Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 76

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 70 71 72 73 74 75 < 76 > 77 78 79 80 81 82 .. 139 >> Следующая

Длительное облучение циклодимеризованных полимеров приводит к их деструкции [14], увеличивая растворимость облученных участков по сравнению с неэкспонированными и позволяя таким образом изменить тип фоторезиста на позитивный.
Благодаря циннамоильной группе поливинилциннамат поглощает в области 270—320 им (Ямакс = 275 нм) с длинноволновой границей 330 нм. Желательное в условиях практического применения смещение поглощения в область 360—440 и даже 500 нм, например в составах для проекционной печати, достигается введением сенсибилизаторов.
Циклоприсоединение в растворах ненасыщенных мономеров ускоряется в присутствии синглетных и триплетных сенсибилизаторов. Они же используются в слоях поливинилциннамата и других фотодимеризующихся систем такие типичные триплетные сенсибилизаторы, как кетон и тиокетон Михлера, 5-нитроаценафтен, Ы-ацетил-4-нитро-1-нафтиламин и Эозин [15, 16]. Следует отметить широкое использование производных бензотиазолина, например 2-бензоилметилен-З-метил-В-нафтотиазолина [17]; пат. Великобритании 743455, фоторезист КРИ], а также галогензамещенных бензантронов [пат. США 4083725; пат. Великобритании 1450630]; ряд авторов [16—19] ссылается на эффективное использование 9-метил-1,3-диаза-1,9-бензантрона, повышающего относительную светочувствительность поливинилциннаматной композиции почти в 500 раз по сравнению с несенсибилизированным составам. Описано включение индолинобензоспиропиранов [пат. ФРГ 2230936; пат. США 4225661].
В литературе существуют представления о том, что сшивание поливинилциннаматов может быть обусловлено взаимодействием свободных радикалов, возникающих в результате раскрытия этиленовой связи циннамоильной группы при УФ-облу-чении [20, 21]:
162
Подтверждение этого предположения видят в том, что радикальные инициаторы — пирилиевые или тиапирилиевые соли [пат. Великобритании 249219, фоторезист KOR] повышают светочувствительность таких фоторезистов; например, минимальная интегральная светочувствительность Eg (в Дж/см2) таких составов на порядок выше, чем составов, содержащих другие типы сенсибилизаторов:
Несенснбнлизированный поливннилцинна- 7
мат
KPR-H (с триплетным сенсибилизатором) 7-Ю-2 KOR 4-Ю-з
Так как рассчитанное значение Eg при условии квантового выхода сшивания, равного примерно 2 и чисто радикального пути структурирования составляет только 10~4 Дж/см2 [22], можно считать, что если радикальный процесс в поливинилциннаматах и имеет место, то его эффективность очень невелика.
В СССР и других странах выпускаются серии фоторезистов ФН-5ТК, KPR, KPR-H, Ш, IV, KPL, Waycoat 1С, FPR, TPR, OPR, SCR и проч., являющихся 10—20 %-ными растворами в органических растворителях поливинилциннаматов с ММ 100000— 200000, включающими сенсибилизатор. Другие добавки, как правило, не вводятся. В самом полимере допускается присутствие ацетатных групп, степень этерификации спирта 60—100 %. Негативные поливинилциннаматные фоторезисты очень стойки в агрессивных средах, обладают адгезией практически к любым подложкам, отличаются малой чувствительностью к уровню освещенности при экспонировании. Их разрешающая способность после травления в пределах 200—600 линий мм [23].
Отличительная черта поливинилциннаматных фоторезистов, в большой степени определяющая внимание к ним эксплуатационников, это — стабильность свойств [24] при длительном (более года) хранении как растворов, так и слоев, получаемых, например, на алюминии и меди. Как указывалось ранее, азидсодержа-Щие составы разрушаются при нанесении на медь, а диазосмолы реагируют с алюминием, поэтому хранение таких форм или печатных плат малоцелесообразно.
Фоторезисты на основе поливинилциннаматов, применявшиеся вначале в производстве полупроводниковых приборов поколения 50-х годов, перешли затем в производство печатных плат и полиграфических офсетных печатных форм. Трудности их удаления
6* 1§з
с подложек, относительно невысокая разрешающая способность заметно ослабили интерес к ним в последующие годы. Однако возможность их эффективного применения в двухслойных композициях, развившиеся способы плазмохимического удаления «за-дубленного» фоторельефа, а также новые композиции на основе циклодимеризующихся систем, созданные в последние годы, обусловливают устойчивый интерес к их использованию в небольших по объему специальных технологических процессах для изготовления как печатных плат, так и полупроводниковых приборов.
До сих пор интенсивно проводятся работы по увеличению сроков надежности поливинилциннаматов. Так, в а. с. СССР 732786 для повышения стабильности высокосветочувствительных фотоди-меризующихся составов рекомендуется использовать производные коричных эфиров поли-6-гидроксиэтилметакрилата следующей общей формулы
S-4000
сн3
Использование производных коричной и фурилакриловой кислот [пат. ФРГ 2230936] также предполагает увеличение срока хранения растворов и слоев до года без изменения их эксплуатационных характеристик. Синтезированы полимеры, входящие в состав материала для изготовления высокотиражных офсетных пластин [пат. США 3993684]:
Предыдущая << 1 .. 70 71 72 73 74 75 < 76 > 77 78 79 80 81 82 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама