Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 84

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 78 79 80 81 82 83 < 84 > 85 86 87 88 89 90 .. 139 >> Следующая

182
в течение 5 мин, а затем проявить, то получают негативное изображение. Возможно, что образовавшиеся при экспонировании фрагменты полиолефинсульфона структурируют НС при термолизе. Аналогичные спектральная картина и поведение полиолефинсуль-фонов в слоях наблюдались в композициях с бромированным по-ли-я-гидроксистиролом [18, 19] (см. также гл. II и VII).
Сополимеры замещенных в ароматическом ядре стиролов и S02 имеют полосы в спектре при 200—300 нм. Они светочувствительны за счет поглощения энергии ароматическими ядрами. При замене бензольных колец полициклами светочувствительность по-ливиниларенсульфонов повышается [18].
Предлагалось применять для целей микролитографии поли-ацетиленсульфоны [—CH=CR—S02—]« (где R=Alk Ci—Ci2, предпочтительно C6, С7, циклоалкил, Ar, Aralk, Hetar) с ММ от 50 000 до 500 000 и более [пат. США 4262073]. Микронные слои этих полимеров при УФ-экспонировании и проявлении дают хорошо разрешенные рельефы.
При сополимеризации 5-гексен-2-она и S02 получен во много раз более светочувствительный, термически стабильный до 120°С пленкообразующий полимер с полосой поглощения при 200 нм, перегибом полосы при 280 нм и заметным поглощением до 350 нм:
На 5Ю2/51 с помощью этого позитивного резиста, сенсибилизированного бензофеноном, проведена фотолитография и травление подложки; размеры полученных элементов составляют 10 мкм. Механизм фотораспада полимера наряду с тривиальным радикальным распадом связи С—502 может включать как первые стадии фотоокисление по связи — С—Н, фотоотрыв у-водорода карбо-
/
нилом цепи или карбонилом бензофенона и другие реакции, которые, несомненно, требуют изучения [20]. Система НС -{- нафто-хинондиазид не подходит для глубокого УФ-света, так НС и замещенная инденкарбоновая кислота поглощают интенсивно до 300 нм и поэтому для разложения о-нафтохинондиазида в слое нужна слишком большая экспозиция, что приводит к переэкспонированию наружных частей и размыванию рельефа при проявлении. Рельеф, полученный из НС, очувствленной хинондиазидом, может непосредственно служить маской при экспонировании ПММА [пат. США 4211834]. Однако при экспонировании эксимерным лазером (ХеС1, X = 308 нм; КгР, X — 248 нм) снимаются жесткие требования к фоторезисту по светочувствительности и становится возможным использование обычных резистов типа НС + нафто-хинондиазид; эта техника представляет практический интерес [21], Кислота Мельдрума имеет полосу поглощения (максимум при
183
~248 нм), которая отвечает эмиссии ртутных ламп низкого давления и Хе—Н^-ламп; кроме того, эта полоса попадает в минимум адсорбции НС при 250 нм, а продукты фотолиза кислоты Мель-друма весьма летучи. Очевидно, это соединение или его гомологи могло бы быть идеальным светочувствительным компонентом позитивного резиста в смеси с НС, отличающимся стойкостью к травлению из-за наличия ароматических колец [пат. США 4339522]:
О
*¦ 3 СО + + н
К сожалению, кислота Мельдрума и ее производные с алкиль-ными и арильными заместителями, а также димерные продукты очень легко возгоняются из готового микронного слоя резиста, что исключает возможность термообработки слоя, а это валено для создания адгезионнопрочных слоев НС [22].
После фотолиза кислоты Мельдрума в слое не удалось обнаружить продукта гидратации кетена — 4-карбоновой кислоты соответствующего 1,3-диоксолона, хотя растворимость НС в экспонированных местах возросла. Очевидно, в соответствии с предположением Дилла и сотрудников [23], повышение растворимости НС является результатом не гидрофилизации слоя за счет карбоксильной функции, а элиминирования гидрофобного ингибитора растворения — хинондиазида.
Еще в 1966 г. Дельзен и Ларидон наблюдали, что слой, состоящий из близких массовых количеств НС и содержащего орто-нитрогруппу фенилсульфинилкарбоксилата в местах экспонирования приобретает способность растворяться в водно-спиртовом растворе щелочи [пат. Великобритании 1158843]. Очевидно, это соединение аналогично кислоте Мельдрума, нафтохинондиазидам и другим рассмотренным выше веществам (см. гл. II) ингибирует растворение НС в щелочи, а после фотохимической перегруппировки и гидролиза, когда образуются замещенная о-нитрофенил-сульфиновая кислота и соответствующая карбоновая кислота, это ингибирование снимается.
БОСО!? 502Н
1^ /N02 , X /N0
Г П ->¦ [ Т +ноося
где И = А1к С, — С4, Аг, Ага1к; И = Н, 1Ч02.
Вилкинс с сотрудниками использовали вместо НС более прозрачный сополимер метилмечакрилата с метилакрилатом (7,5:2,5
А1НА1И
А1кАШ
+ N.
по массе Ми, « 6,7-104). Ингибиторами его растворения в Щелочи служили эфиры о-нитробензилового спирта и карбоновых кислот — производных углеводородов с большим числом атомов углерода: адамантана, флуорена, декана и др.; замещенных холиевой кислоты. Наилучшими свойствами обладал эфир холиевой кислоты. По мнению авторов, для проявления ингибирующего эффекта существенен объем молекулы эфира, его гидрофильность. Наилучший ингибитор должен иметь большой молекулярный объем, быть несколько поляризованным для лучшего совмещения с полимером; кислоты, образующиеся при его фотолизе, должны быть хорошо растворимы в проявителе [12, 24, 25]. Под действием света Хе—Н§-лампы (260 ± 20 нм) у нитроэфира внутримолекулярно протекает редокс-процесс, образуются в итоге о-нитрозобензальде-гид и холиевая кислота (см. раздел П. 2.2). Эти компоненты не препятствуют растворению метилметакрилата с метилакрилатом в слабой щелочи в отличие от исходной системы, что и обеспечивает проявление (рН « 9,0) микрорельефа после экспонирования. Концентрация нитробензилового эфира влияет на светочувствительность системы, контрастность рельефа после проявления; ее выбирают в пределах 20 %. Перед экспонированием проводят термолиз при 165 °С, и, хотя его роль не ясна, он резко улучшает контрастность. Резист отличается хорошей светочувствительностью (~0,1 Дж/см2) при толщине слоя 1 мкм, прекрасной контрастностью, высоким разрешением; рельеф лучше выдерживает сухое травление, чем ПММА [заявка Великобритании 2099168].
Предыдущая << 1 .. 78 79 80 81 82 83 < 84 > 85 86 87 88 89 90 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама