Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 9

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 3 4 5 6 7 8 < 9 > 10 11 12 13 14 15 .. 139 >> Следующая

17
устройство фирмы Licon Corp., США). Слои резиста толщиной свыше 0,5 мкм можно наносить валиком (система фирмы Gyhex Corp., США). Производительность этих устройств выше, чем центрифугирования, так как процесс протекает автоматически на движущейся ленте. Они используются в основном в производстве схем с толстопленочной технологией, их преимуществом является низкий расход резиста. Нанесение слоя резиста на офсетные пластины производится при помощи центрифугирования, пульверизации или рифленых вальцев.
Толщина слоя резиста при нанесении окунанием определяется вязкостью раствора и скоростью извлечения из него подложки (рис. 1.1). Повышение скорости извлечения подложки вплоть до критического значения vKp, выше которого к изменения в толщине пленки резиста очень
малы, ведет к росту толщины пленки резиста [4]. Для 5%-ного раствора резиста при вязкости 20 мПа-с скорость извлечения подложки
Рис. 1.1. Зависимость толщины слоя резиста d от скорости извлечения подложки из раствора резиста v (окр — критическая
U" ?~ ^Г" скорость).
составляет 0,1—0,5 мм/с [9]. Этот метод может быть использован и для получения однородных пленок для микроэлектроники [9]. Контроль толщины слоя можно проводить визуально с погрешностью около 0,1 мкм при толщине до 1 мкм. На хроме или кремнии интерференционный цвет соответствует следующей толщине слоя, мкм:
Коричневый 0,1 Фиолетовый 0,5
Синий 0,2 Зеленый 0,6—0,7
Желтый 0,3 Красный 0,8
Золотисто-жел- 0,4 тый
Свойства растворов высокомолекулярных веществ, используемых в качестве резистов, зависят от природы растворителя и полимера, причем последний определяет и возможность пленкообразования. Склонные к кристаллизации полимеры в отличие от аморфных всегда образуют структурно-неоднородные пленки. Размеры макромолекул в растворе и твердой аморфной фазе определяются размерами полимерного клубка, который характеризуется среднеквадратичным расстоянием между концами макромолекулы или инерционным радиусом клубка. В термодинамически эффективных («хороших») растворителях клубок имеет больший размер, так как взаимодействие растворитель — клубок, характеризуемое параметром взаимодействия %, ведет к разбуханию клубка. В «плохих» растворителях (% меньше) объем клубка уменьшается и приближается к объему клубка в так называемых 6-растворителях или в твердой аморфной фазе. При дальнейшем снижении параметра взаимодействия % полимер становится нерастворимым (см. разд. 1.1.5). Следовательно, выбор растворителя так же как и
18
способа нанесения раствора на подложку, влияет на конечные свойства слоя фоторезиста. Если в процессе центрифугирования полимер осаждается, то образуется неоднородная пленка с высокой пористостью и низкой разрешающей способностью. Растворитель должен быть выбран так, чтобы полимер оставался в растворе в течение всего времени центрифугирования.
Важным параметром является летучесть растворителя. Подходящие комбинации полимер — растворитель наряду с параметрами взаимодействия % можно найти в обобщающих публикациях [10]. Быстрое испарение растворителя приводит к быстрому росту вязкости и образованию неоднородной пленки по всей площади подложки. Слаболетучие растворители испаряются слишком долго, что повышает вероятность налипания частиц загрязнений на поверхность пленки и возникновения пористости. В ряде случаев удобно использовать комбинацию разных растворителей для достижения оптимальных свойств пленки.
Гидродинамические свойства полимерных резистов также являются функцией взаимодействия полимер — растворитель. Подходящей характеристикой является так называемая характеристическая вязкость (или предельное число вязкости) [т)], которая определяется экстраполяцией отношения приведенной вязкости к концентрации полимера в растворе к нулевой концентрации. Величина [г]] является мерой гидродинамического объема полимерного клубка (см3/г), а ее взаимосвязь с ММ определяется уравнением Марка — Хувинка:
[г,] = кма
где К и а — экспериментально определяемые константы.
Из сказанного выше следует, что толщина полимерной пленки при прочих равных условиях является функцией ММ полимера и параметра взаимодействия % растворитель — полимер. Экспериментально было показано [11], что толщина пленки а" при постоянной концентрации полимера в растворе и его постоянной ММ является функцией частоты вращения центрифуги со:
й = Ыь (1.1)
где к и Ь — константы, причем 6 — тангенс угла наклона зависимости в логарифмических координатах.
При постоянной частоте вращения толщину слоя резиста й и концентрацию полимера С связывает соотношение (1.2):
й = к'& (1.2)
где к.' и Р — константы.
Подобное соотношение можно получить для зависимости толщины слоя резиста от [г\] при постоянной частоте вращения:
с! = к" [ц]у (I. з)
где к" и у — константы.
Комбинацией уравнений (1.1), (1.2) и (1.3) получаем эмпирическое соотношение (1.4) между ММ полимера, выраженной через
19
[г)], концентрацией раствора С, частотой вращения центрифуги со и толщиной слоя резиста с1:
с1 = К'С^[ц]л/(й-ь (1.4)
Предыдущая << 1 .. 3 4 5 6 7 8 < 9 > 10 11 12 13 14 15 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама