 73 74 75 76 77 .. 139 >> Следующая

148
Так, в фоторезист OMR-83, содержащий циклокаучук и диазид I, вводят 1-этокси-4-(4-М,1М-диэтиламинофенилазо)бензол. Эта композиция, нанесенная на кремниевую подложку толщиной слоя 1 мкм, выдерживает 20-минутный нагрев перед экспонированием (60 или 80 °С) без заметного снижения поглощения слоя. После проявления слой обеспечивает разрешение 2,5 мкм и точно воспроизводит рисунок элементов шаблона.
В качестве противоореольных добавок предлагается включать в слой из циклокаучука и диазида I флюоресцирующий компонент, например, М,М-замещенные азометинов на основе фенилендиами-нов или гидразинов:
[RR'C=N—Ь(А)П или RR'C=NR"
А = фенилен; R = Ar или 2-арилэтилен! R' = Н, Alk, Ar; R" = Ar; n — 0 или 1.
Уменьшая светорассеяние в слое, эти добавки способствуют более полному структурированию экспонируемых участков [заявка Японии 55—34931]. Обычно при проявлении азидсодержащих фоторезистов уменьшение исходной толщины слоя может составлять до 50%. В результате введения добавок замещенных азометинов толщина слоя уменьшается не более, чем на 10%, что в свою очередь улучшает кислотостойкость рельефа при травлении.
Разрешение, достигаемое в позитивных фоторезистах на основе феноло-формальдегидных смол, выше, чем в составах на основе каучуков и циклокаучуков. Кроме того, при проявлении этих составов водными растворами снижается токсичность материалов и пожароопасность производства. НС в ряде случаев является основой азидсодержащих фоторезистов. Именно с НС были использованы в качестве светочувствительных компонентов азидопирены [44]. Фотолиз азидопирена в феноло-формальдегидной смоле наряду с резким снижением растворимости смолы дает сине-зеленое окрашивание. Увеличение гидрофобности засвеченного слоя и изменение окраски обусловлены появлением хиноидных структур при реакциях нитренов с фенольными группами смолы [45]. Хи-нонимины были идентифицированы в экспериментах на модельных мономерных фенолах.
Разработаны светочувствительные составы водно-щелочного проявления на основе поли-4-винилфенола и 3,3'-диазидодифенил-сульфона (MRS) [4, 22]. Азидофенольные смолы используются в фоторезистах (например, MRL), высокая чувствительность которых сравнима со светочувствительностью позитивных составов. Эти фоторезисты отличаются и значительной разрешающей способностью, более высокой, чем у составов на основе циклокаучука [22].
При разработке щелочерастворимых композиций [пат. США 4148655; пат. Великобритании 1594030; заявка Японии 56—23144] основное внимание уделяли совершенствованию состава смол. Пленкообразующим компонентом служат НС, получаемые кислотной конденсацией формальдегида с замещенными фенолами, причем
149
при синтезе используется не менее диух фенолов. НС позволяет получить фоторельеф, удобный как для применения в полиграфических формах в качестве печатающих элементов, так и для защиты при глубинном травлении подложки. Светочувствительными компонентами, помимо обычно применяемых диазидов, служат азиды на основе гетероциклов, например 2-(4-азидофенил)-б-метил-бензотиазол, 2-(4-азидофенил) нафто[1,2-с?]оксазол-4,5. Содержание светочувствительного компонента и композиции определяется назначением фоторезиста, чаще всего оно составляет от 10 до 30 % к массе полимера, т. е. значительно выше, чем в слоях на основе циклокаучуков. Эти композиции отличаются высокой светочувствительностью и стабильностью свойств: после 6 мес хранения не изменилась ни светочувствительность, ни длительность проявления слоев. Для фоторезистов же, содержащих нафтохинондиазиды, это предельный срок хранения.
Составы, содержащие эпоксидированные НС, поли-гс-винилфе-нол и 3,3'-диазидодифенил, применяют в качестве верхнего несущего изображения слоя, в трехслойных фоторезистных системах (см. гл. VIII) [39].
Диазобензилиденовые производные кетонов и циклокетонов используются в композициях на основе НС, полиамидов в ряде других полимеров. Так, состав, содержащий диазид I и НС в смеси метилэтилкетон — толуол (1:1) [пат. США 4287297], разработан для нанесения на пленку из ПЭТФ. Материал используется для приготовления печатных схем и печатных плат. В качестве резистов для коротковолнового УФ-света с поглощением в области 250— 300 нм предложено использовать композиции крезоло-формальде-гидных смол (ММ 500—6000) с 1,2-ди(я-азидофенил) этаном или ди(гс-азидофенил)метаном [пат. ФРГ 3125572]. Достигнуты размеры элементов порядка 0,85—0,9 мкм (см. также раздел VI. 1).
Сдвиг поглощения светочувствительной композиции в область максимальной эмиссии металло-галогенидных ламп достигается использованием в них арилазидов, имеющих цепи сопряжения различной длины (халконовых, азометиновых, стирильных производных арилазидов). Так, предложенная в пат. ФРГ 1597614, композиция содержит азидохалконы общей формулы:
N3RC6H3CX=CH—(СН=СН)„—COC6H5-mR'm
R = H, Hal, Alkoxyl, R'= OH, N02, S02NH2, S02N3; X = H, Hal, m=l,2: ft = 0,1.
Азидная группа находится в 3- или 4-положении бензольного цикла. В зависимости от используемых заместителей максимум поглощения этих соединений лежит в области 314—394 нм. В качестве пленкообразующей основы используют сополимеры стирола с малеиновым ангидридом или винилаиетата с кротоновой кислотой, НС или продукты конденсации фенола и формальдегида с производными целлюлозы, например этилцеллюлозой. Все эти композиции растворимы в эфирах гликолей, в ДМФА при 20 °С и в 3%-ном водном растворе NaOH. Необходимо отметить очень вы-
Предыдущая << 1 .. 65 66 67 68 69 70 < 71 > 72 73 74 75 76 77 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама