Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 77

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 71 72 73 74 75 76 < 77 > 78 79 80 81 82 83 .. 139 >> Следующая

где R1 = замещенный или незамещенный алкилен, аралкилен, алкоксиалкилен или арилоксиалкилен; R2 = Ar или HetAr; R3, R4, R6 = Н, Hal, низший Alk; R6, R7 = Н, Hal, N02, низший Alk, Ar или Alkoxyl.
Такие полимеры позволяют при сохранении надежности повысить адгезию составов к подложкам и получить предварительно очувствленные офсетные печатные формы. Они отличаются механической прочностью и стойкостью к истиранию, тираж составляет от 200 тыс. до 1 млн. оттисков хорошего качества.
Механическая прочность полиграфических форм повышается при использовании в слое смеси полимера, способного к циклоди-меризации (I), насыщенного полимера (II) и сополимера 2,3-эпок-сипропилакрилата или -метакрилата с дикарбоновой кислотой (III)
164
[франц. пат. 2336707]:
О R4
где Ri = Н, СП3; R2 = Н, СНз, Ar, C6H,N3-n, Heteryl; R3, R«, R5 = H, Hal, CN, Ar, AlkO, ArO, AlkOCO; R6 = Alk, Ar, HetAr; Z = OH, COOA1R; n>l.
Было предложено включать гетероциклические фрагменты в фотодимеризующиеся полимеры для повышения кислотостойкости слоев фоторезистов. Так, разработан [пат. Великобритании 1363214] слой на основе полимера с ММ 5000—40000 (предпочтительно 10000—20000):
где R = Н, СН3; R' = Ar, HetAr.
Толщина слоя может составлять до 10 мкм. После проявления рельефа толуолом слой выдерживает травление 40 %-ным раствором FeCl3 при 40 °С в течение 30 с, при этом протравливается слой электролитической меди толщиной 50 мкм до подложки из ПЭТФ.
Высокочувствительные фоторезисты, не содержащие неорганических ионов и поэтому рекомендуемые специально для полупроводникового производства, были разработаны [заявка Японии 52—137256; пат. США 4310641] на основе полидиимидов:
A[_C6H3(R) C6H3NQC(0)ZArZC(0)N(Q)-]raC6H3(R")C6H3(R")A'
полученный взаимодействием — NCO с коричной кис-спиртом; R, R', R" = Н, Alk С, — Ct, Hai;
где А, А' = заместитель, лотой или коричным О
Z =
< <
N—; Q = Н или другие заместители.
О
Полученный рельеф обладает высокой химической и термической стойкостью и хорошими электроизоляционными свойствами.
165
Наибольшая разрешающая способность фотоциклодимеризую-щихся составов была достигнута в слоях на основе смесей сополимеров IV и V при соотношении IV : V = 71 : 29, что позволяет использовать их в производстве ИС и БИС [пат. США 4063953]:
v 'm>Ar IV v
Полимеры растворяют в кетонах, например 4-этокси-4-метил-2-пентаноне. Это дает возможность получать однородные тонкие пленки на подложке. При нанесении этого состава на хром после литографии были получены элементы размером 1—2 мкм при точной передаче абриса изображения и хорошей воспроизводимости ширины линии.
В фоторезистах, предназначенных для проекционной литографии (Я„акс экспонирования G-линии ртути 435,8 нм) в производстве ИС и БИС, рекомендуются в качестве полимерной основы [пат. США 4083725; пат. Великобритании 1450630] светочувствительные полимеры общей формулы:
° X
где R = О или углеводородная цепь, включающая О или S- R'= Н низший Alk; X, Y = Н, Hal, CN, N02; т = 1 н- 2.
В пат. США 4063953 приводится состав, отвечающий соотношению полимеров IV:V = 55:45. В такой состав можно вводить пигменты, стабилизаторы, пластификаторы.
Для стабилизации поливинилциннаматных фоторезистов при хранении рекомендуется использовать синергическую композицию ингибиторов сшивания [пат. США 4101396], состоящую из пространственно-затрудненных фенолов и органических фосфатов
-O^^R-^^1*) (АО) (А'0)(А"0)Р=0
ОН
где R' = Alkenyl С, - С3 R', R" = i-Alk С3 — С20, /-ArAIk С7 — С20, циклоал-кил С6 —С20; А, А', А" = радикалы С6-8.
Мольное соотношение фосфат: фенол составляет 1 : 1,6; оба вещества должны быть термически стабильными и нелетучими при 250—300 °С,
166
Для поливинилциннаматных композиций рекомендуют включать в составы обычных проявителей, содержащих неполярные или низкополярные растворители, тетрагидрофуриловый спирт или кето-спирт [заявка Японии 58—3538] либо лактамы [пат. Великобритании 1523877]:
л = 0 или 1-ь9; R=H, Alk; Alkenyl, Ar, ArAlk; R', R" = H, Alk, Ar
Изменяя поверхностное натяжение проявителя, эти добавки помогают выявлять мелкие детали фоторельефа, повышая таким образом разрешающую способность слоя. Для облегчения визуального контроля в проявитель можно вводить краситель, например Жирорастворимый красный (С. I. 152038).
В пат. США 4225661, 4133685; пат. Великобритании 1600213; франц. пат. 23907760, 2442862 предлагается использовать поливи-нилциннаматы в двухслойных композициях, например, в качестве наружных слоев покрытий формных печатных пластин в полиграфии. Так, в пат. США 4225661 высокочувствительную предварительно сенсибилизированную литографскую пластину получают на материале, состоящем из подложки, светочувствительной диазо-смолы и покрытия. Последнее является смесью поливинилцинна-мата или феноксициннамага, циннамоилзамещенного полиаллило-вого спирта, полигидроксиалкилакрилата и фотохромного соединения. Пластину гуммируют и получают низкотиражную форму, но с оптической плотностью фона, близкой к нулю.
Значительно больший тираж (до 100 тыс. оттисков вместо 35 тыс.) по сравнению с формами без дополнительного слоя был получен [пат. США 4133685] на формах офсетной печати, содержащих диазосмолу и верхний слой поливинилциннамата. Отмечается влияние степени циннамоилирования ПВС на прочность получаемого фоторельефа, для достижения наибольшей прочности желательно 100%-ное замещение. Другой вариант применения циннаматов в качестве верхних покровных слоев — нанесение их по несветочувствительному слою [пат. Великобритании 1600213; Франц, пат. 2442862, 2390760].
Предыдущая << 1 .. 71 72 73 74 75 76 < 77 > 78 79 80 81 82 83 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама