Главное меню
Главная О сайте Добавить материалы на сайт Поиск по сайту Карта книг Карта сайта
Книги
Аналитическая химия Ароматерапия Биотехнология Биохимия Высокомолекулярная химия Геохимия Гидрохимия Древесина и продукты ее переработки Другое Журналы История химии Каталитическая химия Квантовая химия Лабораторная техника Лекарственные средства Металлургия Молекулярная химия Неорганическая химия Органическая химия Органические синтезы Парфюмерия Пищевые производства Промышленные производства Резиновое и каучуковое производство Синтез органики Справочники Токсикология Фармацевтика Физическая химия Химия материалов Хроматография Экологическая химия Эксперементальная химия Электрохимия Энергетическая химия
Новые книги
Сидельковская Ф.П. "Химия N-вннилпирролидона и его полимеров" ()

Райт П. "Полиуретановые эластомеры" (Высокомолекулярная химия)

Сеидов Н.М. "Новые синтетические каучуки на основе этилена и олефинов" (Высокомолекулярная химия)

Поляков А.В "Полиэтилен высокого давления. Научно-технические основы промышленного синтеза" (Высокомолекулярная химия)

Попова Л.А. "Производство карбамидного утеплителя заливочного типа" (Высокомолекулярная химия)
Книги по химии
booksonchemistry.com -> Добавить материалы на сайт -> Высокомолекулярная химия -> Беднарж Б. -> "Светочувствительные полимерные материалы" -> 91

Светочувствительные полимерные материалы - Беднарж Б.

Беднарж Б., Ельцов А.В., Заковал Я., Краличек Я., Юрре Т.А. Светочувствительные полимерные материалы — Л.: Химия, 1985. — 296 c.
Скачать (прямая ссылка): photopolimers.djvu
Предыдущая << 1 .. 85 86 87 88 89 90 < 91 > 92 93 94 95 96 97 .. 139 >> Следующая

Для селективного легирования подложки бором предлагают [а. с. СССР 544932] вводить в слой негативного азидсодержащего фоторезиста полиэфиркарборанадипинат при следующем соотношении компонентов, % (масс):
Полиэфиркарборанадипинат 0,4—10,5
Эпоксидированнын циклокаучук 3,5—6,4
2,6-Бис(4-азидобензилиден)-4-метилциклогексанои 0,64—0,7
Растворитель До 100
Из таких составов получают пленки, имеющие следующие характеристики интегральной светочувствительности при облучении лампой ДРШ-250 на расстоянии 25 см:
Пороговая светочувствительность, 23
см2/(Вт-с)
Коэффициент контрастности 1,09
Фоторезист наносят на центрифуге на пластины п-Б! с р = = 50 Ом-см, экспонируют и проводят диффузию на воздухе при 1300 °С. В результате диффузии был получен р—я-переход, имеющий вольт-амперную характеристику, близкую к теоретической, и большое время жизни при поверхностной концентрации от 1018
199
до 1020 атом/см3. Имеется возможность плавного регулирования поверхностной концентрации путем изменения концентрации диф-фузанта (полиэфиркарборанадипината) в фоторезисте. На основе фоторезистов-диффузантов удалось получить новые типы модуляторных тиристоров и диодов с достаточно высокими характеристиками [53].
В 1980 г. появилось сообщение о литографии и диффузии из фоторезистов, содержащих металлорганические соединения Си, Ва, "Л, Бт, Ей или смеси этих соединений [54].
Разрешение структур не только на поверхности, но и в объеме полупроводниковых пластин достаточно велико. Так, для прецизионной электронолитографии с субмикронными размерами элементов рельефа были разработаны типы электронорезистов, включающих элементорганические соединения с легирующими атомами (яп. заявка 49-34018, 49-34019). Вакуумный электронорезист для полностью сухой литографии [а. с. СССР 1056123] разработан на основе силсесквиоксанов ^Р^в-хБЬлАг (где Рх = СН = СН2; х = 0,5—1), его разрешающая способность 104 линий/мм, электронная чувствительность 5-Ю-6 Кл/см2, при отжиге в диффузионной печи (30 мин, 400 °С) глубина диффузии атомов сурьмы составляет 1 мкм.
VI. 5. СИСТЕМЫ С ПЕРЕНОСОМ РЕЛЬЕФНОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ
Способ «переноса изображения» позволяет при применении фоторезистных композиций получать рельефное изображение на слое подложки и одновременно на верхнем прозрачном покровном слое. Светочувствительный слой является промежуточным между несущим и принимающим слоями. В настоящее время предлагается ряд светочувствительных композиций, содержащих обычный набор очувствителей — сшивающих агентов или сенсибилизаторов и специально выбранные пленкообразующие. В результате различных химических реакций промежуточный слой после экспонирования обретает способность к дифференцированному расслаиванию облученных и необлученных участков, что позволяет получать одновременно негативную и позитивную копии изображения. Такие светочувствительные системы предлагаются для изготовления офсетных печатных и шелкографических форм, одновременной передачи инженерных рисунков в рабочей (позитивной) и контрольной (негативной) копиях. Основным преимуществом способа является упрощение технологии получения фоторельефа за счет отказа от проявления в ванне с жидкими составами. Однако, подобный перенос изображения должен снижать разрешающую способность слоев, достигнутую в обычно используемых светочувствительных системах, поэтому в разработках последних лет выбор всех материалов и режимов проведения процесса с переносом рельефного изображения направлен на создание прежде всего высокоразрешенных систем.
200
Рельефное изображение, используемое в качестве печатной формы, получают сухим проявлением с контрольным переносом изображения [заявка Великобритании 2026709]. При этом экспонированный светочувствительный материал (рис. VI. 2), состоящий из жесткой подложки 1 с нанесенным слоем фоторезиста 2, приводят в контакт, пропуская между печатными валиками 4, с бумагой или полимерной пленкой 3. Для того чтобы неэкспонированные участки слоя перешли на контактный лист, используют жидкие активаторы 5, которые можно наносить либо на слой светочувствительного материала после его экспонирования (рис. VI. 2, а), либо на конкретный лист (рис. VI. 2, б), либо, что
6 в
Рис. VI. 2. Материал для получения рельефа путем проявления с переносом изображения!
/ — подложка; 2 — слой фоторезиста (экспонированные и неэкспонированные участки); Я — контактный лист; 4 — печатный валик; 5 — активатор.
предпочтительнее, подавать на валик в момент переноса изображения (рис. VI. 2, в). Подложкой могут служить различные материалы: полимерные пленки, металлические листы, стекло, халько-генидные покрытия; толщина подложки может варьироваться от 10 мкм до 1 см.
Выбор светочувствительных компонентов для этого материала чрезвычайно широк. Практически к использованию предлагаются любые светочувствительные системы: хинондиазиды; соли диазо-ния; азиды; композиции, генерирующие при фотолизе радикалы, например, содержащие полигалогениды СНС13; СВг4, СВгзБОгСбНв с дифениламином или нафтолом; композиции хинонов с комплексами теллура или кобальта; коллоиды, очувствленные бихро-матами; поливинилциннаматы. В них дополнительно могут быть включены стабилизаторы, увеличивающие срок хранения, красители или промоторы сухого проявления. В качестве полимерных связующих для этих композиций рекомендуются феноло-формаль-дегидные смолы, ПВБ, поливинилформаль, ПС, полиакриловая кислота, ПММА, ПВА, сополимеры винилиденхлорида, акрило-нитрила, винилацетата с малеиновым ангидридом, водорастворимые полимеры — желатина, ПВП, ПВС. Термореактивные полимеры, например эпоксидные смолы, могут быть введены в некотором количестве в термопластичное связующее, но при этом необходимо соблюдать осторожность при нагревании светочувствительного материала. Толщина светочувствительного слоя может быть от 0,5 до 500 мкм, предпочтительно 20—100 мкм. В качестве материала листа, принимающего переносимое изображение, могут быть использованы полиамиды, сополимеры винилиденхлорида, бумага, ламинированная полиэтиленом или полипропиленом. Этот лист
Предыдущая << 1 .. 85 86 87 88 89 90 < 91 > 92 93 94 95 96 97 .. 139 >> Следующая

Авторские права © 2011 BooksOnChemistry. Все права защищены.
Реклама