Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 73

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 67 68 69 70 71 72 < 73 > 74 75 76 77 78 79 .. 139 >> Следующая

Улучшение условий формирования прочной пленки и ее расте-каемости по поверхности, регулирование летучести растворителя и уменьшение вследствие этого неровностей, снижение поверхностного натяжения достигается введением в водорастворимую композицию высоковязких двух и трехатомных спиртов: этиленгликоля, глицерина и др. [пат. США 4254197, пат. ФРГ 2439433]. Их вводят в композицию в 5 раз меньше, чем растворимых твердых спиртов. В качестве полимеров можно использовать ПАА, его смеси с ПВП (1 : 1) или смеси ПВП с желатиной (1,5: 1). Для улучшения адгезии к подложке в композицию добавляют 0,02 ч. Y-fN-p-аминоэтиламино]пропилметилдиэтоксисилана.
Чаще всего арилазиды используются в негативных светочувствительных композициях. Однако существуют разработки, в которых предлагается использовать арилазиды, содержащие гидро-ксильные, карбоксильные или сульфогруппы, в композициях, образующих позитивное изображение [пат. Великобритании 1520466, заявка Японии 49—116907]. При этом позитивный материал включает полиамид типа капрона, растворяющийся в водном растворе Щелочи. Например, гомо- или сополимеры капролактама или гек-саметилендиаминовой соли адипиновой или себациновой кислоты с ММ 10000—50 000 [—N(CH2OR)CO—]„ или [—N(CH20)pRCO]„, где R, например, N-метоксиметилполигексаметиленадипамид. Эти полиамиды спирторастворимы, эластичны и образуют механически прочные пленки. Содержание арилазида в слое до 30%. Рекомендуются моно- и диазиды: 4-азидобензоилкарбоновая или сульфо* кислота, диазид III, 4-азидобензальацетофенон-2-сульфокислота, 1-(4-азидо-2-гидроксифенил)-5-(4-азидо-2-сульфофенил)-3-оксо-1,4 -пентадиен. Все эти композиции характеризуются значительно большей растворимостью в щелочи после экспонирования. По мнению авторов [пат. Великобритании 1520466] диазид III не требует введения сенсибилизаторов в полиамидный слой, при использовании Моноазидов композиция сенсибилизируется с помощью 2-бензоил-метилен-3-метил-р-нафтотиазолина или пирена.
Кроме того, позитивная композиция может включать красители, например, Жирорастворимый синий (C.I. 74350). Если необходимо
153
увеличить толщину элементов фоторельефа, состав может быть дополнен инертным наполнителем, например, поливинилбутиралем; растворителем является спирт, например смесь пропилового и метилового спиртов (1 : 1). Эта композиция может быть использована и в двухслойном варианте, причем нижним слоем может служить состав, содержащий о-нафтохинондиазид, который также становится щелочерастворимым после экспонирования. В качестве растворителей хинондиазидного слоя применяют эфиры (моноэтиловый или метиловый эфиры этиленгликоля, бутилацетат и др.), кетоны (метилизобутилкетон, циклогексанон), диоксан, пиридин, ДМФА. Фоторельеф может быть проявлен с помощью 7%-ного водного раствора силиката натрия. При использовании в печатном процессе такого фоторельефа, полученного, например, при двухслойном нанесении на алюминиевую подложку, удается получить свыше 200 тыс. оттисков высокого качества, в то время как слой на основе о-нафтохинондиазидов позволяет получить их не более 100 тыс. При нанесении композиции на полиэтилентерефталатную подложку можно изготовить высококачественные позитивные фотошаблоны. Структуры диазидов на основе кетонов, циклокетонов или стильбендисульфокислоты оказались настолько удобными для очувствления полимерных слоев, что кроме их азидопроизводных было рекомендовано использовать в водорастворимых слоях их невзрывоопасные амино- или нитропроизводные. Так, в пат. США 4299910 предложено использовать
М = К, N3; А. В = гШ2, N02.
В качестве пленкообразующей основы используется смесь ПВП и ПАА (41:53). В спектре поглощения соединения, в котором А = В = ЫН2, Ямакс 355—360 нм; введение и слой 1,9 % от массы полимера этого соединения начальная оптическая плотность при Ямакс составляет 1,16, через 15 мин экспонирования — 0,75, а через 230 мин — 0,42. Водорастворимые композиции включают преимущественно гидроксил- или аминосодержащие полимеры, что обусловливает их невысокую кислотостойкость. На скорость фотосшивания этих слоев оказывает влияние кислород.
Диаминобензилиденовые производные кетонов
предложены [европ. пат. 0068808] в композициях на основе различных циклокаучуков и диазидов с добавлением обычных трип-летных сенсибилизаторов,
154
IV. 4. ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ АЗИДОПОЛИМЕРОВ
Использование азидополимеров в светочувствительных композициях представляется перспективным благодаря гомогенности светочувствительных слоев, получаемых на их основе. Кроме того, наличие азидогрупп в самом полимере облегчает его структурирование при облучении. Композиции резистов состоят, кроме полимера, из растворителя, иногда из сенсибилизатора и красителя; возможны добавки других инертных полимеров. Светопоглощение применяемых азидополимеров лежит в основном в области 250— 300 нм. В настоящее время такие композиции могли бы найти применение как материалы для коротковолнового УФ-света.
Первые азидополимеры появились еще в начале 1950-х годов. Одним из них был поли-4-азидостирол. В азидополимере азидо-группа химически связана через атом углерода с основной цепью или с боковой группой. Способность ПВС образовывать ровные жесткие пленки с твердой поверхностью, возможность использовать воду или водные растворы солей при формировании покрытия на поверхности, естественно, привлекали внимание к созданию светочувствительных композиций на основе ПВС. Однако ряд диазидов, в частности диазид III, плохо сшивают слои на основе ПВС. Поэтому вопросы его химической модификации, синтеза различных карбоцепных азидополимеров с гидроксилами в главной цепи являются весьма актуальным при создании азидсодержащих резист-ных составов. Азидополимерные фоторезисты аналогично рассмотренным в этой главе составам, содержащим мономерные азиды, характеризуются стабильностью как при хранении в растворе, так и в слое.
Предыдущая << 1 .. 67 68 69 70 71 72 < 73 > 74 75 76 77 78 79 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама