Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 79

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 73 74 75 76 77 78 < 79 > 80 81 82 83 84 85 .. 139 >> Следующая

* Светочувствительность определялась по сшиванию полимерного слоя при экспонировании ксеноновой лампой.
** Содержание сенсибилизатора 10% к массе полимера.
Полимерные слои, светочувствительность которых значительно выше, чем у поливинилциннаматных слоев, были созданы на основе сополимеров стирола с коричным альдегидом, коричной кислотой или этилциннаматом [27].
Для водно-щелочного проявления предлагаются слои [пат. ФРГ 2844902], обладающие значительной адгезией к различным металлам и стойкостью к кислотным травящим растворам. Пленкообразующей основой слоя служат сополимеры, содержащие цинна-моильные группы, общей формулы:
где r = ОН, Alk С, — С4, Ar, Alkoxyl С, — C«; r' = Hal, N02, CF3, Alk С, — Ct, Alkoxyl С, — C4; r" = H, Alk C, — C«; r"' = H, если p > 0, или H, CH3CO, QH5CO, если p = 0; m = 0 H- 3; r"" = Alkenyl, Arylen; n = 1 -7- 3; а = = 2~ 100 %(мол.); b = 0-h 50 %(мол.); c = 0-f-30 % (мол.); p = 0-=-70 % (мол.); v = Z0~ 100 %(мол.).
Композиции обладают хорошей стабильностью при хранении, добавка 0,01—5 % стабилизатора (аминонафталина, о-метилгидро-хинона, фенотиазина и др.) увеличивает их стабильность. Для повышения кислотостойкости вводят соли с катионами Zn2+, А13+, Mg2+, Са2+, Fe2+ или Fe3+. Проявителем служит 0,05%-ный раствор NaOH. При использовании этого фоторезиста легко достичь хорошей воспроизводимости растровых точек — высоколиниатурный растр воспроизводится практически полностью,
макс им
430 500
510 6
520 8
530 10
540 4
580 4
Проявляемые водой с добавкой ПАВ составы из смеси полимеров предложены для изготовления высокотиражных литографских печатных форм и качественных печатных плат [пат. ФРГ 2551222; пат. США 4264713]. Наносимая на подложку светочувствительная композиция содержит: А) конденсационный полиэфир двухосновной карбоновой кислоты (л-фенилендиакриловой, фума-ровой, адипиновой, малеиновой и др.) или ее хлорангидрида с многоатомными спиртами (гликолями, глицерином, пентаэритри-том, сорбитом, 1,4-циклогексанметанолом), ММ предпочтительно 1500—5000; эта часть состава фоторезиста характеризуется плохой способностью к проявлению как в органических растворителях, так и водно-щелочном растворе и обеспечивает малое набухание фоторельефа; Б) вторая же часть состава, напротив, легко растворима при проявлении — это полимеры с ММ от 2000 до 20 000, содержащие звено —СН = СН—СО в боковых цепях в количестве 1—30 ч. к массе полимера и имеющие следующие строения (VI—VIII)
VU1
где r = Н, Hai : Alk С, — С6; r' = (СН2)2, (СН2)3; r" = Ar с различными заместителями; r"' = Н, Alk С, — С6; / = 1 -т- 2; от = 1 ^ 4; п = 1 -н 6.
Полимер Б присутствует в количестве 10—1000 ч. (масс.) на 100 ч. (масс.) полимера А.
Для экспонирования ксеноновыми лампами в производстве печатных плат или офсетных форм светочувствительный полимер, содержащий циннамоильные группы, может быть получен на основе трех следующих олигомеров [пат. Великобритании 1572441; пат. США 4263394].
171
т
где R1 = Н, CN; R2 = H, Alk, Ar, Heteryl, R3 - R8 = H, Hal, CN, Alk, Ar, Alkoxyl, Aroxyl, ArAlk; R7 = Alk, Ar, замещенный Heteryl; Z, Z' = OH, Alkoxyl; m > 1.
У.2. ДРУГИЕ ЦИКЛОДИМЕРИЗУЮЩИЕСЯ ПОЛИМЕРНЫЕ СИСТЕМЫ
По типу фотохимической реакции поливинилциннамалиденаце-тат аналогичен полнвинилциннамату, однако его хромофорная группировка значительно более реакционноспособна, если судить по скорости [2 + 2] -циклодимеризации. Фотохимические свойства циннамалиденацетатной группы исследовались на примерах таких модельных соединений, как 1,4-бутандиолциниамалиденацетат(1) и циннамалиденуксусная кислота (II) [27]. При облучении I в растворе и пленке образуются циклобутановые кольца [28]. Квантовый выход, определенный по исчезновению двойных связей, оказался выше для реакции в твердом состоянии, чем в растворе; так, для II в таблетках КВг ф = 1,2, для пленки поливинилциннамали-денацетата ср = 0,48, поливинилциннамата (образец сравнения) Ф = 0,33; для I в растворах ф = 0,073, для поливинилциннамали-денацетата ф = 0,091 [27]. Эффективно использование триплетных сенсибилизаторов с ?г^175 кДж/моль, в частности Эозина и Эритрозина (?7=175,5 кДж/моль); содержание сенсибилизаторов от 0,01 до 20 % к массе полимера, предпочтительно 0,3—10 %.
Полимеры, производные циннамалиденуксусной кислоты, не находили долгое время широкого распространения из-за технологических трудностей их синтеза: плохой воспроизводимости при использовании гетерогенной среды, токсичности фосгенирования при получении промежуточных изоцианатов [пат. США 3257664, 3761280]. Это препятствие было устранено [пат. США 4065430] разработкой способа полимеризации мономерных эфиров, например
R = Н, СН3
Это сделало легкодоступной большую серию полимеров.
Составы поливинилциннамалиденацетатных фоторезистов рекомендованы для производства печатных плат на различных подложках. Образование рельефа возможно при варьировании толщины слоев от 0,2 до 8 мкм, что является технологическим достоинством этого типа фоторезистов. Проявителем может служить ДМФА. В композиции этих фоторезистов включают антиоксиданти (полиалкилфенолы, нафтолы, эфиры гидрохинона), пластификаторы и инертные несветочувствительные'полимеры (феноло-фор-мальдегидные смолы, целлюлозу, ПВП и т. д.) [пат. США 4065430]. Такие полимеры могут разносторонне влиять на эксплуатационные характеристики слоев: ускорять проявление, повышать стойкость к действию травителей, механическую прочность слоев.
Предыдущая << 1 .. 73 74 75 76 77 78 < 79 > 80 81 82 83 84 85 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама